JPH01318094A - 混合溶剤組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は油脂類、フラックス類、IC部品、ドライリー
ニング等の洗浄溶剤等として優れた特性を何する新規な
混合溶剤組成物に関するものである。
ニング等の洗浄溶剤等として優れた特性を何する新規な
混合溶剤組成物に関するものである。
[従来の技術]
アルコール類、ケトン類はその種類も多く、標準沸点の
異なる各種物質を入手しやすく、油脂類、フラックス類
、IC部品、精密機械部品、ドライリーニング等の洗浄
溶剤等として広く使われている。
異なる各種物質を入手しやすく、油脂類、フラックス類
、IC部品、精密機械部品、ドライリーニング等の洗浄
溶剤等として広く使われている。
[発明が解決しようとする課題]
アルコール類、ケトン類は溶剤として優れた性能を有し
ているが、いずれも可燃性であり保管上及び使用上危険
性を伴うものである。
ているが、いずれも可燃性であり保管上及び使用上危険
性を伴うものである。
本発明は従来の優れた特性を生かしつつ、不燃化もしく
は難燃化された新規な混合溶剤組成物を提供することを
目的とするものである。
は難燃化された新規な混合溶剤組成物を提供することを
目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明はトリクロロトリフルオロエタン(RI+3及び
/又はll3a) 、イソプロピルアルコール及びメチ
ルエチルケトンからなる混合溶剤組成物に関するもので
ある。
/又はll3a) 、イソプロピルアルコール及びメチ
ルエチルケトンからなる混合溶剤組成物に関するもので
ある。
本発明の組成物は不燃性又は難燃性であり、■つ従来の
アルコール類、ケトン類等と同等以上の洗浄力を有する
ものである。
アルコール類、ケトン類等と同等以上の洗浄力を有する
ものである。
本発明におけるアルコール類1、ケトン類は可燃性であ
るが、不燃性のドルクロロトリフルオロエタンを添加す
ることにより不燃または難燃性とすることができる。
るが、不燃性のドルクロロトリフルオロエタンを添加す
ることにより不燃または難燃性とすることができる。
本発明に用いられるイソブロビルアルコールとメチルエ
チルケトンは共沸組成物(イソプロピルアルコール/メ
チルエチルケトン=30/TO1重量%)での使用が好
ましい。
チルケトンは共沸組成物(イソプロピルアルコール/メ
チルエチルケトン=30/TO1重量%)での使用が好
ましい。
イソプロピルアルコール/メチルエチルケトン共沸組成
物、イソプロピルアルコール、又はメチルエチルケトン
の各々のトリクロロトリフルオロエタンに対する混合割
合は1〜50重量%であり、好ましくは3〜45重量%
、さらに好ましくは5〜35重量%である。
物、イソプロピルアルコール、又はメチルエチルケトン
の各々のトリクロロトリフルオロエタンに対する混合割
合は1〜50重量%であり、好ましくは3〜45重量%
、さらに好ましくは5〜35重量%である。
本発明の混合溶剤組成物は他のフッ素系溶剤、例えばド
ルクロロモノフルオロメタン(R11) 、 トリク
ロロジフルオロエタンfRI22゜R122a、 12
2bの少なくとも1種)、ジクロロトリフルオロエタン
(RI23. R123a、RI23bの少なくとも1
種)、トリクロロフルオロエタン(RI 31 。
ルクロロモノフルオロメタン(R11) 、 トリク
ロロジフルオロエタンfRI22゜R122a、 12
2bの少なくとも1種)、ジクロロトリフルオロエタン
(RI23. R123a、RI23bの少なくとも1
種)、トリクロロフルオロエタン(RI 31 。
R131a、 R131bの少なくとも1種)、ジクロ
ロジフルオロエタン(R132,R132a、R132
b、R132cの少なくとも1種)、クロロトリフルオ
ロエタン(R133,RI33a、 R133bの少な
くとも1種)、ジクロロフルオロエタン(R141,R
141a、 R141bの少なくとも1種)、クロロジ
フルオロエタン(Rl 42. RI 42a、 Rl
42bの少なくとも1種)、クロロフルオロエタン(
R151,R151aの少なくとも1種)及びジフルオ
ロエタン(RI52. R152aの少なくとも1種)
等をさらに混合使用することができる。
ロジフルオロエタン(R132,R132a、R132
b、R132cの少なくとも1種)、クロロトリフルオ
ロエタン(R133,RI33a、 R133bの少な
くとも1種)、ジクロロフルオロエタン(R141,R
141a、 R141bの少なくとも1種)、クロロジ
フルオロエタン(Rl 42. RI 42a、 Rl
42bの少なくとも1種)、クロロフルオロエタン(
R151,R151aの少なくとも1種)及びジフルオ
ロエタン(RI52. R152aの少なくとも1種)
等をさらに混合使用することができる。
又、本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在する場合
にはその共沸組成での使用が好ましい。
にはその共沸組成での使用が好ましい。
本発明の混合溶剤組成物を安定化する必要がある場合に
は、安定化剤として、ニトロ化合物、フェノール類、ア
ミン類、エーテル類、アミシン類、エステル類、(74
3ホスフアイト類、エポキサイド類、フラン類、アルコ
ール類、ケトン類及びトリアゾール類の群から選ばれる
少なくとも1種を添加することができる。
は、安定化剤として、ニトロ化合物、フェノール類、ア
ミン類、エーテル類、アミシン類、エステル類、(74
3ホスフアイト類、エポキサイド類、フラン類、アルコ
ール類、ケトン類及びトリアゾール類の群から選ばれる
少なくとも1種を添加することができる。
添加量としては、特に限定されないが、混合溶剤組成物
に対してI ppm−10%、好ましくは10ppm
〜5%、さらに好ましくはloOppm〜3%である。
に対してI ppm−10%、好ましくは10ppm
〜5%、さらに好ましくはloOppm〜3%である。
ニトロ化合物類としては一取代R−Now(R:炭素数
1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭
化水素基)で示されるものが好ましく、ニトロメタン、
ニトロエタン、1−二トロプロパン、2−ニトロプロパ
ン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであり、より好
ましくはニトロメタンである。フェノール類としては下
記一般式で示されるものが好ましく、(ここで、1<
l 、 R’l 、R“ 、R#+1は011又は炭
素数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。) フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−ク
レゾール5チモール、p−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、0−メトキシフェノール、4.4゛−ジ
ヒドロキシフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2
