JPH0156141B2 - - Google Patents
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- JPH0156141B2 JPH0156141B2 JP60088869A JP8886985A JPH0156141B2 JP H0156141 B2 JPH0156141 B2 JP H0156141B2 JP 60088869 A JP60088869 A JP 60088869A JP 8886985 A JP8886985 A JP 8886985A JP H0156141 B2 JPH0156141 B2 JP H0156141B2
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- Japan
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- substrate holder
- substrate
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8886985A JPS61250163A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 多層薄膜の製造方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8886985A JPS61250163A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 多層薄膜の製造方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61250163A JPS61250163A (ja) | 1986-11-07 |
JPH0156141B2 true JPH0156141B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1989-11-29 |
Family
ID=13955015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8886985A Granted JPS61250163A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 多層薄膜の製造方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61250163A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03223460A (ja) * | 1990-01-25 | 1991-10-02 | Agency Of Ind Science & Technol | 薄膜堆積方法 |
JP2001240965A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-04 | Showa Shinku:Kk | 薄膜製造装置に於ける膜厚分布制御方法及びその装置 |
US11224871B2 (en) | 2017-05-17 | 2022-01-18 | Asahi Kasei Medical Co., Ltd. | Phosphate adsorbing agent for blood processing, blood processing system and blood processing method |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63274761A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-11 | Toda Kogyo Corp | 真空蒸着多層薄膜形成装置 |
JPS63274756A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-11 | Toda Kogyo Corp | 真空蒸着多層薄膜形成装置 |
JPH01123065A (ja) * | 1987-11-05 | 1989-05-16 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜形成装置 |
JPH0699803B2 (ja) * | 1988-05-30 | 1994-12-07 | 三容真空工業株式会社 | スパッタリングによる透明導電膜の製造装置 |
JPH02107757A (ja) * | 1988-10-15 | 1990-04-19 | Koji Hashimoto | アモルファス超格子合金の作製法 |
JP2002090978A (ja) | 2000-09-12 | 2002-03-27 | Hoya Corp | 位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造装置 |
JP2006150160A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk | 粉体膜形成装置 |
JP4809613B2 (ja) * | 2005-02-14 | 2011-11-09 | 株式会社シンクロン | 薄膜形成装置 |
JP4489820B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2010-06-23 | Hoya株式会社 | 位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造装置 |
JP4739464B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2011-08-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリング装置、スパッタリング方法及び電子デバイスの製造方法 |
JP6777098B2 (ja) * | 2015-12-24 | 2020-10-28 | コニカミノルタ株式会社 | 成膜装置および成膜方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4912838A (enrdf_load_stackoverflow) * | 1972-05-15 | 1974-02-04 |
-
1985
- 1985-04-26 JP JP8886985A patent/JPS61250163A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03223460A (ja) * | 1990-01-25 | 1991-10-02 | Agency Of Ind Science & Technol | 薄膜堆積方法 |
JP2001240965A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-04 | Showa Shinku:Kk | 薄膜製造装置に於ける膜厚分布制御方法及びその装置 |
US11224871B2 (en) | 2017-05-17 | 2022-01-18 | Asahi Kasei Medical Co., Ltd. | Phosphate adsorbing agent for blood processing, blood processing system and blood processing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61250163A (ja) | 1986-11-07 |
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