JPH01308286A - 新規なセフェム化合物 - Google Patents
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、新規なセフェム化合物およびその塩に関す
るものである。
るものである。
きらに詳しく述へると、この発明は、抗菌活性を有する
新規な7−アシルアミノ−3−ビニルセファロスポラン
酸誘導体およびその塩類を製造するための中間体である
新規なセフェム化合物およびその塩に関するものである
。
新規な7−アシルアミノ−3−ビニルセファロスポラン
酸誘導体およびその塩類を製造するための中間体である
新規なセフェム化合物およびその塩に関するものである
。
従って、この発明の目的は、多数の病原性微生物に対し
て優れた抗菌活性を示し、抗菌性薬剤、特に経口投与用
薬剤として有用な新規な7−アシルアミノ−3−ビニル
セファロスポラン酸誘導体およびその医薬上許容きれる
塩類を製造するための中間体である新規なセフェム化合
物およびその塩類を提供することにある。
て優れた抗菌活性を示し、抗菌性薬剤、特に経口投与用
薬剤として有用な新規な7−アシルアミノ−3−ビニル
セファロスポラン酸誘導体およびその医薬上許容きれる
塩類を製造するための中間体である新規なセフェム化合
物およびその塩類を提供することにある。
この発明の目的とするセフェム化合物(I>は新規化合
物であり、下記一般式により表わすことができる。
物であり、下記一般式により表わすことができる。
[式中、Rはカルボキシ基または保護されたカルボキシ
基、 R2は式ニーCH20H,−CH2−X 。
基、 R2は式ニーCH20H,−CH2−X 。
−CH2P■(R3)3・X2e、−CH−P<R3)
3または−CH=CH2 (式中、X およびX はそれぞれハロゲン、R3はア
リール基を意味する)で示される基を意味する] 目的化合物(1’)の適当な塩類としては、慣用の非毒
性塩が含まれ、そのような塩類としては塩基との塩類す
なわち無機□塩基との塩類、例えばナトリウム塩、カリ
ウム塩等のアルカリ蚕属塩、カルシウム塩、マグネシウ
ム塩等のアルカリ土類金属′塩、アンモニウム塩、有機
塩基との塩類、例えば(−リエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノール
アミン塩、シン省、ロヘキンルアミン塩、N、N′ −
シベンシJL、J−チレノンアミン塩等の有機アミン塩
、アルギー、ン等の塩基性アミノ酸との塩類等が含まれ
る。
3または−CH=CH2 (式中、X およびX はそれぞれハロゲン、R3はア
リール基を意味する)で示される基を意味する] 目的化合物(1’)の適当な塩類としては、慣用の非毒
性塩が含まれ、そのような塩類としては塩基との塩類す
なわち無機□塩基との塩類、例えばナトリウム塩、カリ
ウム塩等のアルカリ蚕属塩、カルシウム塩、マグネシウ
ム塩等のアルカリ土類金属′塩、アンモニウム塩、有機
塩基との塩類、例えば(−リエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノール
アミン塩、シン省、ロヘキンルアミン塩、N、N′ −
シベンシJL、J−チレノンアミン塩等の有機アミン塩
、アルギー、ン等の塩基性アミノ酸との塩類等が含まれ
る。
上記および下記の説明において、独々の定義に含まれる
適当な例を詳細に説明すると次の通りである。
適当な例を詳細に説明すると次の通りである。
適当な保iれたカルボキシ基としては、ペニシリンまた
はセファロスポリン化合物の3位またr:I: 4位で
慣用きれるエステル化されたカルボキシエステル化諮れ
たカルボキンにお(Jる適当なエステル部分としては、
メチルエステル、゛エチルエステル、プロピルエステル
、インブチルエステル、ブチルエステル、インブチルエ
ステル、第3級ノチルエステル、ペンチルエステル、第
3級ペンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル
キルエステル、ビニルエステル、゛アリルエステル等の
低級アルケニルエステル、エチニルエステ−3= ル、プロピニルエステル等の低級アルキニルエステル、
メトキシメチルエステル、王トキシメチルエステル、イ
ンプロポキシメチルエステル、1−メトキシエチルエス
テル、1−エトキシエチルエステル等の低級アルコキシ
(低級)アルキルエステル、メチルチオメチルエステル
、エチルチオメチルエステル、エチルチオエチルエステ
ル、イソプロピルチオメチルエステル等の低級アルキル
チオ((Ill)アルキルエステル、2−ヨードエチル
エステル、2,2.2−1リクロロエチルエステル等の
モノ(もしくはジもしくはトリ)ハロ(低級)アルキル
エステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステル、ブチリルオキジメチルエステル、
イソブチリル町キシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ビハじJイルオキシメチルエステル、ヘ
キサノイルオキシメチルエステル、2−アセトキシエチ
ルエステル、2−プロピオニルオキシエチルエステル、
1−アセトキシブロビルエステル等の低級アルカノイル
オキシ(低級)アルキルエステル、メシルメチルエステ
ノ呟 2−少シルエチルエステル等の低級アルカンスル
ホニル(低級)アルキルエステル、ヘキシルエステル、
4−メトキシヘンシルエステル、4−ニトロベンンルエ
ステル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ヘン
スヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチル
エステル、3.4−ノメトキシペンシルエステル、4−
ヒドロキン−3,5−シ第3級ブナルヘンシルー1−ス
テル等の1個または2個以上の適当な置換基を有してい
てもよいモノ(もしくはシーもしくは1− IJ 、)
フェニル(低級)アルキルエステルのような1個または
2個以上の置換基を有していてもよいアル((jl)ア
ルキルエステル、フェニルニスデル、トリルエステル、
第3級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メ
シチルエステル、クメニルエステル、サリチルエステル
等の1個または2個以上′の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル、フタリジルエステル等の複素
環式エステル、カルボキシメチルエステル、1もしくは
2−カルボキシエテルエステル は2もしくは3−カルボキシブチルエステルカルボキン
(低級)アルキルエステル、メトキシカルボニルメチル
エステル、エトキシ力ルポニルイチルエステル、第3級
ブトキシカルボニルメチルエステル、1もしくは2−ブ
トキシカルボニルエチルエステル、1もしくは2もしく
は3−第3級ブトキンカルボニル、プロピルエステル等
の低級アルコキシカルボニル(低級)アルキルエステル
のような保護されたカルボキシ(低級)アルキルエステ
ル等が含まれる。
はセファロスポリン化合物の3位またr:I: 4位で
慣用きれるエステル化されたカルボキシエステル化諮れ
たカルボキンにお(Jる適当なエステル部分としては、
メチルエステル、゛エチルエステル、プロピルエステル
、インブチルエステル、ブチルエステル、インブチルエ
ステル、第3級ノチルエステル、ペンチルエステル、第
3級ペンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル
キルエステル、ビニルエステル、゛アリルエステル等の
低級アルケニルエステル、エチニルエステ−3= ル、プロピニルエステル等の低級アルキニルエステル、
メトキシメチルエステル、王トキシメチルエステル、イ
ンプロポキシメチルエステル、1−メトキシエチルエス
テル、1−エトキシエチルエステル等の低級アルコキシ
(低級)アルキルエステル、メチルチオメチルエステル
、エチルチオメチルエステル、エチルチオエチルエステ
ル、イソプロピルチオメチルエステル等の低級アルキル
チオ((Ill)アルキルエステル、2−ヨードエチル
エステル、2,2.2−1リクロロエチルエステル等の
モノ(もしくはジもしくはトリ)ハロ(低級)アルキル
エステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステル、ブチリルオキジメチルエステル、
イソブチリル町キシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ビハじJイルオキシメチルエステル、ヘ
キサノイルオキシメチルエステル、2−アセトキシエチ
ルエステル、2−プロピオニルオキシエチルエステル、
1−アセトキシブロビルエステル等の低級アルカノイル
オキシ(低級)アルキルエステル、メシルメチルエステ
ノ呟 2−少シルエチルエステル等の低級アルカンスル
ホニル(低級)アルキルエステル、ヘキシルエステル、
4−メトキシヘンシルエステル、4−ニトロベンンルエ
ステル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ヘン
スヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチル
エステル、3.4−ノメトキシペンシルエステル、4−
ヒドロキン−3,5−シ第3級ブナルヘンシルー1−ス
テル等の1個または2個以上の適当な置換基を有してい
てもよいモノ(もしくはシーもしくは1− IJ 、)
フェニル(低級)アルキルエステルのような1個または
2個以上の置換基を有していてもよいアル((jl)ア
ルキルエステル、フェニルニスデル、トリルエステル、
第3級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メ
シチルエステル、クメニルエステル、サリチルエステル
等の1個または2個以上′の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル、フタリジルエステル等の複素
環式エステル、カルボキシメチルエステル、1もしくは
2−カルボキシエテルエステル は2もしくは3−カルボキシブチルエステルカルボキン
(低級)アルキルエステル、メトキシカルボニルメチル
エステル、エトキシ力ルポニルイチルエステル、第3級
ブトキシカルボニルメチルエステル、1もしくは2−ブ
トキシカルボニルエチルエステル、1もしくは2もしく
は3−第3級ブトキンカルボニル、プロピルエステル等
の低級アルコキシカルボニル(低級)アルキルエステル
のような保護されたカルボキシ(低級)アルキルエステ