.6−シーし一ブチルーp−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、2.6−ジー
t−ブチル−p−クレゾールである。
1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭
化水素基)で示されるものが好ましく、ニトロメタン、
ニトロエタン、1−二トロプロパン、2−ニトロプロパ
ン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであり、より好
ましくはニトロメタンである。フェノール類としては下
記一般式で示されるものが好ましく、(ここで、1<
l 、 R’l 、R“ 、R#+1は011又は炭
素数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。) フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−ク
レゾール5チモール、p−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、0−メトキシフェノール、4.4゛−ジ
ヒドロキシフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2
.6−シーし一ブチルーp−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、2.6−ジー
t−ブチル−p−クレゾールである。
アミン類としては、下記一般式で示されるものが好まし
く、 R2−N (R’ a) x、 fRa) 2−N
(R′at z、 (Ral 2−NR’ x。
く、 R2−N (R’ a) x、 fRa) 2−N
(R′at z、 (Ral 2−NR’ x。
fL) 2N−R’ 2−N−(R”z) 2. R
a−R′z−Nll−R”2゜R−−CIIN (R’
21−−R”2−N−(R′#2) 2+(Ra)
KN−R′a−Nll−R′a−N−(R″’ z)
2+(Ra) −N−(R’ gNll) 4−R”a
、 R2−Ntl−R′2+(R,) 、−N−01
1’ 2 (ここで、R,、R’i、R#、、R”’、は水素原子
又は炭素数1〜10の飽和又は不飽和結合を有する鎖状
又は環状の炭化水素基。) ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、N−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、N−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、a−メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第2ブチルアミン、第
3ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンチルアミン、トリペンチルアミン、2−エチルヘ
キシルアミン、アニリン、N、N−ジメチルアニリン、
N、N−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、N−フェ
ニル−1−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、N−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。
a−R′z−Nll−R”2゜R−−CIIN (R’
21−−R”2−N−(R′#2) 2+(Ra)
KN−R′a−Nll−R′a−N−(R″’ z)
2+(Ra) −N−(R’ gNll) 4−R”a
、 R2−Ntl−R′2+(R,) 、−N−01
1’ 2 (ここで、R,、R’i、R#、、R”’、は水素原子
又は炭素数1〜10の飽和又は不飽和結合を有する鎖状
又は環状の炭化水素基。) ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、N−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、N−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、a−メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第2ブチルアミン、第
3ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンチルアミン、トリペンチルアミン、2−エチルヘ
キシルアミン、アニリン、N、N−ジメチルアニリン、
N、N−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、N−フェ
ニル−1−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、N−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。
エーテル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 +10−R,−0−R″、、 110−R,l−0−
R′、−0−R“1,110−R3−旧1Lo」 (ここで、R,、R’、、R″、は炭素数1〜10の飽
和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。
く、 +10−R,−0−R″、、 110−R,l−0−
R′、−0−R“1,110−R3−旧1Lo」 (ここで、R,、R’、、R″、は炭素数1〜10の飽
和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。
)
1.4−ジオキサン、1.2−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、1.2−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは1.2−ブタ
ンジオール、1.4−ジオキサン、1.2−ジメトキシ
エタンである。
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、1.2−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは1.2−ブタ
ンジオール、1.4−ジオキサン、1.2−ジメトキシ
エタンである。
アミン類として好ましくは、a−アミレン、β−アミレ
ン、γ−アミレン、a−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。
ン、γ−アミレン、a−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。
エステル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 R,0−R’、−COOR”4゜ (ここで、R,、R”4.R″、 は水素原子又は炭
