JPS6077402A - バリスタの製造方法 - Google Patents

バリスタの製造方法

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JPS6077402A
JPS6077402A JP58184529A JP18452983A JPS6077402A JP S6077402 A JPS6077402 A JP S6077402A JP 58184529 A JP58184529 A JP 58184529A JP 18452983 A JP18452983 A JP 18452983A JP S6077402 A JPS6077402 A JP S6077402A
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JP
Japan
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varistor
voltage
isostatic pressing
hot isostatic
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JP58184529A
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米田 毅彦
小林 雅晴
多木 宏光
藤村 正紀
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、理論密度比99%TD以」二の高密度バリス
タを得ることが可能なバリスタの製造方法に関するもの
でちる。
(従来例の構成とその問題点) バリスタとは、印加電圧によって著しく抵抗値が変わり
、電圧−電流特性が非直線性を示す固体素子の総称であ
Z)。動作原理は種類によっ又違うが、Jt二Ml−て
云えることは、半導体やセラミックの表面または内部に
おけるPN接合や、ノヨノトキ障壁などのポテンシャル
障壁を通過する電流の一般に、バリスタの電圧−電流特
性は、V α 1−(で) で表わされる。ここで、αはバリスタの電圧非直線指数
と呼び、非オーム性の程度、即ちバリスタの性能を表わ
し、バリスタの種類、材料あるいは製造条件によって大
幅に異なり、Cは印加電圧Vにおけるバリスタの抵抗値
で、印加電圧Vの値によって変化する。
半導体化結晶間の粒界領域を高抵抗化したバリスタは、
結晶粒界近傍の数βmを利用するものであり、結晶粒界
の高抵抗化領域の状態にバリスタ特性が左右される。従
来のバリスタでは結晶粒界近傍にボアが集中し、高抵抗
化領域の密度が低い為、電圧非直線指数αのばらつきや
ダージ耐量が小さい等の欠点を有していた。
(発明の目的) 本発明は上記のような従来の欠点を除去し、高密度で機
械的強度の高いバリスタの製造方法を折(発明の構成) 本発明はバリスタ基板を不活性ガス中において熱間静水
圧プレスするものである。
(実施例の説明) 以下本発明のバリスタの製造方法についてその一実施例
を説明する。
試料の調整工程としては工業用原料(純度999%り上
)であるZnO、Bi2O3、MnOを準備する。
次いで、znO粉末にBi2O3及びMnO粉末を加え
充分均一に混合した後、直径13關厚さ3解の円板形に
圧縮成型し、1330’(+の温度で焼成してかリスク
基板を作成する。そのバリスタ基板を、バリスタ基板を
粉砕したバッファ用粉末と共にZr 02坩堝に投入し
、1250℃−1500atmAr中において熱間静水
圧プレスし、その後、大気中11OO℃にて熱処理する
。このようにし−で得られた磁器の両面にAg系のオー
ミック電極を形成させてバリスタ素子とし、第1図〜第
4図に示す各特性を調べだ。
第1図は熱間静水圧プレス前後における電圧非直線指数
αの変動を示すグラフ、第2図はサージ電圧に対する電
流耐量の関係を示すグラフであり、8X20μsの標準
衝撃電流の場合の常用耐量を・、破壊耐量な○で示して
あり、第3図は熱間静水圧プレス前後における理論密度
比の変化を示す図、第4図は熱間静水圧プレス前後にお
ける抗折力変化を示すグラフである。各図においてHI
P前及びHIP後とあるのは熱間静水圧プレスを行うt
iiJ及び行った後の特性を示すものである。
第1図乃至第4図から明らかなように、電圧非直線指数
α、電流耐量、密度、機械強度ともに本発明による製品
は優れている。これらの結果は、熱間静水圧プレスによ
り、半導体層及び高抵抗化層の密度が緻密化したことに
より得られるものである。
なお、本実施例ではZnO系バリスタを用いたが、Si
C系ハIJスタ等についても同等の結果が得られる。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば電圧非直線指数α
の値が高くしかも安定であり、サージ電圧に対する電流
耐量が高くなシ、また、理論密度比99%TD以上の高
密度セラミクスが得られると共に機械的強度が大幅にア
ップする等、工業的量産下においても著しく安定なもの
であるという優れた製造方法であシ、産業的価値は頗る
犬なるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は熱間静水圧プレス前後における電圧非直線指数
αの変動を示すグラフ、第2図はサージ電圧に対する電
流耐量の関係を示すグラフ、第3図は熱間静水圧プレス
前後における理論密度比の変化を示す図、第4図は熱間
静水圧プレス前後における抗折力変化を示すグラフであ
る。 特許出願人 松下電器産業株式会社 ゛・・λ“コ゛1 代 理 人 星 野 恒 司 ;玉j 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 結晶粒子を半導体化し結晶粒界を高抵抗化したバリスタ
    基板を不活性ガス中において熱間静水圧プレスすること
    を特徴とするノへリスクの製造方法。
JP58184529A 1983-10-04 1983-10-04 バリスタの製造方法 Granted JPS6077402A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60189201A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 三菱電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法
JPS60189202A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 三菱電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60189201A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 三菱電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法
JPS60189202A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 三菱電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法
JPH0314203B2 (ja) * 1984-03-09 1991-02-26 Mitsubishi Electric Corp
JPH0314202B2 (ja) * 1984-03-09 1991-02-26 Mitsubishi Electric Corp

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