JPH0131516B2 - - Google Patents

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JPH0131516B2
JPH0131516B2 JP56106259A JP10625981A JPH0131516B2 JP H0131516 B2 JPH0131516 B2 JP H0131516B2 JP 56106259 A JP56106259 A JP 56106259A JP 10625981 A JP10625981 A JP 10625981A JP H0131516 B2 JPH0131516 B2 JP H0131516B2
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JP
Japan
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JP56106259A
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JPS5810595A (ja
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Kentaro Tamaoki
Shinji Tomioka
Sakio Takahashi
Kazuhiro Tokunaga
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KH Neochem Co Ltd
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Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
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【発明の詳細な説明】
本発明は一般式() (式中、R1は低級アルキル基を、R2は置換もし
くは非置換の低級アルキル基またはアラルキル基
を表わす)で表わされるα―アミノホスホノアセ
テート類またはその酸付加塩の製造法に関する。
さらに詳しくは本発明は一般式() (式中、R1は低級アルキル基を、R2は置換もし
くは非置換の低級アルキル基またはアラルキル基
を、R3はフエニル基、置換フエニル基、ナフチ
ル基または置換ナフチル基を表わす)で表わされ
るアゾ化合物を還元開裂し、必要に応じ常法によ
り酸付加塩とすることを特徴とする一般式()
で表わされるα―アミノホスホノアセテート類ま
たはその酸付加塩の製造法に関する。 α―アミノホスホノアセテート類は、セフアロ
スポリン類縁化合物の合成中間体として有用な化
合物である(例えば、B.G.Christeneen、J.Am.
Chem.Soc.、96、7583、7584(1974).平田正,特
開昭54―128591)。 従来、α―アミノホスホノアセテート類の合成
法としては (1) R.G.Christensen、Tet Lett4645(1973)の
方法 1,3,5―トリベンジルヘキサヒドロ―s
―トリアジンをジエチルホスフアイトと反応さ
せ、得られるN―ベンジルアミノメチルジエチ
ルホスホネートを還元的に脱ベンジル化し、ア
ミノメチルジエチルホスホネートとし、次に該
化合物とベンズアルデヒドとを反応させ、シツ
フ塩基とし、相当するクロロホルメートにより
アルコキシカルボニル化し、最後にベンジリデ
ン基を脱離させ、相当するα―アミノジエチル
ホスホノアセテート類を得る。 (2) D.I.C.Scopes、J.Org.Chem.42、376(1977)
の方法 メチルジエチルホスホノアセテートを水素化
ナトリウムの存在下、o―メシチレンスルホニ
ルヒドロキシルアミンによりアミノ化してメチ
ル―α―アミノジエチルホスホノアセテートを
得る。 (3) G.H.Hakimelahi and G.Just、Syh、
Comm.10,429(1980)の方法 ベンジルアミンとグリオキシル酸エステルか
ら得られるシツフ塩基に水素化ナトリウムの存
在下、アルキルホスフアイトを作用させ、つい
でベンジル基を脱離させ、α―アミノジエチル
ホスホノアセテート類を得る。 の三つの方法が知られている。 ところが、これらの第1の方法は、目的物を得
る工程が長く、煩雑でありかつ収率も低く実用的
な合成法とはいい難い。第2の方法は、アミノ化
剤であるo―メシチレンスルホニルヒドロキシル
アミンが爆発性を有するために、目的物の大量合
成には適さない。第3の方法には原料であるグリ
オキシル酸エステル類の合成が煩雑でありまたこ
の化合物が不安定であるという難点がある。 本発明者らは、α―アミノホスホノアセテート
類の実用的かつ大量合成が可能な製造法について
鋭意検討した。その結果、ホスホノアセテート類
から容易に得られる式()で示されるアゾ化合
物を還元的に開裂することによつて、極めて収率
良くα―アミノホスホノアセテート類が得られる
ことを見い出し本発明を完成した。通常、アゾ化
合物を還元的に開裂するには苛酷な条件を必要と
するが、驚くべき事に式()で示されるアゾ化
合物は極めて穏和な条件下で還元開裂されてα―
