JPH0145455B2 - - Google Patents
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ヘキサフルオロプロペンとフツ素と
を反応させオクタフルオロプロパンを製造する方
法に関する。
を反応させオクタフルオロプロパンを製造する方
法に関する。
オクタフルオロプロパンは、卓越した熱的、化
学的安定性の故に、不活性媒体や冷媒等として使
用されているほか、半導体工業ではドライエツチ
ング剤としても利用されている。
学的安定性の故に、不活性媒体や冷媒等として使
用されているほか、半導体工業ではドライエツチ
ング剤としても利用されている。
従来、このオクタフルオロプロパンを製造する
方法としては、特殊な多孔質アルミナ反応管を用
いプロパンをフツ素化する方法（特開昭56−
103123号公報）やヘキサフルオロプロペンとフツ
素とを大過剰の希釈剤で希釈して反応させる方法
（特開昭58−41829号公法）等が知られている。
方法としては、特殊な多孔質アルミナ反応管を用
いプロパンをフツ素化する方法（特開昭56−
103123号公報）やヘキサフルオロプロペンとフツ
素とを大過剰の希釈剤で希釈して反応させる方法
（特開昭58−41829号公法）等が知られている。
しかし、これらの方法では、特殊な反応装置を
必要としたり、原料及び生成物が大過剰に希釈剤
で希釈されている為生産性が低いなどの問題を有
している。
必要としたり、原料及び生成物が大過剰に希釈剤
で希釈されている為生産性が低いなどの問題を有
している。
本発明者らは、これら従来法の問題点を解決す
る為鋭意研究を行つた結果、特定の触媒の存在
下、ヘキサフルオロプロペンとフツ素とを反応さ
せることにより経済的にオクタフルオロプロパン
を製造できることを見い出し、本発明を完成する
に到つた。
る為鋭意研究を行つた結果、特定の触媒の存在
下、ヘキサフルオロプロペンとフツ素とを反応さ
せることにより経済的にオクタフルオロプロパン
を製造できることを見い出し、本発明を完成する
に到つた。
すなわち、本発明は、ヘキサフルオロプロペン
とフツ素とを式： AlClxFyOz （但し、ｘ＋ｙ＋2z＝３，０≦ｘ＜３，０＜ｙ
＜３，０≦ｚ＜３／２である。） で示される触媒の存在下反応させることを要旨と
する。
とフツ素とを式： AlClxFyOz （但し、ｘ＋ｙ＋2z＝３，０≦ｘ＜３，０＜ｙ
＜３，０≦ｚ＜３／２である。） で示される触媒の存在下反応させることを要旨と
する。
この本発明で用いられる触媒は、例えば、ビー
ズ状活性アルミナとフツ素或いはCCl2F2，
CCl2CClF2，CHClCClF2等のハロゲン化炭化水
素とを100〜600℃で反応させることにより調製す
ることができる。
ズ状活性アルミナとフツ素或いはCCl2F2，
CCl2CClF2，CHClCClF2等のハロゲン化炭化水
素とを100〜600℃で反応させることにより調製す
ることができる。
本発明では、通常原料のヘキサフルオロプロペ
ンとフツ素は、希釈剤で希釈して気相中反応させ
る。この希釈剤は、本発明の反応条件下で不活性
な気体であるものであればすべて利用できるが、
冷却もしくは加圧により生成物のオクタフルオロ
プロパンより容易に液化するものまたはこのオク
タフルオロプロパンより低沸点を有しオクタフル
オロプロパンと分離容易なものあるいは分離の必
要のない生成物のオクタフルオロプロパン自身が
好ましいものである。生成物のオクタフルオロプ
ロパンを希釈剤として用いる場合は、反応で生成
したオクタフルオロプロパンを冷却もしくは加圧
することにより液化し、その一部を希釈剤として
利用するのが便利である。オクタフルオロプロパ
ン以外の上記希釈剤としては、窒素、ヘリウム、
アルゴン、６フツ化硫黄、フツ化水素、オクタフ
ルオロプロパン以外のパーフルオロ炭化水素等が
例示できる。
ンとフツ素は、希釈剤で希釈して気相中反応させ
る。この希釈剤は、本発明の反応条件下で不活性
な気体であるものであればすべて利用できるが、
冷却もしくは加圧により生成物のオクタフルオロ
プロパンより容易に液化するものまたはこのオク
タフルオロプロパンより低沸点を有しオクタフル
オロプロパンと分離容易なものあるいは分離の必
要のない生成物のオクタフルオロプロパン自身が
好ましいものである。生成物のオクタフルオロプ
ロパンを希釈剤として用いる場合は、反応で生成
したオクタフルオロプロパンを冷却もしくは加圧
することにより液化し、その一部を希釈剤として
利用するのが便利である。オクタフルオロプロパ
ン以外の上記希釈剤としては、窒素、ヘリウム、
アルゴン、６フツ化硫黄、フツ化水素、オクタフ
ルオロプロパン以外のパーフルオロ炭化水素等が
例示できる。
この希釈剤は、通常フツ素ガス濃度が希釈剤お
よびフツ素ガスに対し５〜30容量％になるように