ル等が含まれる。
適当なハロゲンとしては、クロロ、ブロモ、ヨード等が
含まれる。 ′ 適当なアリールとしては、フェニル等があげられる。
含まれる。 ′ 適当なアリールとしては、フェニル等があげられる。
この発明の目的化合物(I)およびその塩類は例えは、
下記反応式の方法により製造される。
下記反応式の方法により製造される。
亙迭ユ
またはその塩類
またはその塩類
方黄形
またはその塩類
[式中、R1は保護されたカルボキシ基を意味する]
月ロ
[式中、R1およびXlはそれぞれ前と同じ意味]裏抜
1 [式中、R 、R 、およびXlはそれぞれ前と同
し意味] 目的化合物<4 )の製造における方法1ないし4を以
下詳細に説明する。
1 [式中、R 、R 、およびXlはそれぞれ前と同
し意味] 目的化合物<4 )の製造における方法1ないし4を以
下詳細に説明する。
大」靴よ
化合物(I−a)またはその塩類は、化合物(I[)ま
化合物(I[[)を反応させることにより製造きれる。
化合物(I[[)を反応させることにより製造きれる。
化合物(I[>および(I−a)の適当な塩類としては
、化合物(I)について例示したのと同じ塩類が含まれ
る。
、化合物(I)について例示したのと同じ塩類が含まれ
る。
この反応は、モレキュラーシーブやリチウム、ナトリウ
ム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカ
リ土類金属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属
、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、水酸
化すh l)ラム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ
金属、R酸ナトリウム、炭酸カリウム等のR酸アルカリ
金属、炭酸水素ナトリウム、次階水素カリウム等の炭酸
水素アルカリ金属、ナトリウムメトキサイド、ナトリウ
ムエトキサイド、カリウム第3級ブトキサイド等のアル
カリ金属アルコキサイド、酢酸ナトリウム等のアルカン
酸アルカリ金属、トリエチルアミン等のトリアルキルア
ミン、ピリジン、ルチジン、ピコリン等のピリジン化合
物、キノリン等のような有機または無機塩基の存在下に
行なわれるのが好ましい。
ム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカ
リ土類金属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属
、水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、水酸
化すh l)ラム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ
金属、R酸ナトリウム、炭酸カリウム等のR酸アルカリ
金属、炭酸水素ナトリウム、次階水素カリウム等の炭酸
水素アルカリ金属、ナトリウムメトキサイド、ナトリウ
ムエトキサイド、カリウム第3級ブトキサイド等のアル
カリ金属アルコキサイド、酢酸ナトリウム等のアルカン
酸アルカリ金属、トリエチルアミン等のトリアルキルア
ミン、ピリジン、ルチジン、ピコリン等のピリジン化合
物、キノリン等のような有機または無機塩基の存在下に
行なわれるのが好ましい。
この反応は、通常、水、N、N−ジメチルホルムアミド
等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒中で行なわ
れる。
等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒中で行なわ
れる。
反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下ないし加
温下に反応が行なわれる。
温下に反応が行なわれる。
亙迭ス
化合物(I−b)は化合物(I−a>またはその塩類に
カルボキシ保護基を導入することにより製造される。
カルボキシ保護基を導入することにより製造される。
この方法で用いるカルボキシ保護基の導入剤としては、
アルコールまたはそのハライド、スルフエイト、スルフ
エイト、ジアソ化合物等の反応性均等物のようなエステ
ル化剤が含まれる。
アルコールまたはそのハライド、スルフエイト、スルフ
エイト、ジアソ化合物等の反応性均等物のようなエステ
ル化剤が含まれる。
この反応は塩基の存在下に行なうことができ、塩基の適
当な例としては、方法1で述へたものが含まれ、またこ
の反応は、よう化ナトリウム等のよう化金属の存在下に
行なうのが好ましい。
当な例としては、方法1で述へたものが含まれ、またこ
の反応は、よう化ナトリウム等のよう化金属の存在下に
行なうのが好ましい。
この反応は通常N、N−ジメチルホルムアミド、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール等
のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒またはそれら
の混合溶媒中で行なわれる。
ヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール等
のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒またはそれら
の混合溶媒中で行なわれる。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし若干
加温する程度で反応が行なわれる。
加温する程度で反応が行なわれる。
カルボキシ保護基の導入剤としてアルコールを用いる場
合、例えばN、N’ −ジシクロヘキシルカルボンイミ
ド、N−シクロヘキシル−N’ −(4−ジエチルア
ミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N、N′−ジエ
チルカルボジイミド、N。
合、例えばN、N’ −ジシクロヘキシルカルボンイミ
ド、N−シクロヘキシル−N’ −(4−ジエチルア
ミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N、N′−ジエ
チルカルボジイミド、N。
N′−ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチル−N
’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド等
のカルボジイミド化合物、N、N’−カルボニルビス(
2−メチルイミダゾールペンタメチレンケテン−N−シ
クロヘキシルイミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘ
キシルイミン等のケテンイミン化合物、エトキシアセチ
レン、β−クロロビニルエチルエーテル等のオレフィン
もしくはアセチレンエーテル化合物、1−(4−クロロ
ベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−IH−ヘン
ソトリアソール等のN−ヒドロキジヘンソトリアゾール
化合物スルポン酸エステル、トリアルキルホスファイト
もしくはトリフェニルホスフィンと4塩化羨素、ジスル
フィドもしくはレアゼンシカルボキシレート(例えばジ
アゼノンカルボン酸ジエチルエステル)との組合ゼ、ポ
リ燐酸エチル、ポリ燐酸イソプロピル、塩化ホスホリル
、3塩化燐等の燐化合物、塩化チオニル、塩化オキサリ
ル、N−エチルベンズイソキザソリウム塩、N−エチル
−5−フェニルイソオキザソリウムー3ースルホン酸、
ジメチルポルムアミド等のN.N−ン(低級)アルキル
ホルムアミド、N−メチルホルムアミド等のアミド化合
物と塩化チオニル、塩化ホスホリル、ホスゲン等のハロ
ゲン化合物との反応で得られるいわゆるビルスマイヤー
試薬等の縮合剤の存在下に行なうのが好ましい。
’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド等
のカルボジイミド化合物、N、N’−カルボニルビス(
2−メチルイミダゾールペンタメチレンケテン−N−シ
クロヘキシルイミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘ
キシルイミン等のケテンイミン化合物、エトキシアセチ
レン、β−クロロビニルエチルエーテル等のオレフィン
もしくはアセチレンエーテル化合物、1−(4−クロロ
ベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−IH−ヘン
ソトリアソール等のN−ヒドロキジヘンソトリアゾール
化合物スルポン酸エステル、トリアルキルホスファイト
もしくはトリフェニルホスフィンと4塩化羨素、ジスル
フィドもしくはレアゼンシカルボキシレート(例えばジ
アゼノンカルボン酸ジエチルエステル)との組合ゼ、ポ
リ燐酸エチル、ポリ燐酸イソプロピル、塩化ホスホリル
、3塩化燐等の燐化合物、塩化チオニル、塩化オキサリ
ル、N−エチルベンズイソキザソリウム塩、N−エチル
−5−フェニルイソオキザソリウムー3ースルホン酸、
ジメチルポルムアミド等のN.N−ン(低級)アルキル
ホルムアミド、N−メチルホルムアミド等のアミド化合
物と塩化チオニル、塩化ホスホリル、ホスゲン等のハロ
ゲン化合物との反応で得られるいわゆるビルスマイヤー
試薬等の縮合剤の存在下に行なうのが好ましい。
万迭1
化合物(I−c)またはその塩類は、化合物(I−b)
またはその塩類にハロゲン化剤を反応させることにより
製造される。
またはその塩類にハロゲン化剤を反応させることにより
製造される。
この反応に用いられる適当なハロゲン化剤として(」、
3塩化燐、5塩化燐、オキシ塩化燐、3臭化燐、5臭化
燐等の燐ハロゲン化物、塩化チオニル等のハロゲン化チ
オニル、ホスゲン等のヒドロキシ基をハロゲンに変える
ために慣用されるものが用いられる。
3塩化燐、5塩化燐、オキシ塩化燐、3臭化燐、5臭化
燐等の燐ハロゲン化物、塩化チオニル等のハロゲン化チ
オニル、ホスゲン等のヒドロキシ基をハロゲンに変える
ために慣用されるものが用いられる。
この反応は、方法1について述へた有機塩基のような塩
基の存在下に行なうのが好ましい。
基の存在下に行なうのが好ましい。
この反応は、通常メチレンクロライド、クロロホルム、
エチレンクロライド、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、N、N−ジメチルホルムアミド等のこの反応に悪影響
を及ぼきない慣用溶媒、またはこれらの混合物中で行な
われる。
