JPH0157160B2 - - Google Patents

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JPH0157160B2
JPH0157160B2 JP57060306A JP6030682A JPH0157160B2 JP H0157160 B2 JPH0157160 B2 JP H0157160B2 JP 57060306 A JP57060306 A JP 57060306A JP 6030682 A JP6030682 A JP 6030682A JP H0157160 B2 JPH0157160 B2 JP H0157160B2
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JP
Japan
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carbon atoms
integer
surfactant according
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JP57060306A
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Yutaka Hashimoto
Masayuki Kamei
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DIC Corp
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Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式 (但し、式中のRf、Z、Q1、Q2、Q3、A、M1
M2およびXについては後述する。)にて表わされ
る新規なスルホベタイン型両性界面活性剤に関す
る。 両性界面活性剤はイオン性を異にした他種の界
面活性剤との相容性に優れていることから汎用性
のある界面活性剤として近年注目を集めている。 含フツ素脂肪族基を含有した両性界面活性剤
は、水溶液の表面張力低下能、起泡性などの界面
活性特性において、炭化水素アルキル基を含有し
た両性界面活性剤よりも格段に優れていることが
知られ、高価格という経済的デメリツトをもつに
もかかわらず、種々の用途への応用がはかられつ
つある。 しかしながら、従来の含フツ素両性界面活性
剤、例えばC3F17SO2NH(CH23N
(CH32CH2COO で表わされるベタイン型両性
活性剤は、PH5〜8の領域において水への溶解性
が低下し、従つて表面張力低下能、起泡性などの
界面活性特性が著しく劣化する重大な欠点を有し
ている。 本発明者等は前記の観点から鋭意研究を行すつ
結果、一般式(1)にて表わされる含フツ素スルホベ
タイン型両性界面活性剤が種々の界面活性特性に
おいて、例えば表面張力低下能、起泡性、耐硬水
性、あるいは溶解性などにおいて公知のベタイン
型両性界面活性剤よりも予想を越えて優れている
ことを発見し、本発明を完成するに至つたもので
ある。 本発明によれば前記の一般式(1)即ち で表わされる含フツ素スルホベタイン型両性界面
活性剤が提供される。 一般式(1)におけるRfは、炭素数3〜20のフツ
素化脂肪族基を含む基であり、その様なもののう
ち好ましいものの例としては、パーフロロアルキ
ル基もしくはパーフロロアルケニル基であり、直
鎖状、分岐状、環状(例えばシクロヘキシルのよ
うな基)またはそれらを組合わせたもののいずれ
でもよく、更に主鎖中に酸素原子または窒素原子
の介入したもの、例えば(CF32CFOCF2CF2−、
(C6F132NCF2CF2−などでもよい。 Zは、スルホアミド基またはカルボアミド基を
含む2価の連結基で−SO2NR1−、−CRNR1−、
−(CH2)lSO2NR1−、−(CH2)lCONR1−、
【式】
【式】{但し、R1は水素原 子、炭素数1〜18のハイドロカルビル基、または
ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基により置換さ
れたハイドロカルビル基(例えば−
CH2CH2OH、−(CH23OCH3のような基)、lは
1〜6の整数を表わす。}のような基が好ましい。 Q1は、炭素数1〜12好ましくは2〜12の2価
の脂肪族基、ヒドロキシ基により置換された脂肪
