JPH0136962B2 - - Google Patents

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JPH0136962B2
JPH0136962B2 JP58184529A JP18452983A JPH0136962B2 JP H0136962 B2 JPH0136962 B2 JP H0136962B2 JP 58184529 A JP58184529 A JP 58184529A JP 18452983 A JP18452983 A JP 18452983A JP H0136962 B2 JPH0136962 B2 JP H0136962B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
varistor
voltage
isostatic pressing
hot isostatic
graph showing
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Expired
Application number
JP58184529A
Other languages
English (en)
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JPS6077402A (ja
Inventor
Takehiko Yoneda
Masaharu Kobayashi
Hiromitsu Tagi
Masanori Fujimura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6077402A publication Critical patent/JPS6077402A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、理論密度比99%TD以上の高密度バ
リスタを得ることが可能なバリスタの製造方法に
関するものである。
(従来例の構成とその問題点) バリスタとは、印加電圧によつて著しく抵抗値
が変わり、電圧−電流特性が非直線性を示す固体
素子の総称である。動作原理は種類によつて違う
が、共通して云えることは、半導体やセラミツク
の表面または内部におけるPN接合や、シヨツト
キ障壁などのポテンシヤル障壁を通過する電流の
非直線性を利用したものである。
一般に、バリスタの電圧−電流特性は、 I=(V/C)〓 で表わされる。ここで、αはバリスタの電圧非直
線指数と呼び、非オーム性の程度、即ちバリスタ
の性能を表わし、バリスタの種類、材料あるいは
製造条件によつて大幅に異なり、Cは印加電圧V
におけるバリスタの抵抗値で、印加電圧Vの値に
よつて変化する。
半導体化結晶間の粒界領域を高抵抗化したバリ
スタは、結晶粒界近傍の数μmを利用するもので
あり、結晶粒界の高抵抗化領域の状態にバリスタ
特性が左右される。従来のバリスタでは結晶粒界
近傍にポアが集中し、高抵抗化領域の密度が低い
為、電圧非直線指数αのばらつきやサージ耐量が
小さい等の欠点を有していた。
(発明の目的) 本発明は上記のような従来の欠点を除去し、高
密度で機械的強度の高いバリスタの製造方法を提
供するものである。
(発明の構成) 本発明はバリスタ基板を不活性ガス中において
熱間静水圧プレスするものである。
(実施例の説明) 以下本発明のバリスタの製造方法についてその
一実施例を説明する。
試料の調整工程としては工業用原料(純度99.9
%以上)であるZnO、Bi2O3、MnOを準備する。
次いで、ZnO粉末にBi2O3及びMnO粉末を加え充
分均一に混合した後、直径13mm厚さ3mmの円板形
に圧縮成型し、1330℃の温度で焼成してバリスタ
基板を作成する。そのバリスタ基板を、バリスタ
基板を粉砕したバツフア用粉末と共にZrO2坩堝
に投入し、1250℃ー1500atm Ar中において熱間
静水圧プレスし、その後、大気中1100℃にて熱処
理する。このようにして得られた磁器の両面に
Ag系のオーミツク電極を形成させてバリスタ素
子とし、第1図〜第4図に示す各特性を調べた。
第1図は熱間静水圧プレス前後における電圧非
直線指数αの変動を示すグラフ、第2図はサージ
電圧に対する電流耐量の関係を示すグラフであ
り、8×20μSの標準衝撃電流の場合の常用耐量
を●、破壊耐量を〇で示してあり、第3図は熱間
静水圧プレス前後における理論密度比の変化を示
す図、第4図は熱間静水圧プレス前後における抗
折力変化を示すグラフである。各図においてHIP
前及びHIP後とあるのは熱間静水圧プレスを行う
前及び行つた後の特性を示すものである。
第1図乃至第4図から明らかなように、電圧非
直線指数α、電流耐量、密度、機械強度ともに本
発明による製品は優れている。これらの結果は、
熱間静水圧プレスにより、半導体層及び高抵抗化
層の密度が緻密化したことにより得られるもので
ある。
なお、本実施例ではZnO系バリスタを用いた
が、SiC系バリスタ等についても同等の結果が得
られる。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば電圧非直
線指数αの値が高くしかも安定であり、サージ電
圧に対する電流耐量が高くなり、また、理論密度
比99%TD以上の高密度セラミツクスが得られる
と共に機械的強度が大幅にアツプする等、工業的
量産下においても著しく安定なのであるという優
れた製造方法であり、産業的価値は頗る大なるも
のである。
【図面の簡単な説明】
第1図は熱間静水圧プレス前後における電圧非
直線指数αの変動を示すグラフ、第2図はサージ
電圧に対する電流耐量の関係を示すグラフ、第3
図は熱間静水圧プレス前後における理論密度比の
変化を示す図、第4図は熱間静水圧プレス前後に
おける抗折力変化を示すグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 結晶粒子を半導体化し結晶粒界を高抵抗化し
    たバリスタ基板を不活性ガス中において熱間静水
    圧プレスすることを特徴とするバリスタの製造方
    法。
JP58184529A 1983-10-04 1983-10-04 バリスタの製造方法 Granted JPS6077402A (ja)

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JPS6077402A JPS6077402A (ja) 1985-05-02
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JPS60189202A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 三菱電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法
JPS60189201A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 三菱電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法

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JPS6077402A (ja) 1985-05-02

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