エチレンクロライド、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、N、N−ジメチルホルムアミド等のこの反応に悪影響
を及ぼきない慣用溶媒、またはこれらの混合物中で行な
われる。
反応温度は特に限定きれないが、通常冷却下ないし加温
下に反応が行なわれる。
下に反応が行なわれる。
裏込1
化合物(I−d)は、化合物(I−c)に弐P(R)3
(式中、R3は前と同し意味)で示されるトリ置換ボス
フィンを反応許せ、次いで生成したホスホニウム化合物
に塩基を反応させ、さらに生成したボスポリデン化合物
にホルムアルデヒドを反応さゼることにより製造きれる
。
(式中、R3は前と同し意味)で示されるトリ置換ボス
フィンを反応許せ、次いで生成したホスホニウム化合物
に塩基を反応させ、さらに生成したボスポリデン化合物
にホルムアルデヒドを反応さゼることにより製造きれる
。
この反応において、トリ置換ホスフィンを作用させる場
合、よう化ナトリウム、よう化カリウム、臭化ナトリウ
ム等のアルカリ金属ハライドのような金属ハライドの存
在下に行なうのが好ましい。
合、よう化ナトリウム、よう化カリウム、臭化ナトリウ
ム等のアルカリ金属ハライドのような金属ハライドの存
在下に行なうのが好ましい。
この反応で用いる適当な塩基としては、方法1について
例示したものが含まれる。
例示したものが含まれる。
この反応は、通常N、N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキサイド、メチレンクロライド、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、ジオキサン、アセトン、テトラ
ヒドロフラン、水等のこの反応に悪影響を及ぼ妨ない慣
用溶媒中で行なわれる。
チルスルホキサイド、メチレンクロライド、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、ジオキサン、アセトン、テトラ
ヒドロフラン、水等のこの反応に悪影響を及ぼ妨ない慣
用溶媒中で行なわれる。
反応温度は特に限定きれないが、通常冷却下ないし若干
加温する程度の温度で反応が行なわれる。
加温する程度の温度で反応が行なわれる。
上記方法工ないし4並びにその反応混合物の後処理にお
いて、原料化合物または目的化合物に光学異性体が存在
する場合、これが他の光学異性体に変る場合があるが、
この場合もこの発明に含まれるものとする。
いて、原料化合物または目的化合物に光学異性体が存在
する場合、これが他の光学異性体に変る場合があるが、
この場合もこの発明に含まれるものとする。
目的化合物(I)が遊離カルボキシ基を4位に有する場
合、その基は常法により塩類に変えることができる。
合、その基は常法により塩類に変えることができる。
本発明の化合物(■)またはその塩類は、抗菌剤として
有用な7−アシルアミノ−3−ビニルセファロスポラン
酸の合成中間体として有用である。この7−アシルアミ
ノ−3−ビニルセファロスポラン酸は、例えば後述の参
考例に記載の方法によって本発明の化合物(I)または
その塩類から製造される。
有用な7−アシルアミノ−3−ビニルセファロスポラン
酸の合成中間体として有用である。この7−アシルアミ
ノ−3−ビニルセファロスポラン酸は、例えば後述の参
考例に記載の方法によって本発明の化合物(I)または
その塩類から製造される。
目的化合物(I)の有用性を示すために、本発明の目的
化合物(I)またはその塩類を原料化合物として使用し
て製造される7−アシルアミノ−3−ビニルセファロス
ポラン酸の代表的なものについて抗菌活性を測定した結
果を次に示す。
化合物(I)またはその塩類を原料化合物として使用し
て製造される7−アシルアミノ−3−ビニルセファロス
ポラン酸の代表的なものについて抗菌活性を測定した結
果を次に示す。
試験管内抗菌活性
試験化合物
?−[2−’(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4
−イル)−2−(1−カルボキシエトキシイミノ)アセ
トアミド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)試験方法 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内抗菌活性を
渭1定した。
−イル)−2−(1−カルボキシエトキシイミノ)アセ
トアミド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)試験方法 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内抗菌活性を
渭1定した。
トリプチケース・ソーイ・ブロス(菌数108/mQ
)中で一夜培養した試験菌株の1白金耳を、各濃度の試
験化合物を含むハート・インフュージョン・アガー(H
I寒天)に接種し、37°Cで20時間培養した後、最
低発育阻止濃度(MIC)を< / mQ単位で測定し
た。
)中で一夜培養した試験菌株の1白金耳を、各濃度の試
験化合物を含むハート・インフュージョン・アガー(H
I寒天)に接種し、37°Cで20時間培養した後、最
低発育阻止濃度(MIC)を< / mQ単位で測定し
た。
試験結果
この発明の目的化合物(I)またはその塩類から得られ
る7−アシルアミノ−3−ビニルセファロスポラン酸ま
たはその塩を治療の目的で投与するにあたっては、その
化合物を主成分として含み、これに医薬上許容される担
体、例えば経口、非経口、または外用に適した有機もし
くは無機、固体もしくは液体の賦形薬を加えた慣用製剤
の形で投与できる。このような製剤としては、錠剤、顆
粒剤、散剤、カプセル等の固体、および液剤、げんたく
剤、シロップ、乳剤、レモネード等の液体が含まれる。
る7−アシルアミノ−3−ビニルセファロスポラン酸ま
たはその塩を治療の目的で投与するにあたっては、その
化合物を主成分として含み、これに医薬上許容される担
体、例えば経口、非経口、または外用に適した有機もし
くは無機、固体もしくは液体の賦形薬を加えた慣用製剤
の形で投与できる。このような製剤としては、錠剤、顆
粒剤、散剤、カプセル等の固体、および液剤、げんたく
剤、シロップ、乳剤、レモネード等の液体が含まれる。
きらに、必要に応して、上記製剤中に補助剤、安定剤、
湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マグネンウム、白
土、しよ糖、コーンスターチ、タルク、ステアリン酸、
ゼラチン、寒天、ペクチン、ピーナツ油、オリーブ油、
カカオ脂、エチレンクリコール等の繁用される添加物を
含有させることができる。
湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マグネンウム、白
土、しよ糖、コーンスターチ、タルク、ステアリン酸、
ゼラチン、寒天、ペクチン、ピーナツ油、オリーブ油、
カカオ脂、エチレンクリコール等の繁用される添加物を
含有させることができる。
7−アンルアミノ−3−ビニルセファロスポラン酸の投
与量は、患者の年令、状態、疾病の種類、および投与化
合物の種類により異なるが、−般に1日当り1mgない
し約4000mgまたはそれ以上の凰を患者に投与でき
る。1回の平均投与量としては、上記化合物を約50m
g、100mg、250mg、500mg、1000m
g、2000mgを、病原性微生物による疾病の治療に
用いることができる。
与量は、患者の年令、状態、疾病の種類、および投与化
合物の種類により異なるが、−般に1日当り1mgない
し約4000mgまたはそれ以上の凰を患者に投与でき
る。1回の平均投与量としては、上記化合物を約50m
g、100mg、250mg、500mg、1000m
g、2000mgを、病原性微生物による疾病の治療に
用いることができる。
次に、この発明を実施例により詳細に説明する。
実施例1
7−アミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セーフ、、ム
4−カルボン酸(9,21g)を水(zoomc )
に懸濁し、ジシクロヘキシルアミン(7g)により中和
してpH7,5とした。この溶液にサリチルアルテヒド
(5,42g)を滴下した。常温で2時間攪拌した後、
析出した沈殿を濾取、乾燥して、7−サリチリデンアミ
ノ−3−ヒドロキシメチル−3−ヒフエム−4−カルボ
ン酸ジシクロヘキシルアミン塩(17,4g)を得た。
4−カルボン酸(9,21g)を水(zoomc )
に懸濁し、ジシクロヘキシルアミン(7g)により中和
してpH7,5とした。この溶液にサリチルアルテヒド
(5,42g)を滴下した。常温で2時間攪拌した後、
析出した沈殿を濾取、乾燥して、7−サリチリデンアミ
ノ−3−ヒドロキシメチル−3−ヒフエム−4−カルボ
ン酸ジシクロヘキシルアミン塩(17,4g)を得た。
IR(ヌジョール) 、 3300. 1780.
1640. 1560 cm−INMR8ppm (
DMSO−d6) :0.9−2.2 (22H,m)
、 3.5(2H,ブロード s)、 4.2 (
2H,m>、 5.15(IH,d、J=5)1z)
、5.5 (1)1.d、J=5Hz>。
1640. 1560 cm−INMR8ppm (
DMSO−d6) :0.9−2.2 (22H,m)
、 3.5(2H,ブロード s)、 4.2 (
2H,m>、 5.15(IH,d、J=5)1z)
、5.5 (1)1.d、J=5Hz>。
6.8−7.8 (4H,m)、 8.8 (18,s
)実施例2 実施例1の方法に準して、7−アミノ−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(,10g)を
ヘンスアルテヒ、ド(j、 2 g )およびジシクロ
ヘキシルアミン(7,25g)と水(200m琵)中で
反応きせることにより、7−ベンジリデンアミノ−3−
ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸シン
クロヘキシルアミン塩(15g)を得た。
)実施例2 実施例1の方法に準して、7−アミノ−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(,10g)を
ヘンスアルテヒ、ド(j、 2 g )およびジシクロ
ヘキシルアミン(7,25g)と水(200m琵)中で
反応きせることにより、7−ベンジリデンアミノ−3−
ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸シン
クロヘキシルアミン塩(15g)を得た。
IR(ヌ九−ル) : 3300. 1780.