族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはこれらを
組合わせたもので、−(CH2)m−(但しmは2〜
12の整数を表わす。)、−(CH2)m1−O−(CH2
m2−(但し、m1、m2は1〜6の整数を表わす。)、
−CH2CH(OH)CH2−、または
【式】等の基が好ましい。 Rは水素原子、炭素数1〜12のハイドロカルビ
ル基、または−(CH2CH2O)iH、−(CH2CH
(CH3)O)iH(但し、iは1〜20の整数を表わ
す。)である。 Q2およびQ3は、炭素数1〜12の2価の脂肪族
基、ヒドロキシ基により置換された脂肪族炭化水
素基、芳香族炭化水素基またはこれらを組合わせ
たもので、−(CH2)n−(但し、nは1〜12の整
数を表わす。)、−CH2CH(OH)CH2−、または
【式】等の基が好ましい。 Aは、陰イオン性原子団で−SO3 -、−COO-、−
OSO3 -、または
【式】である。 M1およびM2は、水素原子または無機もしくは
有機のカチオンであり、Li+、Na+、K+、Ca2+
Mg2+、〔N(H)p(R2)q〕+(但し、R2は炭素数
1〜4のアルキル基またはヒドロキシエチル基、
pおよびqは0〜4の整数でp+q=4を満たす
ものを表わす。)または
【式】のよう なカチオンが好ましい。 Xは無機または有機のアニオンであり、OH-
Cl-、Br-、I-、ClO4 -、SO4 2-、CH3SO4 -
NO3 -、CH3COO-、またはリン酸基のような基
が好ましい。 本発明の含フツ素スルホベタイン型両性界面活
性剤の具体的例として次の如きものが挙げられ
る。 C8F17SO2H(CH23 N (CH3)〔(CH23SO3Na〕2Cl C8F17SO2 H N(CH23 N (CH2CH2OH)〔(CH23SO3Na〕〔CH2COONa〕Br C6F13SO2 H N(CH26 N (C2H5)〔CH2CH(OH)CH2SO3Na〕2I C7F15COCH3 N(CH23O(CH23 N 〔(CH22SO3K〕〔(CH22OSO3K〕Cl (C6F132NCF2CF2COH N(CH23 N (CH3)〔(CH23SO3Na〕〔CH2COONa〕Cl C8F17CH2COC2H5 N(CH22 N (CH3〔(CH23SO3Na〕〔(CH22OSO3Na〕Cl 本発明の含フツ素スルホベタイン型両性界面活
性剤は、次の製造方法により高収率かつ経済的に
製造することができる。 まず通常容易に入手される反応性のパーフロロ
アルキルスルホン酸、パーフロロアルキルカルボ
ン酸、それらの酸ハライドもしくはエステル、
Rf(CH2CH2)iSO2X′、
【式】または
【式】(但し、X′はハロゲン 原子を表わす。)を出発原料とし、これと式H
(R1)NQ1NHRで表わされるジアミンを反応さ
せて得られる含フツ素アミノ化合物RfZQ1NHR
を、好ましくはアルカリ存在下でYQ2SO3M1
アルカンサルトン、Y1Q3AM2、ラクトンと反応
させることにより一般式(1)にて示される含フツ素
スルホベタイン型両性界面活性剤を製造すること
ができる。 中間体である含フツ素アミノ化合物
RfZQ1NHRは、公知の他の方法を用いても製造
することができる。 例えばRfZHにて表わされる酸アミドを
NaOCH3あるいはNaHによりNa塩とし、エピク
ロルヒドリンを作用させて含フツ素エポキサイド
【式】を製造する。次に、これに アミンH2NRを反応させ、目的とする中間体化合
物含フツ素アミノ化合物RfZCH2CH(OH)
CH2NHRが製造される。 次の表−1は本発明に係る含フツ素スルホベタ
イン型両性界面活性剤水溶液の発泡性および表面
張力をまとめたものである。
【表】
【表】 本発明者等の知見によれば、本発明の界面活性
剤はPH変化に対して安定で、酸性、中性、塩基性
いづれのPH領域でも界面活性を減じない性質をも
つことが見出された。この特性は実用上極めて有
用である。 さらに本発明の化合物はカルシウムイオン安定
性が良好で、耐海水性に極めて優れていることが
見出された。改良Hardt法によりCa2+安定性を調
べると、本発明に係る界面活性剤は、PH8.0にお
いて硬度5000ppm(CaCO3換算)以上においても
完全に溶解した溶液を形成している。それに対し
公知のベタイン型界面活性剤、例えば C6F13SO2NH(CH23 N (CH32CH2COO は1300ppmで相分離を始め界面活性を失う。 以上の点から明らかな様に、本発明の含フツ素
スルホベタイン型両性界面活性剤は、海水溶液で
