JPS6191181A - エリスロ−3−(3,4−ジヒドロキシフエニル)セリン誘導体の新規合成法 - Google Patents
エリスロ−3−(3,4−ジヒドロキシフエニル)セリン誘導体の新規合成法Info
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- JPS6191181A JPS6191181A JP21221984A JP21221984A JPS6191181A JP S6191181 A JPS6191181 A JP S6191181A JP 21221984 A JP21221984 A JP 21221984A JP 21221984 A JP21221984 A JP 21221984A JP S6191181 A JPS6191181 A JP S6191181A
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- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式CI)
で表わされるエリスロー8−(8,4−ジヒドロキシフ
ェニル)セリン誘導体の製造方法に関する。
ェニル)セリン誘導体の製造方法に関する。
更に詳しくは、一般式〔■〕
〔式中、Rは低級アルキル基を表わす。〕で表わされる
ケト−アミノ酸誘導体を立体選択的に還元することによ
る前記一般式(I)で表わされる、エリスロー8−CB
、4−ジヒドロキシフェニル)セリン誘導体(以下、エ
リスローDOPS誘導体(I)と略称する。)の製造方
法に関する。
ケト−アミノ酸誘導体を立体選択的に還元することによ
る前記一般式(I)で表わされる、エリスロー8−CB
、4−ジヒドロキシフェニル)セリン誘導体(以下、エ
リスローDOPS誘導体(I)と略称する。)の製造方
法に関する。
低級アルキル基としてはたとえば炭素数1〜4のアルキ
ル基(たとえば、メチル基、エチル基、n−プロピル基
、1so−プロピル基、n−ブチル基、1so−ブチル
基、5ec−ブチル基、tert−ブチル基など)が挙
げられる。
ル基(たとえば、メチル基、エチル基、n−プロピル基
、1so−プロピル基、n−ブチル基、1so−ブチル
基、5ec−ブチル基、tert−ブチル基など)が挙
げられる。
ここで立体選択的還元方法としては、例えば金属触媒を
用いる接触還元、金属水素錯化合物を用いる化学還元等
があげられる。
用いる接触還元、金属水素錯化合物を用いる化学還元等
があげられる。
さらに本発明により得られるエリスローDOPS誘導体
CI)を加水分解することにより、式(III) で表わされるエリスロー8−(8,4−ジヒドロキシフ
ェニル)セリン誘導体(以下、エリスローDOPS誘導
体(III)と略称する。)を得ることができる。この
エリスローDOP S誘導体([1)は医薬品の中間体
として有用である。すなわち抗高血圧活性(特開昭50
−49252号公報)として有用であることが知られて
いるラセミまたは光学活性−エリスローDOPSを製造
する上での中間体として極めて有用なものである。
CI)を加水分解することにより、式(III) で表わされるエリスロー8−(8,4−ジヒドロキシフ
ェニル)セリン誘導体(以下、エリスローDOPS誘導
体(III)と略称する。)を得ることができる。この
エリスローDOP S誘導体([1)は医薬品の中間体
として有用である。すなわち抗高血圧活性(特開昭50
−49252号公報)として有用であることが知られて
いるラセミまたは光学活性−エリスローDOPSを製造
する上での中間体として極めて有用なものである。
従来、エリスローDOPS誘導体(1)の製造方法とし
ては、グリシンとピペロナールを塩基性条件下で縮合さ
せ、スレオ/エリスローDOPS誘導体を合成し、(薬
学雑誌。
ては、グリシンとピペロナールを塩基性条件下で縮合さ
せ、スレオ/エリスローDOPS誘導体を合成し、(薬
学雑誌。
67.218(1947))さらに上記スレオ/エリメ
ロ混合物又はその塩の再結晶による分離精製を繰返すか
(特願昭59−27829号明細書)またはクロマト法
による分離精製により(Heterocycles、1
9.1797 (1982))エリスローDOPS誘導
体(III)を得る方法が知られている。
ロ混合物又はその塩の再結晶による分離精製を繰返すか
(特願昭59−27829号明細書)またはクロマト法
による分離精製により(Heterocycles、1
9.1797 (1982))エリスローDOPS誘導
体(III)を得る方法が知られている。
上記公知法では、工+) >ローDOPS誘導体(II
I)を得るためには”1−罫、スレオ/エリメロ混合物
を単離した後、エリ10体の分離を行なうといよ煩雑な
操作を必要とする欠点があった。
I)を得るためには”1−罫、スレオ/エリメロ混合物
を単離した後、エリ10体の分離を行なうといよ煩雑な
操作を必要とする欠点があった。
かかる情況下に、本発明者らは前記式(II)で表わさ
れるケト−アミノ酸誘導体より、エリスローDOPS誘
導体(1)の中間体としても有用な前記一般式(I)で
表わされるエリスローDOPS誘導体を立体選択的に製
造できることを見出し、本発明に至った。
れるケト−アミノ酸誘導体より、エリスローDOPS誘
導体(1)の中間体としても有用な前記一般式(I)で
表わされるエリスローDOPS誘導体を立体選択的に製
造できることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、
■ 前記式CIりで表わされるケト−アミノ酸の金属触
媒を用いる接触還元または、金属水素錯化合物を用いる
化学還元により、立体選択的に前記式(I)で表わされ
るエリ10体を高収率で得られる。
媒を用いる接触還元または、金属水素錯化合物を用いる
化学還元により、立体選択的に前記式(I)で表わされ
るエリ10体を高収率で得られる。
■ 前記式CI)で表わされる化合物の加水分解により
、前記式(1)で表わされる目的物が高収率で得られる
。
、前記式(1)で表わされる目的物が高収率で得られる
。
という知見を得、完成に至フだのである。
゛以下に、下記反応工程に従って本発明の詳細な説明す
る。
る。
(n)
(I)
(In)
■A工程
エリスローDOPS誘導体(I)はケトーアミノ酸銹導
体(n)のカルボニル基を立体選択的に還元することに
より得られる。
体(n)のカルボニル基を立体選択的に還元することに
より得られる。
還元方法として、種々の方法が挙げられるが、好ましい
ものとして、■金属触媒を用いる接触還元法及び、■金
属水素錯化合物を用いる化学還元法が挙げられる。
ものとして、■金属触媒を用いる接触還元法及び、■金
属水素錯化合物を用いる化学還元法が挙げられる。
■接触還元法
化合物〔■〕を不活性溶媒中、接触還元触媒の存在下、
水素ガスと接触させることにより化合物(I)が得られ
る。
水素ガスと接触させることにより化合物(I)が得られ
る。
還元触媒としては、一般に芳香族カルボニル基をカルビ
ノール基に還元するものが適用できるが、望ましいもの
として、酸化白金等の白金系触媒、パラジウム−炭素等
のパラジウム系触媒、ラネーニッケル等のニッケル系触
媒、トリフェニルホスフィノクロロロジウム等のロジウ
ム系触媒等が挙げられる。
ノール基に還元するものが適用できるが、望ましいもの
として、酸化白金等の白金系触媒、パラジウム−炭素等
のパラジウム系触媒、ラネーニッケル等のニッケル系触
媒、トリフェニルホスフィノクロロロジウム等のロジウ
ム系触媒等が挙げられる。
また、不活性溶媒としては、たとえば水、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系
溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系
溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、
酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン等のケトン系
溶媒、及びこれらの任意の混合溶媒を用いることができ
る。反応の進行を促進するために塩酸、硫酸等の酸を反
応液に加えることもできる。その反応温度、水素圧に関
しては、加温加圧条件下も可能であるが、常温常圧条件
で充分反応は進行し、場合によっては、冷却下で行なう
こともできる。
エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系
溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系
溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、
酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン等のケトン系
溶媒、及びこれらの任意の混合溶媒を用いることができ
る。反応の進行を促進するために塩酸、硫酸等の酸を反
応液に加えることもできる。その反応温度、水素圧に関
しては、加温加圧条件下も可能であるが、常温常圧条件
で充分反応は進行し、場合によっては、冷却下で行なう
こともできる。
■化学還元法
化合物〔■〕を不活性溶媒中、金属水素錯化合物と反応
させることによりても目的は達せられる。適用される金
属水素錯化合物としては、例えば、水素化ホウ素ナトリ
ウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素
化合物が望ましい。
させることによりても目的は達せられる。適用される金
属水素錯化合物としては、例えば、水素化ホウ素ナトリ
ウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素
化合物が望ましい。
不活性溶媒としては、たとえば水、メタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、
ジメチルホルムアミド等の溶媒の中から、適当な溶媒を
金属水素錯化合物と組合わせて使用できる。
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、
ジメチルホルムアミド等の溶媒の中から、適当な溶媒を
金属水素錯化合物と組合わせて使用できる。
反応は加温条件下も可能であるが一般的には、室温又は
室温以下の温度で充分進行する。
室温以下の温度で充分進行する。
■B工程
エリスローDOPS誘尋体([)はエステル体(I)の
エステル基を加水分解してカルボキシル基とすることに
より得られる。
エステル基を加水分解してカルボキシル基とすることに
より得られる。
加水分解条件としては、一般のエステルの加水分解条件
の適用が可能であるが、メタノール、エタノール等の極