1650. 1560 cm’−21= NMRl; ppm (DMSO−d6) : 0.9
−2.2 (22H,m>、 3.5(2H,ブロード
s)、 4.15 (2H,ABq。
1650. 1560 cm’−21= NMRl; ppm (DMSO−d6) : 0.9
−2.2 (22H,m>、 3.5(2H,ブロード
s)、 4.15 (2H,ABq。
J−14Hz)、5.15 (IH,d、J=5Hz
)、5.5(IH,d、、T=5Hz)、 7.3−
8.1 (5H,m)。
)、5.5(IH,d、、T=5Hz)、 7.3−
8.1 (5H,m)。
8.55 (IH,、s>
実施例3
7−ケリテリテンアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸シンクロヘキシルアミン塩(
3g)の酢酸エチル(,60mQ)中貼i%7mにP−
トルエンスルホン酸(1,1g)の酢酸エチル溶液を攪
拌下に滴下し、常温で1時間攪拌した。沈殿を濾去した
後、濾液を過剰のジフェニルシアツメタンの酢酸エチル
溶液で1時間処理した。溶媒を留去し、残渣をジイソプ
ロビルエーテル中で粉末化し、濾取した後乾燥して、7
−サリチリデンアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ヘンスヒドリルエステル(2,
66g)を得た。
セフェム−4−カルボン酸シンクロヘキシルアミン塩(
3g)の酢酸エチル(,60mQ)中貼i%7mにP−
トルエンスルホン酸(1,1g)の酢酸エチル溶液を攪
拌下に滴下し、常温で1時間攪拌した。沈殿を濾去した
後、濾液を過剰のジフェニルシアツメタンの酢酸エチル
溶液で1時間処理した。溶媒を留去し、残渣をジイソプ
ロビルエーテル中で粉末化し、濾取した後乾燥して、7
−サリチリデンアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ヘンスヒドリルエステル(2,
66g)を得た。
IR(ヌジョール) : 3470. 1760.
1700. 1620 cm−INMRδppm
(DMSO−d6) ’ 3.7 (2H,s)、 4
.3 (2H。
1700. 1620 cm−INMRδppm
(DMSO−d6) ’ 3.7 (2H,s)、 4
.3 (2H。
s)、 5.15 (IH,ブロード>、 3.
8 (IH,d。
8 (IH,d。
J=5)1z)、 5.71 (LH,d、J=5
Hz>、 6.96(LH,s)、 7.0−7.
7 (14H,m>、 8.8(LH,s) 実施例4 7−ケリチリテンアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−
セフェム−4−カルリボン酸ヘンスヒドリルすステル(
1,01g)を塩化メチレン(tomQ)に溶解して一
30°Cに冷却した。この溶液に五塩化リン(0,46
g)を加え、次いでピリジン(0,18mQ )を加え
た。反応混合物を−30〜−20°Cで1時間攪拌した
後、氷水中に注いだ。分離した有機層を取り、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して、7−サリチリ
デンアミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ヘンスヒドリルエステル(0,9g)を得た。
Hz>、 6.96(LH,s)、 7.0−7.
7 (14H,m>、 8.8(LH,s) 実施例4 7−ケリチリテンアミノ−3−ヒドロキシメチル−3−
セフェム−4−カルリボン酸ヘンスヒドリルすステル(
1,01g)を塩化メチレン(tomQ)に溶解して一
30°Cに冷却した。この溶液に五塩化リン(0,46
g)を加え、次いでピリジン(0,18mQ )を加え
た。反応混合物を−30〜−20°Cで1時間攪拌した
後、氷水中に注いだ。分離した有機層を取り、水および
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して、7−サリチリ
デンアミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ヘンスヒドリルエステル(0,9g)を得た。
IR(ヌジヲール) : 1775. 1710.
1605゜1560(S)cm−1 N’MRδppm (DMSO−d6) : 3.85
(2H,ABq、J=18Hz>。
1605゜1560(S)cm−1 N’MRδppm (DMSO−d6) : 3.85
(2H,ABq、J=18Hz>。
4.55 (2H,s、)、 5.40−(LH,
s)、 5.50(IH,d、J=5Hz)、5.8
5 (LH,d、J=5Hz>。
s)、 5.50(IH,d、J=5Hz)、5.8
5 (LH,d、J=5Hz>。
7.05 (1,H,s)、 7.2−7.8
(14H,m>。
(14H,m>。
8.95 (LH,s)
実施例5
7−サリチリデンアミノ−3−クロロメチル=3−セフ
ェム−4−カッにボン酸ヘンスヒドリルエステル(4g
)のンメチルホルムアミド(tomQ )冷溶液にトリ
フェニルホスフィン(2,2g)およO・ヨウ化ナトリ
ウムを攪拌下に加えた。常温で2時間攪拌した後、反応
混合物をイソプロピルアル−+ −、++−(250m
Q )中に注ぎ、析出した固体(6,7島)を濾取した
。この固体の塩化メチレン(tomQ )および水(5
mQ)溶液を攪拌しながら、ホルムアルテヒド36%水
溶液(174mc )を加えた。反応混合物を炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液でpH90に調整した。常温で1
時間攪拌した後、分離した有機層を水および塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去して、7−サリチリゾンアミノ
ー3−ビニル−3−セフェム−4−カルリボン酸ヘンス
ヒドリルすステル(3g)を得た。
ェム−4−カッにボン酸ヘンスヒドリルエステル(4g
)のンメチルホルムアミド(tomQ )冷溶液にトリ
フェニルホスフィン(2,2g)およO・ヨウ化ナトリ
ウムを攪拌下に加えた。常温で2時間攪拌した後、反応
混合物をイソプロピルアル−+ −、++−(250m
Q )中に注ぎ、析出した固体(6,7島)を濾取した
。この固体の塩化メチレン(tomQ )および水(5
mQ)溶液を攪拌しながら、ホルムアルテヒド36%水
溶液(174mc )を加えた。反応混合物を炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液でpH90に調整した。常温で1
時間攪拌した後、分離した有機層を水および塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去して、7−サリチリゾンアミノ
ー3−ビニル−3−セフェム−4−カルリボン酸ヘンス
ヒドリルすステル(3g)を得た。
’IR(ヌジョール) : 1770. .171
0. 1620゜1580 (s) c、m−’ NMRl; ppm (DMSO−d6) : 3.8
5 (2H,ABq、J=18Hz>。
0. 1620゜1580 (s) c、m−’ NMRl; ppm (DMSO−d6) : 3.8
5 (2H,ABq、J=18Hz>。
5.30 (LH,d、J=11)1z)、 5.42
(IH,d。
(IH,d。
J=5)1z)、 5.65 (LH,d、J=18H
z>、 5.75(LH,d、J=5Hz)、 6.9
0 (LH,dd、J=11゜18H4)、 7.05
(LHls)、 7.2−7.9(14H。
z>、 5.75(LH,d、J=5Hz)、 6.9
0 (LH,dd、J=11゜18H4)、 7.05
(LHls)、 7.2−7.9(14H。
m)、 8.95(LH,s)
参考例1
7−サリチリデンアミノ−3−ビニル−3−セフェム−
4−カルボン酸ヘンスヒドリルエステル(1,6g)の
塩化メチレン(2omQ)およびアニソール(s mQ
)中溶液にトリフルオロ酢酸(6mQ )を攪拌下に滴
下し、常温で1時間攪拌した。
4−カルボン酸ヘンスヒドリルエステル(1,6g)の
塩化メチレン(2omQ)およびアニソール(s mQ
)中溶液にトリフルオロ酢酸(6mQ )を攪拌下に滴
下し、常温で1時間攪拌した。
反応混合物をンイソブロピルエーテル中に注ぎ、沈殿を
濾取して水中に懸濁し、次いで炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液でpo3.sに調整した。固体を濾取して、7−
アミノ−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸(
0,4g)を得た。
濾取して水中に懸濁し、次いで炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液でpo3.sに調整した。固体を濾取して、7−
アミノ−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸(
0,4g)を得た。
IR(ス九−ル) ’ 1800. 1605
cm−’参考例2 7−(5−アミノ−5−カルボキンペンタンアミド)−
3−ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム(10r)の水(5omQ)およびアセトン
(、30mQ )中溶液にクロロぎ酸エチル(7,IQ
、)を加え、7〜8°Cで45分間攪拌した。この間炭
酸カリウム40%水溶液によりpH値を78〜8に維持
した。この溶液にンフェニルジアツメクン(14,7g
)の酢酸エチル(122mQ )溶液を加え、常温で1
時間攪拌した。この間pH値を6N塩酸で25に維持し
た。有機層を分離して塩化ナトリウム水溶液で洗浄した
。溶媒を留去して得た残渣をアセトン(30mQ )に
溶解した。このアセトン溶液をジイソプロピルエーテル
(3oomQ)に加え、析出した沈殿を濾取して、7−
(5−ヘンスヒドリルオキンカルボニル−5−エトキン
カッしボニルアミノペンタンアミド)−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸ヘンズヒドリル
エステル(18,15g ) 1%た。
cm−’参考例2 7−(5−アミノ−5−カルボキンペンタンアミド)−
3−ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム(10r)の水(5omQ)およびアセトン
(、30mQ )中溶液にクロロぎ酸エチル(7,IQ
、)を加え、7〜8°Cで45分間攪拌した。この間炭
酸カリウム40%水溶液によりpH値を78〜8に維持
した。この溶液にンフェニルジアツメクン(14,7g
)の酢酸エチル(122mQ )溶液を加え、常温で1
時間攪拌した。この間pH値を6N塩酸で25に維持し
た。有機層を分離して塩化ナトリウム水溶液で洗浄した
。溶媒を留去して得た残渣をアセトン(30mQ )に
溶解した。このアセトン溶液をジイソプロピルエーテル
(3oomQ)に加え、析出した沈殿を濾取して、7−
(5−ヘンスヒドリルオキンカルボニル−5−エトキン
カッしボニルアミノペンタンアミド)−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸ヘンズヒドリル
エステル(18,15g ) 1%た。
IR(ヌジa−ル) ’ 3300. 1780.