の起泡性、泡安定性に優れていること、表面張力
低下能力に優れていること、耐硬水性、PHに対す
る安定性に優れていること等の界面活性特性を利
用して、泡沫消火剤、水成膜形成性油火災用消火
剤、起泡剤、洗浄剤、湿潤剤への応用に特に適し
ている。またレベリング剤、塗料添加剤、防汚
剤、撥油剤、プラスチツク添加剤、帯電防止剤、
離型剤等への応用にも好適である。 次に本発明をさらに具体的に説明するため実施
例を示す。 実施例 1 冷却用コンデンサー及び撹拌器を備えた2の
3つ口丸底フラスコに、N−メチル−1,3−ジ
アミノプロパン264g(3.0モル)と充分に脱水し
たイソプロピルエーテル400gを窒素雰囲気下で
秤取し、充分に撹拌しながな室温でパーフロロヘ
キシルスルホニルフロリド422g(1.05モル)を
滴下した。50℃で3時間撹拌した後、イソプロピ
ルエーテルを減圧下で除去した。黄色固体残査を
エタノール500mlに溶解し、それを撹拌下で蒸留
水8に徐々に注いで結晶を熟成させた。 上澄液をデカンテーシヨンで除き、さらに毎回
5の蒸留水を用いてデカンテーシヨンを3回行
つた。結晶をろ取し、水分を充分に除いた上で、
酢酸エチル1で洗浄し、70℃で減圧乾燥した。
微黄色結晶440g mp=171.0−172.0℃
【表】 IRスペクトル 1370cm-1(−SO2N νas) NMRスペクトル(CD3OD溶媒、TMS基準) 1.80ppm(m、2H)、2.65ppm(s、3H) 3.05ppm(t、2H)、3.26ppm(t、2H) 冷却用コンデンサー及び撹拌器を備えた500ml
の4つ口丸底フラスコに、N−(3−メチルアミ
ノプロピル)パーフロロヘキシルスルホンアミド
30g(0.064モル)とイソプロピルアルコール180
gを秤取し、加熱溶解した。3−クロルプロパン
スルホン酸ソーダ13.9g(0.077モル)を溶解し
た水溶液50mlと水酸化ナトリウム3.1g(0.077モ
ル)を溶解した水溶液50mlを、80℃で撹拌しなが
ら同時に滴下した。滴下終了後、80−90℃で10時
間還流した。イソプロピルアルコール及び水を減
圧下で留去し、オイル状残渣を80℃で熱風乾燥
し、エタノールから再結晶して精製した。収量28
g。
【表】 IRスペクトル 1370cm-1 (−SO2N νas) 1085cm-1 (−SO3Na νs) NMRスペクトル(D2O溶媒、DSS基準) 1.80ppm(m、2H)、2.10ppm(m、2H) 2.60ppm(t、3H)、2.98ppm(m、4H) 3.08ppm(m、4H) 冷却用コンデンサー及び撹拌器を備えた300ml
の丸底フラスコに、前記の化合物 27.7g(0.045モル)、3−クロルプロパンスルホ
ン酸ソーダ18.1g(0.1モル)、NaI15g(0.1モ
ル)、イソプロピルアルコール70ml、そして蒸留
水30mlを秤取し、90℃で10時間還流した。イソプ
ロピルアルコールと水を留去し、残渣を水/エタ
ノール混合溶媒から2回再結晶した。収量25.3
g、
【表】 NMRスペクトル(D2O溶媒、DSS基準) 1.70ppm(m、2H)、2.15ppm(m、4H) 3.00ppm(m、6H)、3.10ppm(s、3H) 3.50ppm(m、6H) 実施例 2 冷却用コンデンサー及び撹拌器を備えた500ml
の4つ口丸底フラスコに、N−(3−メチルアミ
ノプロピル)パーフロロヘキシルスルホンアミド
31g(0.066モル)とイソプロピルアルコール100
gを秤取し、加熱溶解した。モノクロル酢酸ソー
ダ9.2g(0.08モル)の水溶液30mlと水酸化ナト
リウム3.0g(0.08モル)の水溶液30mlを、80℃、
撹拌下で同時に滴下した。90℃で9時間還流した
後、イソプロピルアルコール及び水を減圧下で留
去した。黄色固体残渣を60℃で減圧乾燥し、エタ
ノールから再結晶して精製した。収量31g。
【表】 IRスペクトル 1590cm-1 (−COO ) 1370cm-1 (−SO2N νas) NMRスペクトル(D2O溶媒、DSS基準) 1.81ppm(m、2H)、3.00ppm(s、3H) 3.10ppm(t、2H)、3.30ppm(t、2H) 4.18ppm(s、2H) 冷却用コンデンサー及び撹拌器を備えた300ml
の丸底フラスコに、前記の化合物 29.7g(0.054モル)、2−ヒドロキシ−3−クロ
ルプロパンスルホン酸ソーダ21.2g(0.108モ
ル)、NaI16.2g(0.108モル)、イソプロピルエー
テル70ml、そして蒸留水40mlを秤取し、90℃で10