反応系内に供給する。
よびフツ素ガスに対し５〜30容量％になるように
反応系内に供給する。
本発明で採用される原料のヘキサフルオロプロ
ペン（C3F6）とフツ素ガス（F2）の供給モル比
は、C3F6：F2＝１：1.0〜１：1.5程度である。
ペン（C3F6）とフツ素ガス（F2）の供給モル比
は、C3F6：F2＝１：1.0〜１：1.5程度である。
本発明の反応の反応温度は、通常−30〜200℃
の範囲である。
の範囲である。
本発明の反応は、通常流通系で常圧下に実施さ
れるが、希釈剤や原料のヘキサフルオロプロペン
が液化しない程度の圧力下で実施されることもあ
る。
れるが、希釈剤や原料のヘキサフルオロプロペン
が液化しない程度の圧力下で実施されることもあ
る。
本発明を実施する際用いられる反応器は、フツ
素及びフツ化水素に耐蝕性を有する材質、例えば
ステンレス、ハステロイ、ニツケル、モネル、
銅、白金等を利用して製作される。
素及びフツ化水素に耐蝕性を有する材質、例えば
ステンレス、ハステロイ、ニツケル、モネル、
銅、白金等を利用して製作される。
本発明で製造された反応混合物中のオクタフル
オロプロパンは、その中に含まれる過剰のフツ素
ガスをアルカリ等で除いた後、通常冷却又は加圧
することにより液化し捕集する。
オロプロパンは、その中に含まれる過剰のフツ素
ガスをアルカリ等で除いた後、通常冷却又は加圧
することにより液化し捕集する。
以下、本発明の実施例を示す。
実施例 １
活性アルミナと１，１，２―トリクロロ―１，
２，２―トリフルオロエタンを反応させて得られ
た触媒AlClxFyOz（ｘ＝0.10，ｙ＝1.26，ｚ＝0.82）
をステンレス製反応管（直径22mm、長さ420mm、
25℃の水をジヤケツトに流し冷却）に充填し、ヘ
キサフルオロプロペン（C3F6）、窒素およびフツ
素ガスをそれぞれ22c.c.／分、212c.c.／分および
24.4c.c.／分の流速で該反応管に導入した。反応管
内の最高温度は、73℃に達した。
２，２―トリフルオロエタンを反応させて得られ
た触媒AlClxFyOz（ｘ＝0.10，ｙ＝1.26，ｚ＝0.82）
をステンレス製反応管（直径22mm、長さ420mm、
25℃の水をジヤケツトに流し冷却）に充填し、ヘ
キサフルオロプロペン（C3F6）、窒素およびフツ
素ガスをそれぞれ22c.c.／分、212c.c.／分および
24.4c.c.／分の流速で該反応管に導入した。反応管
内の最高温度は、73℃に達した。
生成したオクタフルオロプロパン（C3F8）を
主成分とする反応混合物は、過剰のフツ素を除去
した後、液体酸素で冷却したコールドトラツプで
捕集した。
主成分とする反応混合物は、過剰のフツ素を除去
した後、液体酸素で冷却したコールドトラツプで
捕集した。
この捕集した反応混合物をガスクロマトグラフ
イーで分析し、分析値より次の結果が得られた。
イーで分析し、分析値より次の結果が得られた。
C3F6転化率100％、C3F8選択率87％、C6F14選
択率９％、その他CF4，C2F6，C4F10およびC5F12
合計４％。
択率９％、その他CF4，C2F6，C4F10およびC5F12
合計４％。
実施例 ２
反応管ジヤケツトに−20℃の冷媒を流して冷却
した他は実施例１と同様にして反応及び分析を行
つた。
した他は実施例１と同様にして反応及び分析を行
つた。
C3F6転化率100％、C3F8選択率89％の結果を得
た。
た。
実施例 ３
窒素にかえてC3F8（200c.c.／分）を用いた他は
実施例１と同様の操作で反応及び分析を行つた。
実施例１と同様の操作で反応及び分析を行つた。
C3F6転化率100％、C3F8選択率88％の結果を得
た。
た。
実施例 ４
反応管ジヤケツトに120℃のオイルを流して加
熱した他は実施例１と同様の操作で反応及び分析
を行つた。なお、反応管内の最高温度は、174℃
に達した。
熱した他は実施例１と同様の操作で反応及び分析
を行つた。なお、反応管内の最高温度は、174℃
に達した。
C3F6転化率100％、C3F8選択率80％の結果を得
た。
た。
実施例 ５
C3F6、窒素およびフツ素をそれぞれ66c.c.／分、
636c.c.／分および73c.c.／分で反応管に導入した他
は実施例１と同様の操作で反応及び分析を行つ
た。反応管内の最高温度は、120℃に達した。
636c.c.／分および73c.c.／分で反応管に導入した他
は実施例１と同様の操作で反応及び分析を行つ
た。反応管内の最高温度は、120℃に達した。
C3F6転化率100％、C3F8選択率89％の結果を得
た。
た。
実施例 ６
活性アルミナを充填したステンレス製反応管に
温度200℃にて、ジクロロジフルオロメタンを反
応させ、発熱がおさまつてから温度を300℃に上
げ、再びジクロロジフルオロメタンを導入した。
