JPS5810595A - α−アミノホスホノアセテ−ト類の新規製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式（１） （式中、Ｒ１は低級アルキル基を、Ｒ，ｑ置換もしくけ
非置換の低級アルキル基またはアラルキル基を表わす）
で表わされるα−アミノホスホノアセテート類またはそ
の酸付加塩の製造法に関する。さらに詳しくは本発明は
一般式（１）（式中、Ｒ３は低級アルキル基を、Ｒ２は
置換もしくけ非置換の低級アルキル基またはアラルキル
基を、Ｒ８はフェニル基、置換フェニル基、ナフチル基
または置換ナフチル基を表わす）で表わされるアゾ化合
物を還元開裂し、必要に応じ常法により酸付加塩とする
ことを特徴とする特般式（■）で表わされるα−アミノ
ホスホノアセテート類またはその酸付加塩の製造法に関
する。

α−アミノホスホノアセテート類は、セファロスポリン
類縁化合物の合成中間体として有用表化合物である（例
えば、Ｂ、Ｇ、　Ｃｈｒｉｓｔｅｎｓｅ、ｎ。

Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｓｍ、Ｂｏａ、、！４　、　７ｚｒｓ　
、　　７ｔｒ＋（ｌり７≠）。

平１）正、特開昭１４１−−／λｔ！りｌ）。

従来、α−アミノホスホノアセテート類の合成法として
は （１）　　　Ｒ，Ｃ）、Ｃｈｒｉｓｔｅｎｓｅｎ　、　
　　Ｔｅｔ　　Ｌｅｔｔ　４Ｉ６＄４（／り７３）の方
法 ／、　ｊ、　ｊ−トリベンジルへキサヒドロ−白−トリ
アジンをジエチルホスファイトと反応させ、得られるＮ
−ベンジルアミノメチルジエチルホスホネートを還元的
に脱ベンジル化し、アミノメチルジエチルホスホネート
とし、次に該化合物とベンズアルデヒドとを反応させ、
シップ塩基とし、相当するクロロホルメートによ抄アル
コキシカルボニル化し、最後にぺｙジリデン基を゛脱離
させ、相当するα−アミノジエチルホスホノアセテート
類ヲ得る。

（２）　Ｄ、　１．　Ｃ，８ｃｏｐａｓ　ｔ　Ｊ、　Ｏ
ｒｇ、　Ｃｈｅｍ、　１．２　ｅ３７４（／り７７）の
方法 メチルジエチルホスホノアセテートを水素化ナトリウム
の存在下、０−メシチレンスルホニルヒドロキシルアミ
ンによジアミノ化してメチル−α−アミノジエチルホス
ホノアセテートを得る。

（３１Ｇ、　Ｈ，Ｈａｋｉｍｅｌａｈｉ　ａｎ４　Ｇ、
　Ｊｕｓｔ、　８ｙｎ、　Ｃｏｍｍ。

１０．４Ｉコタ（ｌすｔｏ＞の方法 ベンジルアミンとグリオキシル酸エステルから得られる
シップ塩基に水素化ナトリウムの存在下、アルキルホス
ファイを作用させ、ついでベンジル基を脱離させ、α−
アミノジエチルホスホノアセテート類を得る。

の三つの方法が知られている。

ところが、これらの第７の方法は、目的物を得る工程が
長く、煩雑であシかつ収率も低く実用的な合成法とはい
い−い、第コの方法は、アミノ化剤である０−メシチレ
ンスルホニルヒドロキへアミンが爆発性を有するために
、目的物の大量合成には適さない、第３の方法にＦｉ、
Ｎ料であるグリオキシル酸エステル類の合成が煩雑であ
りまたこの化合物が不安定であるという難点がある。

本発明者らは、α−アミノホスホノアセテート類の実用
的かつ大量合成が可能な製造法について鋭意検討した。

その結果、ホスホノアセテート類から容易に得られる式
（１）で示されるアゾ化合物を還元的に開裂することに
よって、極めて収車良くα−アミノホスホノアセテート
類が得られることを見い出し本発明を完成した。