素数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。) 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチルである。
く、 R,0−R’、−COOR”4゜ (ここで、R,、R”4.R″、 は水素原子又は炭
素数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。) 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチルである。
有機ホスファイト類としては、次の一般式で示されるも
のが好ましく、(R6O13P、 (R,−R″10
1.P、 (R,0]2FOR’、。
のが好ましく、(R6O13P、 (R,−R″10
1.P、 (R,0]2FOR’、。
(ここでR,、R’6. R″6.R111、は水素原
子又は炭素数1−18の飽和又は不飽和結合を有する鎖
状又は環状の炭化水素基。) トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス(2−
エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリエチルホスファイト、ジフェニルモノ(2−エ
チルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイ
ドロゲンホスファイト、テトラフェニルジブロビレング
リコールベンタエリスリトールテトラホスファイト、ト
リラウリルトリチオホスファイト、ビス(トリデシル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
テアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−ターシャリ
−ブチルフェニル)ホスファイト等から選ばれるもので
ある。より好ましくはビリフェニルホスファイトである
。
子又は炭素数1−18の飽和又は不飽和結合を有する鎖
状又は環状の炭化水素基。) トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス(2−
エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリエチルホスファイト、ジフェニルモノ(2−エ
チルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイ
ドロゲンホスファイト、テトラフェニルジブロビレング
リコールベンタエリスリトールテトラホスファイト、ト
リラウリルトリチオホスファイト、ビス(トリデシル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
テアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−ターシャリ
−ブチルフェニル)ホスファイト等から選ばれるもので
ある。より好ましくはビリフェニルホスファイトである
。
エポキサイド類としては、次の一般式で示されるものが
好ましく、 Rag、 XR−0 (ここで、R6は炭素数1〜8の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。
好ましく、 Rag、 XR−0 (ここで、R6は炭素数1〜8の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。
)
1.2−ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、プ
ロピレンオキサイド、2.3−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは1.2ブチレンオキサイドである。
ロピレンオキサイド、2.3−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは1.2ブチレンオキサイドである。
フラン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (ここでR7、R″v、R″、は炭素数1〜2の飽和及
び/又は不飽和結合を有する炭化水素基。) テトラヒドロフラン、N−メチルビロール、2−メチル
ビロール、3−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはN−メチルビロールである。
く、 (ここでR7、R″v、R″、は炭素数1〜2の飽和及
び/又は不飽和結合を有する炭化水素基。) テトラヒドロフラン、N−メチルビロール、2−メチル
ビロール、3−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはN−メチルビロールである。
ケトン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (R8) zco、 Re−C0−R″a、 (R
aNCO) 2゜Ra−C0N−(R’ a) z、
fR−) aNcON (R″a) −。
く、 (R8) zco、 Re−C0−R″a、 (R
aNCO) 2゜Ra−C0N−(R’ a) z、
fR−) aNcON (R″a) −。
(ここでRa 、R’、、R“a、 R″′6は水素原
子又は炭素数1〜4の飽和又は不飽和結合を有する炭化
水素基。) アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルホルムアミド、N−メチルプロピオンアミド、2−ピ
ロリドン、 N、N、N″、N゛−テトラメチル尿素、
N−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、より
好ましくはメチルエチルケトンである。
子又は炭素数1〜4の飽和又は不飽和結合を有する炭化
水素基。) アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルホルムアミド、N−メチルプロピオンアミド、2−ピ
ロリドン、 N、N、N″、N゛−テトラメチル尿素、
N−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、より
好ましくはメチルエチルケトンである。
トリアゾール類としては次の一般式で示されるものが好
ましく、 R5−N5−R′s、 Re−N5−R′*−0ll
。
ましく、 R5−N5−R′s、 Re−N5−R′*−0ll
。
R#。
X−R9−N5−R″!−R′s、 R9−N−R’
−N−R′9R”’。
−N−R′9R”’。
(ここでR,、R′、、R#、、R’“9は水素原子又
は炭素数l〜16の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又
は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。) 2− (2’ −ヒドロキシ−5゛−メチル−フェニル
)ベンゾトリアゾール、2− (2’ −ヒドロキシ−
3′−ターシャリ−ブチル−5゜−メチルフェニル)−
5−クロロ−ベンゾトリアゾール、1.2.3−ベンゾ
トリアゾール、l−[(N、N−ビス−2−エチルヘキ
