JPH01318094A - 混合溶剤組成物 - Google Patents

混合溶剤組成物

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JPH01318094A
JPH01318094A JP14828488A JP14828488A JPH01318094A JP H01318094 A JPH01318094 A JP H01318094A JP 14828488 A JP14828488 A JP 14828488A JP 14828488 A JP14828488 A JP 14828488A JP H01318094 A JPH01318094 A JP H01318094A
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JP
Japan
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ether
mixed solvent
solvent composition
ethyl ketone
methyl ethyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP14828488A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Asano
浅野 昭雄
Kazuki Jinushi
地主 一樹
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は油脂類、フラックス類、IC部品、ドライリー
ニング等の洗浄溶剤等として優れた特性を何する新規な
混合溶剤組成物に関するものである。
[従来の技術] アルコール類、ケトン類はその種類も多く、標準沸点の
異なる各種物質を入手しやすく、油脂類、フラックス類
、IC部品、精密機械部品、ドライリーニング等の洗浄
溶剤等として広く使われている。
[発明が解決しようとする課題] アルコール類、ケトン類は溶剤として優れた性能を有し
ているが、いずれも可燃性であり保管上及び使用上危険
性を伴うものである。
本発明は従来の優れた特性を生かしつつ、不燃化もしく
は難燃化された新規な混合溶剤組成物を提供することを
目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明はトリクロロトリフルオロエタン(RI+3及び
/又はll3a) 、イソプロピルアルコール及びメチ
ルエチルケトンからなる混合溶剤組成物に関するもので
ある。
本発明の組成物は不燃性又は難燃性であり、■つ従来の
アルコール類、ケトン類等と同等以上の洗浄力を有する
ものである。
本発明におけるアルコール類1、ケトン類は可燃性であ
るが、不燃性のドルクロロトリフルオロエタンを添加す
ることにより不燃または難燃性とすることができる。
本発明に用いられるイソブロビルアルコールとメチルエ
チルケトンは共沸組成物(イソプロピルアルコール/メ
チルエチルケトン=30/TO1重量%)での使用が好
ましい。
イソプロピルアルコール/メチルエチルケトン共沸組成
物、イソプロピルアルコール、又はメチルエチルケトン
の各々のトリクロロトリフルオロエタンに対する混合割
合は1〜50重量%であり、好ましくは3〜45重量%
、さらに好ましくは5〜35重量%である。
本発明の混合溶剤組成物は他のフッ素系溶剤、例えばド
ルクロロモノフルオロメタン(R11) 、  トリク
ロロジフルオロエタンfRI22゜R122a、 12
2bの少なくとも1種)、ジクロロトリフルオロエタン
(RI23. R123a、RI23bの少なくとも1
種)、トリクロロフルオロエタン(RI 31 。
R131a、 R131bの少なくとも1種)、ジクロ
ロジフルオロエタン(R132,R132a、R132
b、R132cの少なくとも1種)、クロロトリフルオ
ロエタン(R133,RI33a、 R133bの少な
くとも1種)、ジクロロフルオロエタン(R141,R
141a、 R141bの少なくとも1種)、クロロジ
フルオロエタン(Rl 42. RI 42a、 Rl
 42bの少なくとも1種)、クロロフルオロエタン(
R151,R151aの少なくとも1種)及びジフルオ
ロエタン(RI52. R152aの少なくとも1種)
等をさらに混合使用することができる。
又、本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在する場合
にはその共沸組成での使用が好ましい。
本発明の混合溶剤組成物を安定化する必要がある場合に
は、安定化剤として、ニトロ化合物、フェノール類、ア
ミン類、エーテル類、アミシン類、エステル類、(74
3ホスフアイト類、エポキサイド類、フラン類、アルコ
ール類、ケトン類及びトリアゾール類の群から選ばれる
少なくとも1種を添加することができる。
添加量としては、特に限定されないが、混合溶剤組成物
に対してI ppm−10%、好ましくは10ppm 
〜5%、さらに好ましくはloOppm〜3%である。
ニトロ化合物類としては一取代R−Now(R:炭素数
1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭
化水素基)で示されるものが好ましく、ニトロメタン、
ニトロエタン、1−二トロプロパン、2−ニトロプロパ
ン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであり、より好
ましくはニトロメタンである。フェノール類としては下
記一般式で示されるものが好ましく、(ここで、1< 
l 、  R’l 、R“ 、R#+1は011又は炭
素数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。) フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−ク
レゾール5チモール、p−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、0−メトキシフェノール、4.4゛−ジ
ヒドロキシフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2
.6−シーし一ブチルーp−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、2.6−ジー
t−ブチル−p−クレゾールである。
アミン類としては、下記一般式で示されるものが好まし
く、 R2−N (R’ a) x、  fRa) 2−N 
(R′at z、  (Ral 2−NR’ x。
fL) 2N−R’ 2−N−(R”z) 2.  R
a−R′z−Nll−R”2゜R−−CIIN (R’
 21−−R”2−N−(R′#2) 2+(Ra) 
KN−R′a−Nll−R′a−N−(R″’ z) 
2+(Ra) −N−(R’ gNll) 4−R”a
、  R2−Ntl−R′2+(R,) 、−N−01
1’ 2 (ここで、R,、R’i、R#、、R”’、は水素原子
又は炭素数1〜10の飽和又は不飽和結合を有する鎖状
又は環状の炭化水素基。) ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、N−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、N−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、a−メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第2ブチルアミン、第
3ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンチルアミン、トリペンチルアミン、2−エチルヘ
キシルアミン、アニリン、N、N−ジメチルアニリン、
N、N−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、N−フェ
ニル−1−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、N−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。
エーテル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 +10−R,−0−R″、、  110−R,l−0−
R′、−0−R“1,110−R3−旧1Lo」 (ここで、R,、R’、、R″、は炭素数1〜10の飽
和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。
) 1.4−ジオキサン、1.2−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、1.2−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは1.2−ブタ
ンジオール、1.4−ジオキサン、1.2−ジメトキシ
エタンである。
アミン類として好ましくは、a−アミレン、β−アミレ
ン、γ−アミレン、a−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。
エステル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 R,0−R’、−COOR”4゜ (ここで、R,、R”4.R″、  は水素原子又は炭
素数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。) 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチルである。
有機ホスファイト類としては、次の一般式で示されるも
のが好ましく、(R6O13P、  (R,−R″10
1.P、  (R,0]2FOR’、。
(ここでR,、R’6. R″6.R111、は水素原
子又は炭素数1−18の飽和又は不飽和結合を有する鎖
状又は環状の炭化水素基。) トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス(2−
エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリエチルホスファイト、ジフェニルモノ(2−エ
チルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイ
ドロゲンホスファイト、テトラフェニルジブロビレング
リコールベンタエリスリトールテトラホスファイト、ト
リラウリルトリチオホスファイト、ビス(トリデシル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
テアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−ターシャリ
−ブチルフェニル)ホスファイト等から選ばれるもので
ある。より好ましくはビリフェニルホスファイトである
エポキサイド類としては、次の一般式で示されるものが
好ましく、 Rag、 XR−0 (ここで、R6は炭素数1〜8の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。
) 1.2−ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、プ
ロピレンオキサイド、2.3−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは1.2ブチレンオキサイドである。
フラン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (ここでR7、R″v、R″、は炭素数1〜2の飽和及
び/又は不飽和結合を有する炭化水素基。) テトラヒドロフラン、N−メチルビロール、2−メチル
ビロール、3−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはN−メチルビロールである。