通常、アゾ化合物を還元的に開裂するには苛酷な条件を
必要とするが、驚くべき事に式（Ｉ）で示されるアゾ化
合物は極めて穏和な条件下で還元開裂されてα−アミノ
ホスホノアセテート類を与える。

さらに本発明方法は、前記のｆｉｌｅ　（２）ｔ　（３
１の方法に比較して、■　工程数が少なく収率が良い■
　爆発性、不安定な原料を使用しない■　出発原料の製
造が容易　などの利点があり、目的物の工業的製造法と
して極めて秀れている。

以下に本発明の詳細な説明する。

一般式（１）中、Ｒ１の低級アルキル基とは炭素数／−
ｊのアルキル基を意味する。例としてメチル、エチル、
ｎ−プロピル、ｎ−ブチル等があげられる。特にメチル
、エチルが好適である。

Ｒ２の非置換の低級アルキル基とは、炭素数ｌ〜！のア
ルキル基を意味する。例としてメチル、エチル、１−−
ｆロビル、ｔ−ブチル、ネオペンチル等があげられる。

特にｔ−ブチルが適当である。

Ｒ２の置換低級アルキル基は上記アルキル基に置換基の
ついたものを意味する。置換基としてトハロゲン例えば
塩素原子、臭素原子などがあげられる。

Ｒ２の例としてβ−トリクロロエチルなどがあげられる
。アラルキル基としてはベンジル、ｐ−ニトロベンジル
などがあげられる。

Ｒ３の定義中、置換フェニル基としては、ｏ−。

ｍ−もしくはｐ−）リル、Ｏ−，ｍ−もしくはｐ−ニト
ロフェニル、Ｏ−、ｍ−もしくはｐ−メトキシフェニル
、ｐ−スルホフェニル、〇−カルボキシフェニルなどが
適当である。０−９ｐ−位に電気陰性基を有するものが
％に適当である。置換ナフチル基としてはｌ−もしくは
２−ヒドロキシナフチル等が適当である。

還元方法としては亜鉛未還元および接触還元が操作性、
収率などの点で優れている。亜鉛未還元による場合、溶
媒として好ましくは水、メタノール、エタノール、イン
グロパノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンが用い
られ、反応は塩酸、硫峻、酢酸の存在下に行なわれる。

亜鉛末の使用量Ｌジアゾ化合物に対し等モルないし１０
倍、反応時間は３０分ないし７０時間、反応温度は室温
ないし溶媒の沸点が望ましい。

接触還元による場合、触媒としてパラジウム、白金金属
およびこれらの塩類が、溶媒として水、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトン、酢酸エチルなどが用いられる０反応は中
性・酸性・塩基性いずれの条件下でも進行するが、水溶
液中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素ナトリウムの存在下に行なうのが好ましい
０反応温度は室温ないし溶媒の沸点、反応時間は数分な
いし２０時間が良い。還元は下 常弓でも充分進行するが加圧下で行なうことにより還元
に要する時間を短縮することが可能である・ 反応後、生成した目的物であるα−アミノホスホノアセ
テート類は、通常有機化学において用いられる減圧濃縮
、抽出、蒸留等の方法によって単離、精製される。

また、α−アミノホスホノアセテート類はアミンの酸付
加塩例えば塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩、硝酸塩、酢酸塩、
シュウ酸塩、フィール酸塩、クヱン酸塩等の無機および
有機弊の塩類として単離することもできる。

本発明方法の出発原料であるアゾ化合物は、本発明者ら
によって見い出された新規化合物であす、ホスホノアセ
テート類（ＩＩＩ）と芳香族アミンのジアゾニウム塩（
ｆＶ）とのカップリングによって、容易に製造すること
ができる。