シル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール等から選ばれ
るものであり、より好ましくは1,2.3−ベンゾトリ
アゾールである。
は炭素数l〜16の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又
は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。) 2− (2’ −ヒドロキシ−5゛−メチル−フェニル
)ベンゾトリアゾール、2− (2’ −ヒドロキシ−
3′−ターシャリ−ブチル−5゜−メチルフェニル)−
5−クロロ−ベンゾトリアゾール、1.2.3−ベンゾ
トリアゾール、l−[(N、N−ビス−2−エチルヘキ
シル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール等から選ばれ
るものであり、より好ましくは1,2.3−ベンゾトリ
アゾールである。
本発明の混合溶剤組成物は、従来の溶剤と同様の各種用
途に使用でき、特に従来の溶剤単独のものよりプラスチ
ック類に与えるEWが少ない点で有利である。
途に使用でき、特に従来の溶剤単独のものよりプラスチ
ック類に与えるEWが少ない点で有利である。
本発明の混合溶剤組成物の具体的な用途としてはフラッ
クス、グリース、油、ワックス、研磨剤、インキ等の除
去剤、塗料用溶剤、抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス
、プラスチック、ゴム、金属製各種物品等の洗浄及びド
ライクリーニング用溶剤として、特にIC部品、電気機
器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げ
ることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい
。
クス、グリース、油、ワックス、研磨剤、インキ等の除
去剤、塗料用溶剤、抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス
、プラスチック、ゴム、金属製各種物品等の洗浄及びド
ライクリーニング用溶剤として、特にIC部品、電気機
器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げ
ることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい
。
[実施例J
実施例1〜3、比較例1〜2
第1表に示す混合溶剤組成物を用いてフラックスの洗浄
試験を行なった。
試験を行なった。
プリント基板(銅張積層板)全面にフラックス(スパー
クルフラックスPO−F−3(19,千住金属■製)を
塗布し 200℃の電気炉で1分間焼成後、混合溶剤組
成物に1分間浸漬した。フラックスの除去の度合を第1
表に示す。
クルフラックスPO−F−3(19,千住金属■製)を
塗布し 200℃の電気炉で1分間焼成後、混合溶剤組
成物に1分間浸漬した。フラックスの除去の度合を第1
表に示す。
第1表
()内は混合比[重量%]
○:良好に除去できる △:少量残存×:かなり残
存 実施例4、比較例3〜4 第2表に示す混合溶剤組成物を用いて引火点の測定を行
なった。
存 実施例4、比較例3〜4 第2表に示す混合溶剤組成物を用いて引火点の測定を行
なった。
各組成物の所定量をペンスキーマルテンス式引火点測定
器の試料カップに取り、JIS−に2265に定める条
件に従い、引火点を測定した。結果を第2表に示す。
器の試料カップに取り、JIS−に2265に定める条
件に従い、引火点を測定した。結果を第2表に示す。
第2表
()内は混合比[重量%]
[発明の効果]
本発明の混合溶剤組成物は実施例から明らかなように、
洗浄効果の優れたものである。又、従来使用されていた
アルコール類、ケトン類等と同様に適度な溶解力を持つ
ことから、金属、プラスチック及びエラストマーから成
る複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス等を
洗浄することができる。又、実施例から明らかなように
、引火点の無い組成が得られるため、加熱浸漬洗浄、蒸
気洗浄等に於て、特に安全面から有利である。
洗浄効果の優れたものである。又、従来使用されていた
アルコール類、ケトン類等と同様に適度な溶解力を持つ
ことから、金属、プラスチック及びエラストマーから成
る複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス等を
洗浄することができる。又、実施例から明らかなように
、引火点の無い組成が得られるため、加熱浸漬洗浄、蒸
気洗浄等に於て、特に安全面から有利である。
Claims (1)
- 1.トリクロロトリフルオロエタン、イソプロピルアル
コール及びメチルエチルケトンからなる混合溶剤組成物
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14828488A JPH01318094A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 混合溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14828488A JPH01318094A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 混合溶剤組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01318094A true JPH01318094A (ja) | 1989-12-22 |
Family
ID=15449325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14828488A Pending JPH01318094A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 混合溶剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01318094A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03234794A (ja) * | 1990-02-08 | 1991-10-18 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 洗浄用組成物 |
US5562945A (en) * | 1993-04-29 | 1996-10-08 | Olympus Optical Co., Ltd. | Method for post-cleaning finishing drying |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP14828488A patent/JPH01318094A/ja active Pending
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