ケトン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (R8) zco、  Re−C0−R″a、  (R
aNCO) 2゜Ra−C0N−(R’ a) z、 
 fR−) aNcON (R″a) −。
(ここでRa 、R’、、R“a、 R″′6は水素原
子又は炭素数1〜4の飽和又は不飽和結合を有する炭化
水素基。) アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルホルムアミド、N−メチルプロピオンアミド、2−ピ
ロリドン、 N、N、N″、N゛−テトラメチル尿素、
N−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、より
好ましくはメチルエチルケトンである。
トリアゾール類としては次の一般式で示されるものが好
ましく、 R5−N5−R′s、  Re−N5−R′*−0ll
R#。
X−R9−N5−R″!−R′s、  R9−N−R’
−N−R′9R”’。
(ここでR,、R′、、R#、、R’“9は水素原子又
は炭素数l〜16の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又
は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。) 2− (2’ −ヒドロキシ−5゛−メチル−フェニル
)ベンゾトリアゾール、2− (2’ −ヒドロキシ−
3′−ターシャリ−ブチル−5゜−メチルフェニル)−
5−クロロ−ベンゾトリアゾール、1.2.3−ベンゾ
トリアゾール、l−[(N、N−ビス−2−エチルヘキ
シル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール等から選ばれ
るものであり、より好ましくは1,2.3−ベンゾトリ
アゾールである。
本発明の混合溶剤組成物は、従来の溶剤と同様の各種用
途に使用でき、特に従来の溶剤単独のものよりプラスチ
ック類に与えるEWが少ない点で有利である。
本発明の混合溶剤組成物の具体的な用途としてはフラッ
クス、グリース、油、ワックス、研磨剤、インキ等の除
去剤、塗料用溶剤、抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス
、プラスチック、ゴム、金属製各種物品等の洗浄及びド
ライクリーニング用溶剤として、特にIC部品、電気機
器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げ
ることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい
[実施例J 実施例1〜3、比較例1〜2 第1表に示す混合溶剤組成物を用いてフラックスの洗浄
試験を行なった。
プリント基板(銅張積層板)全面にフラックス(スパー
クルフラックスPO−F−3(19,千住金属■製)を
塗布し 200℃の電気炉で1分間焼成後、混合溶剤組
成物に1分間浸漬した。フラックスの除去の度合を第1
表に示す。
第1表 ()内は混合比[重量%] ○:良好に除去できる   △:少量残存×:かなり残
存 実施例4、比較例3〜4 第2表に示す混合溶剤組成物を用いて引火点の測定を行
なった。
各組成物の所定量をペンスキーマルテンス式引火点測定
器の試料カップに取り、JIS−に2265に定める条
件に従い、引火点を測定した。結果を第2表に示す。
第2表 ()内は混合比[重量%] [発明の効果] 本発明の混合溶剤組成物は実施例から明らかなように、
洗浄効果の優れたものである。又、従来使用されていた
アルコール類、ケトン類等と同様に適度な溶解力を持つ
ことから、金属、プラスチック及びエラストマーから成
る複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス等を
洗浄することができる。又、実施例から明らかなように
、引火点の無い組成が得られるため、加熱浸漬洗浄、蒸
気洗浄等に於て、特に安全面から有利である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.トリクロロトリフルオロエタン、イソプロピルアル
    コール及びメチルエチルケトンからなる混合溶剤組成物
JP14828488A 1988-06-17 1988-06-17 混合溶剤組成物 Pending JPH01318094A (ja)

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JP14828488A JPH01318094A (ja) 1988-06-17 1988-06-17 混合溶剤組成物

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JPH01318094A true JPH01318094A (ja) 1989-12-22

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ID=15449325

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03234794A (ja) * 1990-02-08 1991-10-18 Toagosei Chem Ind Co Ltd 洗浄用組成物
US5562945A (en) * 1993-04-29 1996-10-08 Olympus Optical Co., Ltd. Method for post-cleaning finishing drying

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03234794A (ja) * 1990-02-08 1991-10-18 Toagosei Chem Ind Co Ltd 洗浄用組成物
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