性溶媒中で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の
水酸化物の濃厚水溶液を加えて、室温または冷却下で反
応を行なうのが望ましい。
の適用が可能であるが、メタノール、エタノール等の極
性溶媒中で、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の
水酸化物の濃厚水溶液を加えて、室温または冷却下で反
応を行なうのが望ましい。
反応終了後は通常の有機化学実験の手法に従って目的物
を単離、精製することができる。
を単離、精製することができる。
また、本発明方法の目的化合物はアミノ酸であるため、
所望に応じてアミノ基の塩酸、硫酸等の無機酸、酢酸、
メタンスルホン酸等の有機酸の酸付加塩、またはカルボ
キシル基のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アン
モニウム塩とすることも可能である。
所望に応じてアミノ基の塩酸、硫酸等の無機酸、酢酸、
メタンスルホン酸等の有機酸の酸付加塩、またはカルボ
キシル基のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アン
モニウム塩とすることも可能である。
古
なお、本発明相法の原料化合物i)は
公知テノ方法〔例えば5yn 、 Commun 、
、 2 +287−242(1972))に従って、ま
たは公知の方法に準じて製造することができる。
、 2 +287−242(1972))に従って、ま
たは公知の方法に準じて製造することができる。
すなわち、たとえば以下に示す反応式にしたがつて製造
することができる。
することができる。
以下に実施例および参考例を挙げて、本発明方法を具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
参考例1 5−(8,4−メチレンジオキシ)フェニル
−4−カルボメトキシオキサゾールの合成α−イソシア
ノ酢酸メチルエステル (B、21のテトラヒドロフラン溶液 (250ml )にトリエチルアミン(59gt)及ヒ
ビベロニル酸クロライド(28,8F)のテトラヒドロ
フラン溶液(40ml )を滴下した後、室温にて2日
間攪拌を続けた。
−4−カルボメトキシオキサゾールの合成α−イソシア
ノ酢酸メチルエステル (B、21のテトラヒドロフラン溶液 (250ml )にトリエチルアミン(59gt)及ヒ
ビベロニル酸クロライド(28,8F)のテトラヒドロ
フラン溶液(40ml )を滴下した後、室温にて2日
間攪拌を続けた。
溶媒を減圧留去後、残渣を酢酸エチルに溶かし飽和食塩
水で洗浄した。酢酸エチル層を分取し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、メタノールより再結晶
して5−(8,4−メチレンジオキシ)フェニル−4−
カルボメトキシオキサゾールを得た。m、p、 1:
(0−182℃参考例23.4−メチレンジオキシベン
ゾイルグリシンメチルエステル(前記式〔■〕において
R=メチル基)の合成 上記参考例1により得られたオキサゾール誘導体(2,
47?)を8N−塩酸(50ml )とメタノール(1
00ml )の混合液に懸濁させ50℃から60Cに加
熱した。2時間後反応液が澄鼾へ液とな・た後、溶媒を
減圧留去した。残渣をメタノール−酢酸エチルから再結
晶し、ケト−アミノ酸エステルの塩酸塩を得た。mp、
170−171℃実施例1 エリスロー8−(8,4−
メチレンジオキシフェニル)セリフメチルエステルの合
成。
水で洗浄した。酢酸エチル層を分取し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、メタノールより再結晶
して5−(8,4−メチレンジオキシ)フェニル−4−
カルボメトキシオキサゾールを得た。m、p、 1:
(0−182℃参考例23.4−メチレンジオキシベン
ゾイルグリシンメチルエステル(前記式〔■〕において
R=メチル基)の合成 上記参考例1により得られたオキサゾール誘導体(2,
47?)を8N−塩酸(50ml )とメタノール(1
00ml )の混合液に懸濁させ50℃から60Cに加
熱した。2時間後反応液が澄鼾へ液とな・た後、溶媒を
減圧留去した。残渣をメタノール−酢酸エチルから再結
晶し、ケト−アミノ酸エステルの塩酸塩を得た。mp、
170−171℃実施例1 エリスロー8−(8,4−
メチレンジオキシフェニル)セリフメチルエステルの合
成。
■ 上記参考例2により得られた、ケト−アミノ酸エス
テルの塩酸塩100q)のメタノール溶液(20+7)
中に、10%パラジウム−炭素(80〜)を加えた後、
水素気流下、常温、常圧にて、2時間攪拌を続けた。触
媒を戸別後、沖液より溶媒を減圧留去することにより、
目的のエリスロー8−(8,4−メチレンジオキシフェ
ニル)セリンメチルエステルの塩酸塩を得た。
テルの塩酸塩100q)のメタノール溶液(20+7)
中に、10%パラジウム−炭素(80〜)を加えた後、
水素気流下、常温、常圧にて、2時間攪拌を続けた。触
媒を戸別後、沖液より溶媒を減圧留去することにより、
目的のエリスロー8−(8,4−メチレンジオキシフェ
ニル)セリンメチルエステルの塩酸塩を得た。
融点 160−161℃(分解)。
nmr (DMSO−d6 ) 、δ(ppm) :8
.68 (s 、8H) 。
.68 (s 、8H) 。
4.17(d、LH)=5.04(b、s、LH)6.
