JPH02185598A - フッ素化炭化水素系混合組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系混
合組成物に関するものである。

［従来の技術］ フッ素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている。例えば、溶
剤として１，１．２−　トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロ
ロモノフルオロメタン（Ｒ１１）が、プロペラントや冷
媒としてジクロロジフルオロメタン（Ｒ１２）が使われ
ている。

［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ１１，Ｒ１２，Ｒ１１３は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このた
め、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。

本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は１，１．２−トリクロロフルオロエタン（Ｒ１
１３）及びハロゲン化炭化水素類からなるフッ素化炭化
水素系混合組成物に関するものである。本発明の混合物
は不燃又は難燃性であるとともに共沸組成が存在し、特
に洗浄溶剤として従来のＲ１１３単体よりも洗浄力が高
いため、Ｒ１１３の代替として極めて有用なものである
。

本発明組成物の混合割合はＲ１１３／　ｔｒａｎｓ−１
，２−ジクロロエチレン／１−クロロプロパン＝４８〜
６６重量％／１７〜２６重量％／１７〜２６重量％、好
ましくは５２〜６２重量％／１９〜２４重量％／１９〜
２４重量％であり、さらに好ましくは共沸組成となる５
７重量％／　２１．５重量％／２１．５重量％である。

又、ＲＬ１３／　ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレ
ン／１．１−ジクロロエタンの混合割合は５７〜７５重
量％／２０〜３０重量％１５〜１３重量％、好ましくは
６０〜７０重量％／２２〜２８重量％／７〜１１重量％
であり、さらに好ましくは共沸組成となる６６重量％／
２５重量％／９重量％である。

又、Ｒ１１３／　ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレ
ン／２−ブロモプロパンの混合割合は、５７〜７５重量
％／２３〜３３重量％／２〜ｌＯ重量％、好ましくは６
０〜７０重量％／２５〜３１重量％／４〜８重量％であ
り、さらに好ましくは共沸組成となる６６重量％／２８
重量％／６重量％である。

前記各共沸組成割合は、混合する化合物の純度の違いに
より約±０．５〜１．０重量％程度変化し得るものであ
る。

本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物を安定化する必
要がある場合には、安定化剤として、ニトロ化合物、フ
ェノール類、アミン類、エーテル類、アミシン類、エス
テル類、有機ホスファイト類、エポキサイド類、フラン
類、アルコール類、ケトン類及びトリアゾール類の群か
ら選ばれる少なくとも１種を添加することができる。添
加量としては特に限定されないが、混合溶剤組成物に対
して１　ｐｐｍ−１０％、好ましくは１０ｐｐｍ〜５％
、さらに好ましくは１１００ｐｐ〜３％である。

ニトロ化合物類としては一般式Ｒ−ＮＯ，（Ｒ：炭素数
１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭
化水素基）で示されるものが好ましく、ニトロメタン、
ニトロエタン、１−ニトロプロパン、２−ニトロプロパ
ン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであり、より好
ましくはニトロメタンである。フェノール類としては下
記一般式で示されるものが好ましく、Ｒ′ （ココテ、Ｒ，、Ｒ′、、Ｒ″、、Ｒ″’　、はＯＨ又
は炭素数１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は
環状の炭化水素基。〕 フェノール、０−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、チモール、ｐ−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、Ｏ−メトキシフェノール、４．４′−ジ
ヒドロキシフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２
．６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、２．６−ジー
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールである。

アミン類としては、下記一般式で示されるものが好まし
く、 Ｒａ−Ｎ（Ｒ″２）２．　（Ｒ２）２−Ｎ（Ｒ’２）２
．　（Ｒ２）２−ＮＲ’２゜（Ｒ２）　２Ｎ−Ｒ’　２
−Ｎ−（Ｒ″ｍ）　２．　　Ｒ２−Ｒ’　２−ＮＨ−Ｒ
”２゜Ｒｚ−ＣＨＮ（Ｒ″２１ｍ−Ｒ”２−Ｎ−（Ｒ”
’　２）２゜（Ｒ２）　２Ｎ−Ｒ’　ｚ−ＮＨ−Ｒ″−
Ｎ−（Ｒ”’　２）２゜（Ｒ２）　Ｊ−（Ｒ’　２ＮＨ
）　４−Ｒ”２．　　Ｒ２−ＮＨ−Ｒ’　２゜（Ｒ２）
２−Ｎ−ＯＲ’ｔ （ここで、Ｒ２、Ｒ″２．Ｒ”２．Ｒ”’、は水素原子
又は炭素数１〜１０の飽和又は不飽和結合を有する鎖状
又は環状の炭化水素基。） ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、Ｎ−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α−メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第２ブチルアミン、第
３ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンジルアミン、トリペンチルアミン、２−エチルヘ
キシルアミン、アニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ−フェ
ニル−１−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、Ｎ−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。

エーテル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 ＨＯ−Ｒ，−０−Ｒ’、、ＨＯ−Ｒ，−０−Ｒ″３−０
−Ｒ”３．ＦＩＯ−Ｒ３−ＯＨ。

（ここで、Ｒ，、Ｒ’、、Ｒ”、は炭素数１〜ｌＯの飽
和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。

） １．４−ジオキサン、１．２−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、１．２−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは１，２−ブタ
ンジオール、１．４−ジオキサン、１．２−ジメトキシ
エタンである。

アミン類として好ましくは、α−アミレン、β−アミレ
ン、γ−アミレン、α−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。