時間還流した。イソプロピルエーテルと水を留去
し、残渣を水/エタノールから再結晶した。収量
23.6g、
【表】 NMRスペクトル(D2O溶媒、DSS基準) 1.88ppm(m、2H)、3.02ppm(s、3H) 3.12ppm(m、4H)、3.30ppm(t、2H) 3.50ppm(d、2H)、4.18ppm(s、2H) 4.23ppm(m、1H) 実施例 3 冷却用コンデンサー及び撹拌器を備えた500ml
の4つ口丸底フラスコに、N−(2−ヒドロキシ
−3−メチルアミノプロピル)パーフロロオクチ
ルスルホンアミド30g(0.051モル)とイソプロ
ピルアルコール100gを秤取し、80℃で激しく撹
拌しながら、2−ヒドロキシ−3−クロルプロパ
ンスルホン酸ソーダ30.2g(0.153モル)の水溶
液60mlとNaOH6.1g(0.153モル)の水溶液60ml
を、1時間を要して同時滴下した。滴下終了後、
10時間90℃で撹拌し、イソプロピルアルコールと
水を留去した。残渣を水/エタノール混合溶媒か
ら再結晶し、精製した。
【表】 NMRスペクトル(D2O溶媒、DSS基準) 3.11ppm(s、3H)、3.20ppm(m、6H) 3.60ppm(m、6H)、4.10ppm(m、2H) 4.23ppm(m、1H) 実施例 4〜8 表−2に記載の本発明界面活性剤を合成し、
0.1%水溶液の起泡性及び表面張力を測定した。
測定法は表−1記載と同様とした。また0.1%水
溶液の溶解性を目視で観察しその状態を記載し
た。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中Rfは、炭素数3〜20のフツ素化脂肪族基
    を含む基であり、Zは、スルホアミド基またはカ
    ルボアミド基を含む2価の連結基であり、Q1
    Q2およびQ3は、炭素数1〜12の2価の脂肪族基、
    ヒドロキシ基により置換された脂肪族炭化水素
    基、芳香族炭化水素基またはこれらを組合わせた
    ものであり、 Rは、水素原子、炭素数1〜12のハイドロカル
    ビル基、または−(CH2CH2O)iH、−(CH2CH
    (CH3)O)iH(但し、iは1〜20の整数を表わ
    す。)であり、 Aは、陰イオン性原子団で−SO3 -、−COO-、−
    OSO3 -または【式】であり、 M1およびM2は、水素原子または無酸もしくは
    有機のカチオンであり、 Xは、無機または有機のアニオンである。〕 で表わされる含フツ素スルホベタイン型両性界面
    活性剤。 2 Rfが炭素数3〜20のパーフロロアルキル基
    またはパーフロロアルケニル基である特許請求の
    範囲第1項記載の界面活性剤。 3 Zが−SO2NR1−、−CONR1−、−(CH2
    lSO2NR1−、−(CH2)lCONR1−、
    【式】または 【式】(但し、R1は水素原 子、炭素数1〜18のハイドロカルビル基またはヒ
    ドロキシ基もしくはアルコキシ基により置換され
    たハイドロカルビル基、lは1〜6の整数を表わ
    す。)である特許請求の範囲第1または2項記載
    の界面活性剤。 4 Q1が−(CH2)m−(但しmは2〜12の整数
    を表わす。)−(CH2)m1−O−(CH2)m2−(但し
    m1、m2は1〜6の整数を表わす。)、−CH2CH
    (OH)CH2−または【式】 である特許請求の範囲第1、2または3項記載の
    界面活性剤。 5 Q2およびQ3が−(CH2)n−(但しnは1〜
    12の整数を表わす。)、−CH2CH(OH)CH2−ま
    たは【式】である特許請求の範囲 第1、2、3または4項記載の界面活性剤。 6 M1およびM2がLi+、Na+、K+、Ca2+
    Mg2+、〔N(H)p(R2)q〕+(但し、R2は炭素数
    1〜4のアルキル基またはヒドロキシエチル基、
    p、qは0〜4の整数でp+q=4を満たすもの
    を表わす。)または【式】である特許 請求の範囲第1、2、3、4または5項記載の界
    面活性剤。 7 XがOH-、Cl-、Br-I-、ClO4 -、SO4 2-
    CH3SO4 -、NO3 -、CH3COO-、またはリン酸基
    である特許請求の範囲第1、2、3、4、5また
    は6項記載の界面活性剤。
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