1720. 1670 cm−’NMRδppm
(DMSO−d6/D20) :1.15 (3H,t
。
1720. 1670 cm−’NMRδppm
(DMSO−d6/D20) :1.15 (3H,t
。
J=7Hz)、 1.43−2.37 (61(、m)
、 3.4−3.73 (3H,m>、 4.03 (
2H,q、J=7Hz)。
、 3.4−3.73 (3H,m>、 4.03 (
2H,q、J=7Hz)。
4.27 (3H,m)、 5.1/3 (IH,d、
J=5Hz>。
J=5Hz>。
5.71 (LH,dd、J=8.5Hz)、 6.8
3 (IH。
3 (IH。
s)、 6.97 (1)1.s)、 7.17−7.
7 (21H。
7 (21H。
m)、 8.85 (LH,d、J=8Hz>参考例3
7’−(5−ヘンスヒドリルオキンカルボニル−5−エ
トキシカルボニルアミノペンタンアミド)−3−ヒドロ
キンメチル−3−セフェム−4−力ルボン酸ヘン又ヒド
リルエステル(18g )、(7)塩化エチレン(18
0mQ)溶液に五塩化リン(4,82g)およびビリノ
ン(1,83g )を−30〜−35℃で加えた。30
分間攪拌した後、水(180mQ)を加え、有機層を分
離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。溶媒を留去し
、残渣をN、N−ジメチルホルムアミド(39m+1.
)に溶解した。この溶液にトリフェニルホスフィン(6
,66g)とヨウ化ナトリウム(3,8,1g)を常温
で加えた。1時間攪拌した後、混合物をンイソプロビル
アルコール(1000mQ )に0〜5°Cで加え、1
時間放置した。沈殿を濾取し、ンイソプロビルアルコー
ルで洗浄し、次いで塩化エチレン(160mQ)に溶解
した。この溶液に水(353mQ)とホルムアルデヒド
36%水溶液を加え、常温で70分間攪拌した。台の間
40%次酸カリウム水溶液でpH値を90に維持した。
トキシカルボニルアミノペンタンアミド)−3−ヒドロ
キンメチル−3−セフェム−4−力ルボン酸ヘン又ヒド
リルエステル(18g )、(7)塩化エチレン(18
0mQ)溶液に五塩化リン(4,82g)およびビリノ
ン(1,83g )を−30〜−35℃で加えた。30
分間攪拌した後、水(180mQ)を加え、有機層を分
離し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。溶媒を留去し
、残渣をN、N−ジメチルホルムアミド(39m+1.
)に溶解した。この溶液にトリフェニルホスフィン(6
,66g)とヨウ化ナトリウム(3,8,1g)を常温
で加えた。1時間攪拌した後、混合物をンイソプロビル
アルコール(1000mQ )に0〜5°Cで加え、1
時間放置した。沈殿を濾取し、ンイソプロビルアルコー
ルで洗浄し、次いで塩化エチレン(160mQ)に溶解
した。この溶液に水(353mQ)とホルムアルデヒド
36%水溶液を加え、常温で70分間攪拌した。台の間
40%次酸カリウム水溶液でpH値を90に維持した。
有機層−27=
を分離し、塩化ナトl)ラム水溶液で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をアセトン(
30mQ )に溶解した。このアセトン溶液をジイソプ
ロピルエーテル(300mQ )に加えた。
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をアセトン(
30mQ )に溶解した。このアセトン溶液をジイソプ
ロピルエーテル(300mQ )に加えた。
析出した沈殿を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄
して、?−(5−ヘンズヒドリルオキジ力ルポニル−5
−エトキシカルボニルアミノペンタンアミド)−3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸ヘンスヒドリルエ
ステル(9,82g)t[た。
して、?−(5−ヘンズヒドリルオキジ力ルポニル−5
−エトキシカルボニルアミノペンタンアミド)−3−ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボン酸ヘンスヒドリルエ
ステル(9,82g)t[た。
IR(スジョール) : 1780. 1715.
1680 cm−1HMRδppm’ (DMSO
−da/D’zO) ’ 1.17 (3H,t。
1680 cm−1HMRδppm’ (DMSO
−da/D’zO) ’ 1.17 (3H,t。
JニアHz)、 1.Q−2,47(68,m)、
3.4−3.9 (3Lm)、 4.03 (2H,
q、J=7Hz>、 −5,22(LH,d、J=5
Hz)、 5.39 (LH,d。
3.4−3.9 (3Lm)、 4.03 (2H,
q、J=7Hz>、 −5,22(LH,d、J=5
Hz)、 5.39 (LH,d。
J=11Hz、)、、 5.65 (LH,dJ−1
8Hz)。
8Hz)。
5.78 (LH,dd、J=8. 5Hz)、 5
.82(LH,dd、J=18. 11Hz)、 6
.83 (IH。
.82(LH,dd、J=18. 11Hz)、 6
.83 (IH。
s)、 700 (LH,s)、 7.17−7.
9 (21H。
9 (21H。
m)、 8.90 (LH,d、J−8Hz>9Q−
=28−
参考例4
五塩化リン(7,s7g)の塩化エチレン(47,75
mQ )溶液にピリジン(2,’99g)を5〜6℃で
加えた。30分間攪拌した後、7−(5−ヘンスヒドリ
ルオキシカルポニル−5−エトキシカルボニルアミノペ
ンタンアミドド フェム−4−カルボン酸ヘンスヒドリルエステル(9.
75g)を加えた。5〜6℃で2時間攪拌した後、−3
0〜−20″′Cに冷却し、混合物を2−メトキシエタ
ノール(7.67mσ)で1.5時間処理し、次いで水
( 10mQ )で1時間処理した。沈殿を濾取し、酢
酸エチルおよびンイソプロビルアルコールで洗浄して、
7−アミノ−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン
酸ヘンズヒドリルエステル塩酸塩( 1.99g )を
得た。
mQ )溶液にピリジン(2,’99g)を5〜6℃で
加えた。30分間攪拌した後、7−(5−ヘンスヒドリ
ルオキシカルポニル−5−エトキシカルボニルアミノペ
ンタンアミドド フェム−4−カルボン酸ヘンスヒドリルエステル(9.