アミノホスホノアセテート類を与える。 さらに本発明方法は、前記の(1)、(2)、(3)の方法
に比較して、工程数が少なく収率が良い 爆発性、不安定な原料を使用しない 出発原料の製造が容易などの利点があり、目
的物の工業的製造法として極めて秀れている。 以下に本発明を詳細に説明する。 一般式()中、R1の低級アルキル基とは炭
素数1〜5のアルキル基を意味する。例としてメ
チル、エチル、n―プロピル、n―ブチル等があ
げられる。特にメチル、エチルが好適である。 R2の非置換の低級アルキル基とは、炭素数1
〜5のアルキル基を意味する。例としてメチル、
エチル、i―プロピル、t―ブチル、ネオペンチ
ル等があげられる。特にt―ブチルが適当であ
る。 R2の置換低級アルキル基は上記アルキル基に
置換基のついたものを意味する。置換基としては
ハロゲン例えば塩素原子、臭素原子などがあげら
れる。 R2の例としてβ―トリクロロエチルなどがあ
げられる。アラルキル基としてはベンジル、p―
ニトロベンジルなどがあげられる。 R3の定義中、置換フエニル基としては、o―、
m―もしくはp―トリル、o―m―もしくはp―
ニトロフエニル、o―、m―もしくはp―メトキ
シフエニル、p―スルホフエニル、o―カルボキ
シフエニルなどが適当である。o―、p―位に電
気陰性基を有するものが特に適当である。置換ナ
フチル基としては1―もしくは2―ヒドロキシナ
フチル基等が適当である。 還元方法としては亜鉛末還元および接触還元が
操作性、収率などの点で優れている。亜鉛末還元
による場合、溶媒として好ましくは水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンが用いられ、反応は塩酸、
硫酸、酢酸の存在下に行なわれる。亜鉛末の使用
量はジアゾ化合物に対し等モルないし10倍、反応
時間は30分ないし10時間、反応温度は室温ないし
溶媒の沸点が望ましい。接触還元による場合、触
媒としてパラジウム、白金金属およびこれらの塩
類が、溶媒として水、メチルアルコール、エチル
アルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
アセトン、酢酸エチルなどが用いられる。反応は
中性・酸性・塩基性いずれの条件下でも進行する
が、水溶液中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムの存在下
に行なうのが好ましい。反応温度は室温ないし溶
媒の沸点、反応時間は数分ないし20時間が良い。
還元は常圧下でも充分進行するが加圧下で行なう
ことにより還元に要する時間を短縮することが可
能である。 反応後、生成した目的物であるα―アミノホス
ホノアセテート類は、通常有機化学において用い
られる減圧濃縮、抽出、蒸留等の方法によつて単
離、精製される。 また、α―アミノホスホノアセテート類はアミ
ンの酸付加塩例えば塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩、硝
酸塩、酢酸塩、シユウ酸塩、フマール酸塩、クエ
ン酸塩等の無機および有機等の塩類として単離す
ることもできる。 本発明方法の出発原料であるアゾ化合物は、文
献〔Zhurnal Obshckej Khimii、35、2042
(1965)〕に記載されているかあるいは本発明者ら
によつて見い出された新規化合物であり、ホスホ
ノアセテート類()と芳香族アミンのジアゾニ
ウム塩()とのカツプリングによつて、容易に
製造することができる。 上記方法は本出願人による本出願と同日付の特
許願(1)(発明の名称:新規なアゾ化合物およびそ
の製造法)(特開昭58―10594号公報)に詳細に開
示されているが、以下簡単に説明し、また一具体
例を参考例として掲げる。 一般式()の化合物は一般式()の化合物
と一般式()の化合物とを酸結合剤(炭酸ナト
リウム、ピリジン等)の存在下、水、メタノール
等を溶媒として反応させることにより製造するこ
とができる。 以下、実施例をもつて本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はもとよりこれらに限定される
ものではない。 実施例 1 t―ブチル―α―(o―カルボキシフエニルア
ゾ)ジエチルホスホノアセテート50gをメタノー
ル200gに溶解し、亜鉛末50gを加え、激しく撹
拌しながら酢酸92.5gを60〜70℃で1時間で加え
る。60〜70℃で1時間撹拌したのち冷却し亜鉛末
を別する。液に水165gを加え、炭酸水素ナ
トリウムで中和したのち、生成物をジクロロメタ
ン250gで3回抽出する。ジクロロメタン層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥したのち、減圧下濃縮
し、淡黄色液体のt―ブチル―α―アミノジエチ
ルホスホノアセテート20.7g(収率62%)を得
る。 IR(NaCl)cm-1:3400、2990、1740、1590 NMR(CDCl3)δ(ppm):1.35(6H、t)、1.50
(9H、s)、1.78(2H、s)、3.83(1H、d)、
4.20(4H、dq) 実施例 2 t―ブチル―α―(o―カルボキシフエニルア
ゾ)ジエチルホスホノアセテート50gを酢酸300
g、水75gに溶解し、激しく撹拌しながら亜鉛末