（Ｒｌｏ）ｚｐｃＨ，ｃｏｏＲ，＋　Ｒｓ下ＮＨ２−Ｒ
３ （１） 上記方法は本出願人による本出願と同日付の特許願（１
、発明の名称：新規なアゾ化合物およびその製造法）に
詳細に開示されているが、以下簡単に説明し、また−具
体例を参考例として掲げる。

一般式（１）の化合物は一般式（１）の化合物と一般式
（ＩＶ）の化合物とを酸結合剤（炭酸ナトリウム、ピリ
ジン郷）の存在下、水、メタノール等を溶媒として反応
させるととによシ製造゛　することができる。

以下、実施例をもって本発明をさらに詳′細に説明する
が、本発明はもとよりこれらに限定されるものではない
。

実施例１゜ （ＥｔＯ）、Ｐ−ＣＨ−ＣＯＯｔＢｕ 占 ＯＯＨ 〇 −（ＥｔＯ）２Ｐ−ＣＨ−ＣＯＯ”Ｂｕ冊２ ｔ−ブチル−α−（０−カルボキシフェニルアゾ）ジエ
チルホスホノアセテート！Ｏｆをメタノールコ００ｆに
溶解し、亜鉛末！Ｏｆを加え、激しく攪拌しながら酢酸
２２ｊｆｔｔＯ〜７０℃で１時間で加える。４ｏ〜７０
℃で１時間攪拌したのち冷却し亜鉛末をＦ別する。ろ液
に水／６１ｆを加え、炭酸水素ナトリウムで中和したの
ち、生成物をジクロロメタン層１０１で７回抽出する。

ジクロロメタン層を無水ａｍナトリウムで乾燥したのち
、減圧下濃縮し、淡黄色液体のｔ−ブチル−α−アミノ
ジエチルホスホノアセテ−トコ０．７ｆ（収率１２１１
Ｇ）を得る。

ＩＲ（ＮａＣｊ）ｃ＊−’：　３４１００．−タデ０．
　　／７４ｃＯ，／ｊりＯＮＭＲ（ＣＤＣｊ、）δ（ｐ
ｐｍ）：　／、ＪＪ（ＡＨ，ｔ）、　／、ＩＯ（りＨ，
８）、ｔ７１（λＨ，８）、Ｊ、ＩＪ（／Ｈ，（１）。

４ＡλＯ（参Ｈ１ａｑ　） 実施例２ ｔ−ブチル−α−（０−カルボキシフェニルアゾ）ジエ
チルホスホノアセテートｊＯｆを酢酸１００？、水７１
９に溶解し、激しく攪拌しながら亜鉛末ｎｏｖを参〇〜
ｊＯ℃で３０分で加える。ｕｏ−ｔｏ℃で４３時間攪拌
したのち冷却して亜鉛末をＦ別する。Ｆ液をトルエンλ
ｏｏｗｔで３回洗浄し、水層を水酸化ナトリウムで中和
したのち、ジクロロメタン！００ｆで３回抽出する。ジ
クロロメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち減
圧下に溶媒を留去し、淡黄色液体のｔ−ブチル−α−ア
ミノジエチルホスホノアセテート１９７ｆ（収率！り繋
）を得る。このもののＩＲおよびＮＭＲスペクトルは実
施例１で得られたものとよく一致した。

実施例３ ｔ−ブ？ルーα−（０−カルボキシフェニルアゾ）ジエ
チルホスホノアセテート１０？、炭酸カリウムｉ’ｙ、
ｓｔを水コｊＯｆに溶解し、１０チｐｄ／ｃ　　ユＩｆ
を加え水素加圧下（ｏ、ｉ〜１０ＫｙａすＫＪＯ〜３０
℃で、ｉｏ時間攪拌する。触媒を炉去した後、Ｆ液をジ
クロロメタン−〇Ｏｆで３回抽出する。