75g)を加えた。5〜6℃で2時間攪拌した後、−3
0〜−20″′Cに冷却し、混合物を2−メトキシエタ
ノール(7.67mσ)で1.5時間処理し、次いで水
( 10mQ )で1時間処理した。沈殿を濾取し、酢
酸エチルおよびンイソプロビルアルコールで洗浄して、
7−アミノ−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン
酸ヘンズヒドリルエステル塩酸塩( 1.99g )を
得た。
IR (ヌジシール) : 1760, 17
05. 1580 am−1参考例5 オキシ塩化リン( 1. 2gmQ)およびN,N−ジ
メチルホルムアミド( 1. 06mQ )からテトラ
ヒドロフラン(35mQ)中で常法によりビルスマイヤ
ー試薬を調製した。この懸濁液に2−ヘンスヒドリルオ
キンカルボニルメ1〜キンイミノ−2−(2−ポルムア
ミドチアソール−4−イル)酢酸(シン異性体)(5g
)を水冷下に加え、同温度で30分間攪拌して、活性酸
溶液を製造した。この溶液を7−アミノ−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸ヘンズヒドリルエステル
塩酸塩(4,89g)およびトリメチルシリルアセトア
ミド(9,2g)の酢酸エチル(4omQ)溶液に一2
0°Cで加え、次いで−20〜−10°Cで1時間攪拌
した。反応混合物に、水と酢酸エチルを加えた後、分離
した有機層を取り、炭酸ナトリウム5%水溶液および塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して、7−[2−ペンスヒドリ
ルオキシカルポニルメトキシイミノ−2−(2−ボルム
アミドチアソール−4−イル)アセトアミドヨー3−ビ
ニル−3−セフェム−4−力ルボン酸ヘンスヒドリルエ
ステル(シン異性体)(8,7g)を得た。
05. 1580 am−1参考例5 オキシ塩化リン( 1. 2gmQ)およびN,N−ジ
メチルホルムアミド( 1. 06mQ )からテトラ
ヒドロフラン(35mQ)中で常法によりビルスマイヤ
ー試薬を調製した。この懸濁液に2−ヘンスヒドリルオ
キンカルボニルメ1〜キンイミノ−2−(2−ポルムア
ミドチアソール−4−イル)酢酸(シン異性体)(5g
)を水冷下に加え、同温度で30分間攪拌して、活性酸
溶液を製造した。この溶液を7−アミノ−3−ビニル−
3−セフェム−4−カルボン酸ヘンズヒドリルエステル
塩酸塩(4,89g)およびトリメチルシリルアセトア
ミド(9,2g)の酢酸エチル(4omQ)溶液に一2
0°Cで加え、次いで−20〜−10°Cで1時間攪拌
した。反応混合物に、水と酢酸エチルを加えた後、分離
した有機層を取り、炭酸ナトリウム5%水溶液および塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して、7−[2−ペンスヒドリ
ルオキシカルポニルメトキシイミノ−2−(2−ボルム
アミドチアソール−4−イル)アセトアミドヨー3−ビ
ニル−3−セフェム−4−力ルボン酸ヘンスヒドリルエ
ステル(シン異性体)(8,7g)を得た。
IR(スジョール) : 3250. 1780.
1720. 1680゜1620、1540 cm−
1 NMRE ppm (DMSO−d6) ’ 3.70
(2H,m)、 4.95(2H,ブロード s)、
5.25 (IH,d、J=5Hz)。
1720. 1680゜1620、1540 cm−
1 NMRE ppm (DMSO−d6) ’ 3.70
(2H,m)、 4.95(2H,ブロード s)、
5.25 (IH,d、J=5Hz)。
5.26 (IHld、J=11Hz)、 5.5
0 (LH,d。
0 (LH,d。
J=18Hz)、 5.95 (IH,dd、J=
5. 8Hz)、。
5. 8Hz)、。
6.78 (IH,dd、J=11. L8Hz)
、 6.90(LH,s)、 6..95 (L
H,s)、 7.2−7.7<11)1.m)、
s、so (LH,s)、 9.72 (LH。
、 6.90(LH,s)、 6..95 (L
H,s)、 7.2−7.7<11)1.m)、
s、so (LH,s)、 9.72 (LH。
d、J=8Hz)
参2■乳五
7−[2−ペンスヒドリルオキシカルポニルメトキンイ
ミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
アセトアミドヨー3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ヘンスヒドリルエステル(シン異性体) (8,
14g )のメタノール(50mQ )およびテトラヒ
ドロフラン(10mQ、)溶液に、攪拌しながら35%
塩酸(2,3m1)を加えた。30℃で1時間攪拌した
後、反応混合物を氷水中に注ぎ、炭酸水素ナトリウム飽
和水溶液でpH3,5に調整した。析出した沈殿を濾取
、乾燥して、7−[2−ヘンスヒドリルオキシカルボニ
ルメトキシイミノ−2−(2−アミノチアソール−4−
イル)アセトアミドヨー3−ビニル−3−セフェム−4
−カルリボン酸ヘンス゛ヒドリルエステル異性体) (
7.08g )を得た。
ミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
アセトアミドヨー3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ヘンスヒドリルエステル(シン異性体) (8,
14g )のメタノール(50mQ )およびテトラヒ
ドロフラン(10mQ、)溶液に、攪拌しながら35%
塩酸(2,3m1)を加えた。30℃で1時間攪拌した
後、反応混合物を氷水中に注ぎ、炭酸水素ナトリウム飽
和水溶液でpH3,5に調整した。析出した沈殿を濾取
、乾燥して、7−[2−ヘンスヒドリルオキシカルボニ
ルメトキシイミノ−2−(2−アミノチアソール−4−
イル)アセトアミドヨー3−ビニル−3−セフェム−4
−カルリボン酸ヘンス゛ヒドリルエステル異性体) (
7.08g )を得た。
IR (ヌジョール) ・ 3300. 1780
. 1720, 1680。
. 1720, 1680。
1620 cm−1
NMR Sppm (DMSO−d6) :
3.72 (2H.ブロード S〉。
3.72 (2H.ブロード S〉。
4、95 (2M,、s)、 5.30 (1)1.d
,J=11Hz)。
,J=11Hz)。
5、32 (1)1,d,J=5)1z)、 5.56
(IH,d。
(IH,d。
J−18Hz)、 5.85 (IH.d.J=8.
5Hz>。
5Hz>。
6、82 (LH,dd.J41, 18Hz)、 6
.87(LH.s)、 6.90 (LH,s)、 6
.95 (LH.s)。
.87(LH.s)、 6.90 (LH,s)、 6
.95 (LH.s)。
7、、2−7.7 (10M,m>、 9.8 (LH
,d,J=8Hz)参考例7 7−[ 2−ヘンズ゛ヒドリルオキシカルボニルメトキ
シイミノ− −イル)アセトアミドヨー3−ビニル−3−セフェム−
4−カルリボン酸ペンスヒドリルすステル(シン異性体
)(3g)のぎ酸(12mIl)溶液に35%塩酸(1
mQ)を0°Cで加えた。常温で1時間攪拌した後、反
応混合物をジイソプロピルエーテル中に注いた。析出し
た沈殿を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄した後
、水( 1smQ)に溶解した。この水溶液を炭酸水素
ナトリウム5%水溶液でpH3. 5に調整した。沈殿
を濾取、乾燥して、7−[2−カルボキンメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド]−3−ビニル−3−セフェム−カルボン酸(シン
異性体)(1.5g)を得た。
,d,J=8Hz)参考例7 7−[ 2−ヘンズ゛ヒドリルオキシカルボニルメトキ
シイミノ− −イル)アセトアミドヨー3−ビニル−3−セフェム−
4−カルリボン酸ペンスヒドリルすステル(シン異性体
)(3g)のぎ酸(12mIl)溶液に35%塩酸(1
mQ)を0°Cで加えた。常温で1時間攪拌した後、反
応混合物をジイソプロピルエーテル中に注いた。析出し
た沈殿を濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄した後
、水( 1smQ)に溶解した。この水溶液を炭酸水素
ナトリウム5%水溶液でpH3. 5に調整した。沈殿
を濾取、乾燥して、7−[2−カルボキンメトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド]−3−ビニル−3−セフェム−カルボン酸(シン
異性体)(1.5g)を得た。
I’R ’ (ヌジョール)””’3200. 17
70. 1670 cm−1参考例8 参考例5の方法に準して、7−アミノ−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルリボン酸ヘンスヒドリルエステす
塩酸塩(1.1g)を、2−(1−第3級ブトキシカル
ボニルエトキシイミノ)−2−(2−ホルムアミド−5
−クロロチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性体)
( 1.1g )、オキシ塩化リン(0.53g)およ
びN.N−ンメチルホルムアミド(’0. 25 g’
)から製造した活性酸溶液と反応させることにより、
7−[2−(1−第3級ブトキンカッしボニルエトキシ
イミノ)−2−(2−ホルムアミド−5−クロロチアゾ
ール−4−イル)アセトアミドツー3−ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル異性体
)(1.’1g)を得た。
70. 1670 cm−1参考例8 参考例5の方法に準して、7−アミノ−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルリボン酸ヘンスヒドリルエステす
塩酸塩(1.1g)を、2−(1−第3級ブトキシカル
ボニルエトキシイミノ)−2−(2−ホルムアミド−5
−クロロチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性体)
( 1.1g )、オキシ塩化リン(0.53g)およ
びN.N−ンメチルホルムアミド(’0. 25 g’
)から製造した活性酸溶液と反応させることにより、
7−[2−(1−第3級ブトキンカッしボニルエトキシ
イミノ)−2−(2−ホルムアミド−5−クロロチアゾ
ール−4−イル)アセトアミドツー3−ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル異性体
)(1.’1g)を得た。
IR (ス九−ル) ’ 1780. 171
0. 1680 cm−’NMRδppm (DM
SO−d6) + 1.33−1.’70 (12H.
m)。
0. 1680 cm−’NMRδppm (DM
SO−d6) + 1.33−1.’70 (12H.
m)。
3、80 (2H.m)、 4.68(1)1.m)、
5.18−5、19 (4H.m)、 6.78 (
LH,dd,J=11.0。
5.18−5、19 (4H.m)、 6.78 (
LH,dd,J=11.0。
17、0Hz>、 7.00 (LH,s)、 7.’