02(S、2H) 6.82(b、d、IHo)6.
8−6.9(m、3H) 8.4(b−se8H)■
上記参考例2により得られた、ケト−アミノ酸エステ
ルの塩酸塩(800mF)のメタノール溶液(18it
t)中に水素化ホウ素ナトリウム(41,7my)のエ
タノール溶液(2ml )を水冷下で滴下し、水冷下の
まま20分間攪拌した。溶媒を減圧留去した後、IN・
塩酸(2g/)を加えた。更にジエチルエーテルを大過
剰加え、析出した結晶を戸数することにより、目的のエ
リスロー8−CB、4−メチレンジオキシフェニル)セ
リンメチルエステルの塩酸塩を得たこの結晶はn m
rスペクトルにおいて、実施例1−■と同一であった。
02(S、2H) 6.82(b、d、IHo)6.
8−6.9(m、3H) 8.4(b−se8H)■
上記参考例2により得られた、ケト−アミノ酸エステ
ルの塩酸塩(800mF)のメタノール溶液(18it
t)中に水素化ホウ素ナトリウム(41,7my)のエ
タノール溶液(2ml )を水冷下で滴下し、水冷下の
まま20分間攪拌した。溶媒を減圧留去した後、IN・
塩酸(2g/)を加えた。更にジエチルエーテルを大過
剰加え、析出した結晶を戸数することにより、目的のエ
リスロー8−CB、4−メチレンジオキシフェニル)セ
リンメチルエステルの塩酸塩を得たこの結晶はn m
rスペクトルにおいて、実施例1−■と同一であった。
参考例3 エリスロー8−(3,4−メチレンジオキ
シフェニル)セリンの合成 エリスロー8−(8,4−メチレンジオキシフェニル)
セリンメチルエステルの塩酸塩(100■)のメタノー
ル溶液(0,7水冷下のまま更に1時間攪拌を続けた後
、IN塩酸で溶液をpH5,5とした。析出した結晶を
枦取し、目的のエリスロー8−(8。
シフェニル)セリンの合成 エリスロー8−(8,4−メチレンジオキシフェニル)
セリンメチルエステルの塩酸塩(100■)のメタノー
ル溶液(0,7水冷下のまま更に1時間攪拌を続けた後
、IN塩酸で溶液をpH5,5とした。析出した結晶を
枦取し、目的のエリスロー8−(8。
4−メチレンジオキシフェニル)セリンを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは低級アルキル基を表わす〕 で表わされるケト−アミノ酸誘導体を立体選択的に還元
することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは前記と同じ意味を有する。〕 で表わされるエリスロ−3−(3,4−ジヒドロキシフ
ェニル)セリン誘導体の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21221984A JPS6191181A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | エリスロ−3−(3,4−ジヒドロキシフエニル)セリン誘導体の新規合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21221984A JPS6191181A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | エリスロ−3−(3,4−ジヒドロキシフエニル)セリン誘導体の新規合成法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6191181A true JPS6191181A (ja) | 1986-05-09 |
Family
ID=16618911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21221984A Pending JPS6191181A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | エリスロ−3−(3,4−ジヒドロキシフエニル)セリン誘導体の新規合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6191181A (ja) |
-
1984
- 1984-10-09 JP JP21221984A patent/JPS6191181A/ja active Pending
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