得られた触媒はAlClxFyOz（Ｘ＝0.1，Ｙ＝2.3，Ｚ
＝0.3）であつた。
温度200℃にて、ジクロロジフルオロメタンを反
応させ、発熱がおさまつてから温度を300℃に上
げ、再びジクロロジフルオロメタンを導入した。
得られた触媒はAlClxFyOz（Ｘ＝0.1，Ｙ＝2.3，Ｚ
＝0.3）であつた。
この触媒を用いて、実施例１と同様にしてヘキ
サフルオロプロペヴンとフツ素の反応を行つたと
ころ反応管内の最高温度は82℃に達した。反応ガ
スの分析結果は、C3F6の転化率100％、C3F8の選
択率91.5％を示した。
サフルオロプロペヴンとフツ素の反応を行つたと
ころ反応管内の最高温度は82℃に達した。反応ガ
スの分析結果は、C3F6の転化率100％、C3F8の選
択率91.5％を示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ヘキサフルオロプロペンとフツ素とを式： AlClxFyOz （但し、ｘ＋ｙ＋2z＝３，０≦ｘ＜３，０＜ｙ
＜３，０≦ｚ＜３／２である。） で示される触媒の存在下反応させることを特徴と
するオクタフルオロプロパンの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58185531A JPS6078924A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | オクタフルオロプロパンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58185531A JPS6078924A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | オクタフルオロプロパンの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6078924A JPS6078924A (ja) | 1985-05-04 |
| JPH0145455B2 true JPH0145455B2 (ja) | 1989-10-03 |
Family
ID=16172427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58185531A Granted JPS6078924A (ja) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | オクタフルオロプロパンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6078924A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7041264B2 (en) | 2001-01-15 | 2006-05-09 | Showa Denko K.K. | Process for purifying octafluoropropane |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4539793B2 (ja) * | 2000-08-30 | 2010-09-08 | 昭和電工株式会社 | オクタフルオロプロパンの製造方法及びその用途 |
| JP2007100664A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Yamaha Motor Co Ltd | 自動二輪車の排気装置、及び排気装置を搭載した自動二輪車 |
| JP2007176842A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Showa Denko Kk | オクタフルオロプロパンの製造方法 |
| CN107098790B (zh) * | 2017-06-05 | 2020-12-08 | 广东华特气体股份有限公司 | 一种制备高纯度八氟丙烷的方法 |
-
1983
- 1983-10-03 JP JP58185531A patent/JPS6078924A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7041264B2 (en) | 2001-01-15 | 2006-05-09 | Showa Denko K.K. | Process for purifying octafluoropropane |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6078924A (ja) | 1985-05-04 |
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