41(10H。
41(10H。
s)、 8.58 (IH,s>、 9.60. 9.
73 (LH。
73 (LH。
dyJ:8.0Hz)、 ’12.87 (LH.
ブロード s)。
ブロード s)。
5、67 (IH,d.、c18Hz)、 6.87
(LH.dd。
(LH.dd。
J=12. 18Hz>、 6.87 (LH,s)、
7.00(IH.s)、 7A3−7.77 (15
H,m>、 9.7(11(、d.J=8Hz) 参考例9 参考例6の方法に準じて、7 − c 2 = (を−
第3級ブトキシカルボニルエトキシイミノ(2−ポルム
アミド−5−クロロチアソール−4−イル)アセトアミ
ドツー3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(シン異性体)(1.9g)を濃塩
酸(0.8g)と反応きせることにより、7−[2−(
1−第3級ブトキンカルボニルエトキンイミノ アミノ−5−クロロチアソール−4−イル)アセ)アミ
ド]ー3ービニルー3ーセフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(シン異性体)(1・69g)を製
造した。
7.00(IH.s)、 7A3−7.77 (15
H,m>、 9.7(11(、d.J=8Hz) 参考例9 参考例6の方法に準じて、7 − c 2 = (を−
第3級ブトキシカルボニルエトキシイミノ(2−ポルム
アミド−5−クロロチアソール−4−イル)アセトアミ
ドツー3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(シン異性体)(1.9g)を濃塩
酸(0.8g)と反応きせることにより、7−[2−(
1−第3級ブトキンカルボニルエトキンイミノ アミノ−5−クロロチアソール−4−イル)アセ)アミ
ド]ー3ービニルー3ーセフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル(シン異性体)(1・69g)を製
造した。
IR (Z>i−A) : 3420. 32
50. 3150. 1770. 1715。
50. 3150. 1770. 1715。
1670、 ’ 162’O cm−’NMR l;
ppm (DMSO−d6) ’ 1.43 (12H
.s)、 3.68(2H.m)、 4.57 (IH
.m>、 ’5.17’ー5.77(2H.m)、 5
.25 (LH.d.J=5.0Hz’)、 5.87
(IH.dd,J=5.0. 8.0Hz>、 6.6
9 (LH。
ppm (DMSO−d6) ’ 1.43 (12H
.s)、 3.68(2H.m)、 4.57 (IH
.m>、 ’5.17’ー5.77(2H.m)、 5
.25 (LH.d.J=5.0Hz’)、 5.87
(IH.dd,J=5.0. 8.0Hz>、 6.6
9 (LH。
dd.J=11.0. 16.0Hz>、 6.93
(IH,s>。
(IH,s>。
7、35 (10H.s)、 9.34. 9.47
(iH.d。
(iH.d。
J=8Hz)
参考例10
トリフ4オロ酢H( 64mQ)を7−’[ 2’−’
( 1−第3級ブトキシカルボニルエトキシイミノ)−
2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4−イル)
アセトアミドツー3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ペンスヒドリル蘂ステル(シン異性体)(1.6
g)の塩化メチレン(3.OmQ)およびアニソール(
16mQ)溶液に水冷下に加え、常温で15時間攪拌し
た。反応混合物にジイソプロピルエーテル( 5QmQ
)を加え、沈殿を濾取した復水と酢酸エチルの混液に
加えた。水酸化ナトリウム10%水溶液でpH7.5に
調整した後、分離した水層を10%塩酸でpH2. 2
に調整し、塩化ナトリウムを飽和させた。この水溶液を
町酸エチルとテトラヒドロフラノとの混合溶媒(1 :
1)で抽出した。抽出液を塩化すh l)ラム飽和水
溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去して、7−、[ 2−、( 1−カルボキシエト
キシイミノ) − 、2 = (2−アミノ−5−クロ
ロチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−ビニル
−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(0.
52g)を得た。
( 1−第3級ブトキシカルボニルエトキシイミノ)−
2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4−イル)
アセトアミドツー3−ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ペンスヒドリル蘂ステル(シン異性体)(1.6
g)の塩化メチレン(3.OmQ)およびアニソール(
16mQ)溶液に水冷下に加え、常温で15時間攪拌し
た。反応混合物にジイソプロピルエーテル( 5QmQ
)を加え、沈殿を濾取した復水と酢酸エチルの混液に
加えた。水酸化ナトリウム10%水溶液でpH7.5に
調整した後、分離した水層を10%塩酸でpH2. 2
に調整し、塩化ナトリウムを飽和させた。この水溶液を
町酸エチルとテトラヒドロフラノとの混合溶媒(1 :
1)で抽出した。抽出液を塩化すh l)ラム飽和水
溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去して、7−、[ 2−、( 1−カルボキシエト
キシイミノ) − 、2 = (2−アミノ−5−クロ
ロチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−ビニル
−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(0.
52g)を得た。
IR (ヌジョール) ’ 3300. 320
0. 1770. 16’70 cm−INMR
に ppm (DMSO−d6) ’3、62 (2
H.q,’J=18.0Hz>、 4.67 (LH。
0. 1770. 16’70 cm−INMR
に ppm (DMSO−d6) ’3、62 (2
H.q,’J=18.0Hz>、 4.67 (LH。
m)、’5.20 (LH.d.J=5.0Hz)、
5.11−592(31(、’m>、 6.92 (I
H.m)、 9.47<IH.m> 参考例11 参考例5の方法に準じて、7−アミノ−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酸(4.53g)を゛、’
2”− (’2ーホルムアミドチアソールー4−イル)
−2−ヘンスヒドリルオキシカルボニルメトキンイミノ
酢酸(シン異性体) ( 10.55g )、オキシ塩
化リン(4.4’g)およびN.N−ジメチルホルムア
ミド(2.1g)から酢酸エチル中で製造した活性酸溶
液と反応きせることにより、7−[2−(2−ポルムア
ミドチアソール−4−イル)−2−ヘンスヒドリルオキ
シカルボニルメトキシイミノアセトアミド]−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体>(1
o、5g)を得た。
5.11−592(31(、’m>、 6.92 (I
H.m)、 9.47<IH.m> 参考例11 参考例5の方法に準じて、7−アミノ−3−ビニル−3
−セフェム−4−カルボン酸(4.53g)を゛、’
2”− (’2ーホルムアミドチアソールー4−イル)
−2−ヘンスヒドリルオキシカルボニルメトキンイミノ
酢酸(シン異性体) ( 10.55g )、オキシ塩
化リン(4.4’g)およびN.N−ジメチルホルムア
ミド(2.1g)から酢酸エチル中で製造した活性酸溶
液と反応きせることにより、7−[2−(2−ポルムア
ミドチアソール−4−イル)−2−ヘンスヒドリルオキ
シカルボニルメトキシイミノアセトアミド]−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体>(1
o、5g)を得た。
IR(ヌジョール) 。 3500. 3200.
1770. 1730゜1680 cm−’ NMR8ppm (DMSO−九) : 3.71 (
2H,m)、 4.96(2H,s)、 5.15 (
IH,d、J=11Hz)、 5.25(IH,d、J
=5Hz>、 5.57 (LH,d、J=17H
z)。
1770. 1730゜1680 cm−’ NMR8ppm (DMSO−九) : 3.71 (
2H,m)、 4.96(2H,s)、 5.15 (
IH,d、J=11Hz)、 5.25(IH,d、J
=5Hz>、 5.57 (LH,d、J=17H
z)。
5.89 (1)1.dd、J=5.8Hz>、 6.
92 (LH。
92 (LH。
s)、 7.00 (IH,dd、+41.17Hz>
。
。
7.12−7.68 (10H,m)、 8.54
(1)1.s)。
(1)1.s)。
9.75 (IH,d、J−8Hz>、 11.7
8 (IH,ブロードS) 参考例12 7−[2−1−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−
2−ペンスヒドリルオキシカルポニルメトキシイミノア
セトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン異性体)(11,7g)のメタノール(12
0m1l )溶液に製塩m (3,97mQ )を30
°Cで加え、同温度で3時間攪拌した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、水(1somu )と酢酸エチル(1o
omQ)を残留油状物に加えた後、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液でpH7,0に調整した。
8 (IH,ブロードS) 参考例12 7−[2−1−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−
2−ペンスヒドリルオキシカルポニルメトキシイミノア
セトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン異性体)(11,7g)のメタノール(12
0m1l )溶液に製塩m (3,97mQ )を30
°Cで加え、同温度で3時間攪拌した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、水(1somu )と酢酸エチル(1o
omQ)を残留油状物に加えた後、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液でpH7,0に調整した。
沈殿を濾取し、酢酸エチルで洗浄した後、五酸化リンで
乾燥して、7−[2−(2−アミノチアソール−4−イ
ル)−2−ベンスヒドリルオキシカルボニルメトキンイ
ミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−
カルボン酸ナトリウム(シン異性体)(4,14g)を
得た。
乾燥して、7−[2−(2−アミノチアソール−4−イ
ル)−2−ベンスヒドリルオキシカルボニルメトキンイ
ミノアセトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−
カルボン酸ナトリウム(シン異性体)(4,14g)を
得た。
IR(ヌンヨール) ’ 3450. 3270.