エステル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 ル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エチル、カ
ルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選ばれるも
のであり、より好ましくは酢酸メチルである。有機ホス
ファイト類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく、（Ｒ５０）３Ｐ、　　（Ｒ５−Ｒ’５−０）３Ｐ
、　　（Ｒ５０）２ＰＯＲ′５゜Ｒ４０−Ｒ″４−（：
ＯＯＲ″４゜ （ここで、Ｒ，、Ｒ’４．Ｒ″　は水素原子又は炭素数
１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭
化水素基。） 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル、
アクリ（ここでＲ５，Ｒ′５．　Ｒ５，Ｒ”’　５は水
素原子又は炭素数１〜１８の飽和又は不飽和結合を有す
る鎖状又は環状の炭化水素基。） トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス（２−
エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニルモノ（２−エ
チルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイ
ドロゲンホスファイト、テトラフェニルジプロピレング
リコールベンタエリスリトールテトラホスファイト、ト
リラウリルトリチオホスファイト、ビス（トリデシル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフ
ェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
テアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ターシャリ
−ブチルフェニル）ホスファイト等から選ばれるもので
ある。より好ましくはトリフェニルホスファイトである
。

エポキサイド類としては、次の一般式で示されるものが
好ましく、 Ｒ６０，ＸＲ，０ （ここで、Ｒ６は炭素数１〜８の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Ｘはハロゲン原子。

） １．２−ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、プ
ロピレンオキサイド、２．３−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは１．２ブチレンオキサイドである。

フラン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 （ここでＲ７，Ｒ′７．　Ｒ”７は炭素数１〜２の飽和
及び／又は不飽和結合を有する炭化水素基。） テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルビロール、２−メチル
ビロール、３−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはＮ−メチルビロールである。

ケトン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 （Ｒｓ）２Ｇｏ、　　Ｒｅ−Ｇｏ−Ｒ’　ａ、　（Ｒ８
ＮＣＯ）　２゜Ｒ８−Ｃ０Ｎ−（Ｒ’ｓ）ｚ＋　　（Ｒ
，）２ＮＣＯＮ（Ｒ’８）２゜ド、Ｎ−メチルプロピオ
ンアミド、２−ピロリドン、Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ’−テト
ラメチル尿素、Ｎ−メチルピロリドン等から選ばれるも
のであり、より好ましくはメチルエチルケトンである。

トリアゾール類としては次の一般式で示されるものが好
ましく、 （ここでＲ８，Ｒ’、、Ｒ”８．Ｒ”’　８は水素原子
又は炭素数１〜４の飽和又は不飽和結合を有する炭化水
素基。） アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルホルムアミ（ここでＲｅ　、　Ｒ′９．　Ｒ”９．　
Ｒ”’　ｏは水素原子又は炭素数１〜１６の飽和又は不
飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。Ｘはハロ
ゲン原子。） ２−　（２’　−ヒドロキシ−５°−メチル−フェニル
）ベンゾトリアゾール、２−　（２’ヒドロキシ−３°
−クーシャリ−ブチル−５゜メチルフェニル）−５−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、１２．３−ベンゾトリアゾ
ール、１−（（Ｎ、Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）ア
ミノメチル］ベンゾトリアゾール等から選ばれるもので
あり、より好ましくは１，２．３−ベンゾトリアゾール
である。

本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物は例えば、従来
のＲ１１３と同様の各種用途に使用でき、特にＲ１１３
単独のものより溶解力が優れている点で有利である。

本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物は、従来のフロ
ンと同様、冷媒、発泡剤、プロペラント、溶剤等の各種
用途に使用できる。

溶剤の具体的な用途としてはフラックス、グリース、油
、ワックス、研磨剤、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、
抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス、プラスチック、ゴ
ム、金属製各種物品等の洗浄及びドライクリーニング用
溶剤として、特にＩＣ部品、電気機器、精密機械、光学
レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げることができる。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、・スプレー揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。

［実施例］ 実施例１ 第１表に示した各組成からなる混合物１０００　ｇを各
々、蒸留フラスコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用
い、大気圧下で蒸留を行ない、各々２００の留分を得た
。この時の留出温度は第２表の通りであった。又、この
留分をガスクロマトグラフで測定した結果、第２表の通
りであった。

第　　１　　表 第 表 後、混合溶剤組成物に３分間浸漬した。フラックスの除
去の度合を第３表に示す。

第　　３　　表 実施例２〜４ 第３表に示す本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄
試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（スパー
クルフラックスＰＯ−Ｆ−３０９、千住金属■製）を塗
布し２００℃の電気炉で１分間焼成０：良好に除去でき
る　○：はぼ良好 △：微量残存　　　　　×：かなり残存［発明の効果］ 本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物は、従来のフロ
ンが有している優れた特性を満足しながら該フロンの使
用量低減ができるとともに、共沸点が存在するため、リ
サイクル時に組成変動がない、従来の単一フロンと同じ
使い方ができ、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある。又、溶剤としてよ（使われているＲ１１３単
体よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためＲ
１１３に替わる洗浄溶剤として好適である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. １．１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン、ｔｒ
   ａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン及び１−クロロプロ
   パンからなるフッ素化炭化水素系混合組成物。
2. ２．１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン、ｔｒ
   ａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン及び１，１−ジクロ
   ロエタンからなるフッ素化炭化水素系混合組成物。
3. ３．１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン、ｔｒ
   ａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン及び２−ブロモプロ
   パンからなるフッ素化炭化水素系混合組成物。