ジクロロメタン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥したの
ち、減圧下に溶媒を留去し、ｔ−ブチル−α−アミノジ
エチルホスホノアセテート３、ｔｚｒ（収率りａｌ）を
得る。このもののＩＲおよびＮＭＲスペクトルは実施例
１で得られたものとよく一致した。

実施例勇 以下、適当なアゾ化合物を出発原料として用いて実施例
／まえはＪの方法にし九がってα−アミノジエチルホス
ホノアセテート類を得た。

参考例ｔ アントラニル酸λ７ｆ、Ｊｊ４塩酸ｊ　／、　４’　ｆ
および水１７１の混合液に、亜硝酸ソーダ／４’ｆを３
０４水溶液としたものをｉｚ℃以下で加えてジアゾニウ
ム塩を得る。

ｔ−ブチルジエチルホスホノアセテートｊＯｆをメタノ
ールｔＯｆに溶解し、氷１ｏｏｔ。

３０％水酸化ナトリウム１７ｆを加える。

これに、さきのジアゾニウム塩の溶液をｊｔ以下で滴下
する。ｊ℃以下で１時間攪拌後、酢酸λＯｆを加える。

析出した結晶をＶ取、水洗、乾燥してｔ−ブチル−α−
（０−カルボキシフェニルアゾ）ジエチルホスホノアセ
テート基７ｆ（収率ｆ仏参１）を得る。　ｍ、ｐ、　／
　Ｉ　０℃（分解） 元素分析値　Ｃ：ｊ／、０７憾、Ｈ：直コｌ嗟、　Ｎニ
ア／ｒ悌ｃ１７Ｈ！ｌＮ１０７Ｐとしての計算値Ｃ：Ｊ
／、００憾　、Ｈ：ムコタ憾　、Ｎ：ムタタ嗟ＮＭＲ（
ＣＤＣｊ、）δ（ｐｐｍ）：　／Ｊ／（４Ｌ　ｔ）、／
、ｊ７（ＰＨＩ　＃　）ｅ　ＪＬ２１　（／Ｔｉｅ　ａ
　）−勇コデ（参ａｔｑ）−７．０ｊ　〜１．０９　（
＄Ｈ，ｍ　）、　１０．Ｊ／　（／Ｈ，ａ　）特許出願
人　（ｌＯλ）協和醗酵工業株式会社代表者本下祝部 手続補正書 昭和５６年　８月２０日 特−許庁長宮殿 １、事件の表示 昭和５６年特許願第１０６２５９号 ２発明の名称 α−アミノホスホノアセテート類の新規製造法λ補正を
する者 事件との関係　特許出願人 郵便番号　Ｚｏ。

住　所　東京都千代田区大手町−丁目６番１号名称　（
１０２）協和醗酵工業株式会社（置：０３−２０１−７
２１１内線２５３）代表者　木下祝部 ４、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ＆補正の内容 （１）４真下７行の［アルキルホスファイ］を１アルキ
ルホスフアイト１１１ＬＨ正ｆｂ。

（２１９１ｉ［０（ＩＶ）式１−Ｒ３−ＮＨ！Ｊｔ−ｒ
Ｒ１−Ｎ；Ｊに訂正する。

＋３１１３頁表−１中「出発化合物」を「出発化合物（
Ｉ）」に訂正する。

（４１１３頁表−１中「Ｄ」を「Ｒ３」に訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式（Ｉ） Ｎ−Ｒ。 （式中、Ｒ１は低級アルキル基を、Ｒ８は置換もしくけ
   非置換の低級アルキル基またはアラルキル基を、Ｒ１は
   フェニル基、置換フェニル基、ナフチル基または置換ナ
   フチル基を表わす）で表わされるアゾ化合物を還元開裂
   し、必要に応じ常法によシ酸付加塩とすることを特徴と
   する一般式（１） ％式％（） （式中、Ｒ１およびＲ１は前記と同意義である）で表わ
   されるα−アミノホスホノアセテート類またはその酸付
   加塩の製造法。