1750. 1670 cm−’NMRE ppm
(DMSO−d6) ’ 3.42 (2H
,ブロード S)。
1750. 1670 cm−’NMRE ppm
(DMSO−d6) ’ 3.42 (2H
,ブロード S)。
4.82 (2H,s)、 4.95 (IH,d、J
−11)1z)。
−11)1z)。
5.02 (LH,d、J=5Hz)、 5.08 (
IH,d。
IH,d。
J=17Hz)、 5.57 (1)1.dd、J:5
.8Hz>。
.8Hz>。
6.73 (LH,s)、 683 (LH,s)、
6.90(iH,dd、J−11,’17Hz>、 7
.05−7.52(10H,m>、 ’9.40 (L
H,d、J−8Hz>参考例13 7−[2−(2−アミノチアソール−4−イル)−2−
ヘンスヒドリルオキジ力ルポニルメトキンイミノアセ1
−アミド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム(シン異性K ) (4,1g :)のN
、N−ジメチルホルムアミド(41mQ)溶液にピバリ
ン酸ヨウ化メチル(155g)を0°Cで加え、同温度
で15分間攪拌した。反応混合物を水(150mQ )
に注ぎ、酢酸エチル(200mQ )で抽出した。抽出
液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して
、7−42−(2−アミノチアソール−4−イル)−2
−ヘンスヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノアセ
トアミドコ−3−ビニル−3−セフェム−4−力ルボン
酸ピバロイルオキジメチルエステル(シン異性体) (
3,75g )を得た。
6.90(iH,dd、J−11,’17Hz>、 7
.05−7.52(10H,m>、 ’9.40 (L
H,d、J−8Hz>参考例13 7−[2−(2−アミノチアソール−4−イル)−2−
ヘンスヒドリルオキジ力ルポニルメトキンイミノアセ1
−アミド]−3−ビニルー3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム(シン異性K ) (4,1g :)のN
、N−ジメチルホルムアミド(41mQ)溶液にピバリ
ン酸ヨウ化メチル(155g)を0°Cで加え、同温度
で15分間攪拌した。反応混合物を水(150mQ )
に注ぎ、酢酸エチル(200mQ )で抽出した。抽出
液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去して
、7−42−(2−アミノチアソール−4−イル)−2
−ヘンスヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノアセ
トアミドコ−3−ビニル−3−セフェム−4−力ルボン
酸ピバロイルオキジメチルエステル(シン異性体) (
3,75g )を得た。
IR(ヌ九−ル) : 3425. 3300.
1780. 1740゜1680 cm−1 NMR8ppm (DMSO−d6) : 1.17
(9H,s)、 3.74(2H,q、J48Hz)、
4.82 (2H,s)、 5.17(LH,d、J
=11H7)、 5.21 (LH,d、J=5Hz)
。
1780. 1740゜1680 cm−1 NMR8ppm (DMSO−d6) : 1.17
(9H,s)、 3.74(2H,q、J48Hz)、
4.82 (2H,s)、 5.17(LH,d、J
=11H7)、 5.21 (LH,d、J=5Hz)
。
5.60 (LH,d、J=17Hz)、 5.84
(IH,dd。
(IH,dd。
4l−
J=5. 8Hz>、 5.85 (2H,s)、
6.76 <LH。
6.76 <LH。
s)、 6.76 (LH,dd、J−11,17H
z)、 6,847.1−7.63 (10H,m)
、 9.56 (LH,d。
z)、 6,847.1−7.63 (10H,m)
、 9.56 (LH,d。
J=8)+2 )
参考例14
トリフルオロ酢酸(5,75g)を7−[2−(2−ア
ミノチアソール−4−イル)−2−ヘンズヒドリルオキ
シカルボニルメトキシイミノアセトアミド]−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ビバロイルオキンメ
チルエステル(シン異性体)(3,7g)(71)塩化
メチレン(148mQ)およびアニソール(1,09g
)溶液に水冷下に加え、常温で1時間攪拌した。次いで
反応混合物をシイツブ1−7ピルエーテル(160mQ
)に滴下した。沈殿を濾取し、ジイソプロピルエーテ
ルで洗浄した後、水(60mQ )と酢酸エチル(6o
mIlりの混液に加えた。
ミノチアソール−4−イル)−2−ヘンズヒドリルオキ
シカルボニルメトキシイミノアセトアミド]−3−ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ビバロイルオキンメ
チルエステル(シン異性体)(3,7g)(71)塩化
メチレン(148mQ)およびアニソール(1,09g
)溶液に水冷下に加え、常温で1時間攪拌した。次いで
反応混合物をシイツブ1−7ピルエーテル(160mQ
)に滴下した。沈殿を濾取し、ジイソプロピルエーテ
ルで洗浄した後、水(60mQ )と酢酸エチル(6o
mIlりの混液に加えた。
得られた混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でpH
7,0に調整した。分離した水混液をさらに10%塩酸
でpH2,5に調整した。沈殿を濾取、水洗し、減圧下
で五酸化リンで乾燥して、7−[2−(2−アミノチア
ソール−4−イル)−2−カルボキンメトキシイミノア
セトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ピバロイルオキシメチルエステル(シン異性体)(
z、t3g)ヲ得た。
7,0に調整した。分離した水混液をさらに10%塩酸
でpH2,5に調整した。沈殿を濾取、水洗し、減圧下
で五酸化リンで乾燥して、7−[2−(2−アミノチア
ソール−4−イル)−2−カルボキンメトキシイミノア
セトアミド]−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ピバロイルオキシメチルエステル(シン異性体)(
z、t3g)ヲ得た。
IR(ヌンヨール) : 3300. 3200.
1780. 1750゜1670 cm−’ NMRδppm(DMSO−d6) ’ 1.2 (9
H,s)、 3.8 (2H。
1780. 1750゜1670 cm−’ NMRδppm(DMSO−d6) ’ 1.2 (9
H,s)、 3.8 (2H。
q、J=18Hz>、 4.63 (2H,s)、 5
.26 (IH。
.26 (IH。
d、J=5Hz>、 5.56 (LH,d、J=11
Hz>。
Hz>。
563 (IH,d、J=17Hz)、 5.73−6
.14(3H,m)、 6.83 (L)1.s)、
6.87 <LH,dd。
.14(3H,m)、 6.83 (L)1.s)、
6.87 <LH,dd。
J−11,17Hz)、 7.27 (2H,ブロ
ード S)。
ード S)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はカルボキシ基または保護されたカルボ
キシ基、 R^2は式:−CH_2OH、−CH_2−X^1、−
CH_2P^■(R^3)_3・X^2^■、−CH=
P(R^3)_3または−CH=CH_2 (式中、X^1およびX^2はそれぞれハロゲン、R^
3はアリール基を意味する)で示される基を意味する] で示される化合物およびその塩類。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/261,618 US4423213A (en) | 1979-11-19 | 1981-05-07 | 7-Acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivatives and processes for the preparation thereof |
US261,618 | 1981-05-07 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7739682A Division JPS58986A (ja) | 1981-05-07 | 1982-05-07 | セフェム化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01308286A true JPH01308286A (ja) | 1989-12-12 |
Family
ID=22994099
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7739682A Granted JPS58986A (ja) | 1981-05-07 | 1982-05-07 | セフェム化合物 |
JP10825689A Pending JPH01308286A (ja) | 1981-05-07 | 1989-04-27 | 新規なセフェム化合物 |
JP10825589A Pending JPH02111751A (ja) | 1981-05-07 | 1989-04-27 | 新規なカルボン酸誘導体 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7739682A Granted JPS58986A (ja) | 1981-05-07 | 1982-05-07 | セフェム化合物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10825589A Pending JPH02111751A (ja) | 1981-05-07 | 1989-04-27 | 新規なカルボン酸誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JPS58986A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK162718C (da) * | 1982-09-30 | 1992-05-11 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Analogifremgangsmaade til fremstilling af 7-substitueret-3-vinyl-3-cephemforbindelser |
JPS59184186A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-19 | Meiji Seika Kaisha Ltd | 新規セフエム化合物 |
US5621441A (en) * | 1992-09-21 | 1997-04-15 | Hewlett-Packard Company | Service station for inkjet printer having reduced noise, increased ease of assembly and variable wiping capability |
AT406773B (de) * | 1998-04-02 | 2000-08-25 | Biochemie Gmbh | Neues salz von 7-(2-(aminothiazol-4yl)-2- |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4980089A (ja) * | 1972-07-18 | 1974-08-02 | ||
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JPH0369353A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 銅張積層板の製造方法 |
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- 1989-04-27 JP JP10825689A patent/JPH01308286A/ja active Pending
- 1989-04-27 JP JP10825589A patent/JPH02111751A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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---|---|
JPH0316358B2 (ja) | 1991-03-05 |
JPS58986A (ja) | 1983-01-06 |
JPH02111751A (ja) | 1990-04-24 |
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