50gを40〜50℃で30分で加える。40〜50℃で1.5
時間撹拌したのち冷却して亜鉛末を別する。
液をトルエン200mlで3回洗浄し、水層を水酸化
ナトリウムで中和したのち、ジクロロメタン500
gで3回抽出する。ジクロロメタン層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥したのち減圧下に溶媒を留去
し、淡黄色液体のt―ブチル―α―アミノジエチ
ルホスホノアセテート19.7g(収率59%)を得
る。このもののIRおよびNMRスペクトルは実施
例1で得られたものとよく一致した。 実施例 3 t―ブチル―α―(o―カルボキシフエニルア
ゾ)ジエチルホスホノアセテート50g、炭酸カリ
ウム17.3gを水250gに溶解し、10%pd/c2.5g
を加え水素加圧下(0.1〜10Kg/cm2)に20〜30℃
で、10時間撹拌する。触媒を去した後、液を
ジクロロメタン200gで3回抽出する。 ジクロロメタン層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち、減圧下に溶媒を留去し、t―ブチル
―α―アミノジエチルホスホノアセテート32.1g
(収率96%)を得る。このもののIRおよびNMR
スペクトルは実施例1で得られたものとよく一致
した。 実施例 4 以下、適当なアゾ化合物を出発原料として用い
て実施例1または3の方法にしたがつてα―アミ
ノジエチルホスホノアセテート類を得た。
【表】 参考例 1 アントラニル酸27g、35%塩酸51.4gおよび水
87gの混合液に、亜硝酸ソーダ14gを30%水溶液
としたものを15℃以下で加えてジアゾニウム塩を
得る。 t―ブチルジエチルホスホノアセテート50gを
メタノール80gに溶解し、氷100g、30%水酸化
ナトリウム87gを加える。 これに、さきのジアゾニウム塩の溶液を5℃以
下で滴下する。5℃以下で1時間撹拌後、酢酸20
gを加える。析出した結晶を取、水洗、乾燥し
てt―ブチル―α―(o―カルボキシフエニルア
ゾ)ジエチルホスホノアセテート67g(収率84.4
%)を得る。m.p.180℃ (分解) 元素分析値 C:51.07%、H:6.21%、N:7.18
% C17H25N2O7Pとしての計算値 C:C:51.00
%、H:6.29%、N:6.99% NMR(CDCl3)δ(ppm):1.41(6H、t)、1.57
(9H、s)、2.21(1H、s)、4.29(4H、q)、
7.05〜8.09(4H、m)、10.31(1H、s)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中、R1は低級アルキル基を、R2は置換もし
    くは非置換の低級アルキル基またはアラルキル基
    を、R3はフエニル基、置換フエニル基、ナフチ
    ル基または置換ナフチル基を表わす)で表わされ
    るアゾ化合物を還元開裂し、必要に応じ常法によ
    り酸付加塩とすることを特徴とする一般式() (式中、R1およびR2は前記と同意義である) で表わされるα―アミノホスホノアセテート類ま
    たはその酸付加塩の製造法。
JP10625981A 1981-07-09 1981-07-09 α−アミノホスホノアセテ−ト類の新規製造法 Granted JPS5810595A (ja)

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JP10625981A JPS5810595A (ja) 1981-07-09 1981-07-09 α−アミノホスホノアセテ−ト類の新規製造法

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JP10625981A JPS5810595A (ja) 1981-07-09 1981-07-09 α−アミノホスホノアセテ−ト類の新規製造法

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Publication Number Publication Date
JPS5810595A JPS5810595A (ja) 1983-01-21
JPH0131516B2 true JPH0131516B2 (ja) 1989-06-26

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JP10625981A Granted JPS5810595A (ja) 1981-07-09 1981-07-09 α−アミノホスホノアセテ−ト類の新規製造法

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Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ZHURNAL OBSHCHEJ KHIMII=1965 *

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JPS5810595A (ja) 1983-01-21

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