JPH01296636A - ハイブリッド集積回路のワイヤボンディング装置 - Google Patents
ハイブリッド集積回路のワイヤボンディング装置Info
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- JPH01296636A JPH01296636A JP63127839A JP12783988A JPH01296636A JP H01296636 A JPH01296636 A JP H01296636A JP 63127839 A JP63127839 A JP 63127839A JP 12783988 A JP12783988 A JP 12783988A JP H01296636 A JPH01296636 A JP H01296636A
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ハイブリッド集積回路のワイヤボンディング
を行うための装置に関する。
を行うための装置に関する。
従来の技術
ハイブリッド集積回路は、電気絶縁性材1″lから成る
基板上に集積回路チップと、抵抗およびコンデンサなど
のようなディスクリ−1−電子部品を取付けて、基板上
に形成した導体を介して電気的に接続した構成を有する
。
基板上に集積回路チップと、抵抗およびコンデンサなど
のようなディスクリ−1−電子部品を取付けて、基板上
に形成した導体を介して電気的に接続した構成を有する
。
従来、基板上に形成された導体の材料としては、金ベー
ス[−ならび”に銀パラジウム、および銀白金などの銀
糸ペーストなどが使用されていた。しかしながら、金ペ
ーストは高価であり、また金ベーストを用いると基板と
の接着強度が弱く、剥離しやすかった。また、銀ペース
トを用いると、マイグレーション(金属原子の移行〉が
発生しやすく、このため各配線間において短絡が起こり
やすくなり、高密度な配線を実現することが困難であっ
た。
ス[−ならび”に銀パラジウム、および銀白金などの銀
糸ペーストなどが使用されていた。しかしながら、金ペ
ーストは高価であり、また金ベーストを用いると基板と
の接着強度が弱く、剥離しやすかった。また、銀ペース
トを用いると、マイグレーション(金属原子の移行〉が
発生しやすく、このため各配線間において短絡が起こり
やすくなり、高密度な配線を実現することが困難であっ
た。
この問題を解決するために、安価で、かつ電気抵抗の低
い銅が用いられていた。銅ペーストは、マイグレーショ
ンが発生しにくいために、高密度の配線を実現しやすく
、これによって4A積回路の小形化を容易にしている。
い銅が用いられていた。銅ペーストは、マイグレーショ
ンが発生しにくいために、高密度の配線を実現しやすく
、これによって4A積回路の小形化を容易にしている。
しかしながら銅は酸化しやすいために、ワイヤボンディ
ングを行う際に良好な電気的特性を達成することが困難
である。
ングを行う際に良好な電気的特性を達成することが困難
である。
すなわち、ワイヤボンディングはたとえば250℃程度
の温度状況において行われるけれども、このような状態
の空気の雰囲気中では酸化銅の被膜が生じてしまう。こ
のため、ワイヤボンディングが不可能であった。
の温度状況において行われるけれども、このような状態
の空気の雰囲気中では酸化銅の被膜が生じてしまう。こ
のため、ワイヤボンディングが不可能であった。
この問題を解決するために、銅系導体との接続を還元性
雰囲気内で行うことが単純には考えられる。しかしなが
ら、このJ%6には、集積回路チップと基板上に形成し
た導体とをキャピラリを介してワイヤボンディングする
ためのfE業全空間おいて還元性雰囲気を形成するハウ
ジングを設け、このハウジング内にキャピラリを挿入し
、か′)このキャピラリがワイヤボンディングのために
移動することができるようにするための比較的大きな作
業孔を形成する必要がある。そうすると、この作業孔を
介して空気がワイヤボンディングの作業空間内に侵入し
、銅に酸化膜が形成してしまう恐れが生じる。
雰囲気内で行うことが単純には考えられる。しかしなが
ら、このJ%6には、集積回路チップと基板上に形成し
た導体とをキャピラリを介してワイヤボンディングする
ためのfE業全空間おいて還元性雰囲気を形成するハウ
ジングを設け、このハウジング内にキャピラリを挿入し
、か′)このキャピラリがワイヤボンディングのために
移動することができるようにするための比較的大きな作
業孔を形成する必要がある。そうすると、この作業孔を
介して空気がワイヤボンディングの作業空間内に侵入し
、銅に酸化膜が形成してしまう恐れが生じる。
発明が解決しようとする課題
本発明の目的は、銅などの導体とのワイヤボンディング
を良好な電気的特性で達成することができるハイブリッ
ドff11回路のワイヤボンディング装置を提供するこ
とである。
を良好な電気的特性で達成することができるハイブリッ
ドff11回路のワイヤボンディング装置を提供するこ
とである。
課題を解決するための手段
本発明は、−表面に導水が形成された電気絶縁性基板上
に集積回路チップを接着した状態で前記導体と集積回路
チップとをワイヤボンディングするハイブリッド集積回
路のワイヤボンディング装置において、 前記基板上の導体と集1′argJ路チップとを接続す
るためのワイヤが供給され、このワイヤによって前記導
体と集積回路チップ゛とを接続するキャピラリと、 前記基板を収納する空間を有し、この空間内には還元性
ガスまたは不活性ガスが供給され、ワイヤボンディング
すべき領域の上方にキャピラリが挿通ずる作業孔が形成
されるハウジングと、ハウジング内のワイヤのボンディ
ング作業空間内において、基板を予め定める搬送方向に
移動変位さ仕る搬送手段と、 前記基板を加熱する加熱手段と、 前記作業孔を覆い、キャピラリが挿通ずる必要最小限度
の大きさの挿通孔を有し、前記搬送方向に対して交差す
る方向に変位自在である移動カバーと、 移動カバーを前記交差方向に変位駆動する変位駆動手段
と、 キャピラリを実質的に前記交差方向に駆動変位する変位
駆動手段とを含み、 前記作業孔は、キャピラリが前記交差方向に変位してワ
イヤボンディングすることができるように前記交差方向
に長めの形状を有することを′I) mとするハイブリ
ッド集積回路のワイヤボンディング装置である。
に集積回路チップを接着した状態で前記導体と集積回路
チップとをワイヤボンディングするハイブリッド集積回
路のワイヤボンディング装置において、 前記基板上の導体と集1′argJ路チップとを接続す
るためのワイヤが供給され、このワイヤによって前記導
体と集積回路チップ゛とを接続するキャピラリと、 前記基板を収納する空間を有し、この空間内には還元性
ガスまたは不活性ガスが供給され、ワイヤボンディング
すべき領域の上方にキャピラリが挿通ずる作業孔が形成
されるハウジングと、ハウジング内のワイヤのボンディ
ング作業空間内において、基板を予め定める搬送方向に
移動変位さ仕る搬送手段と、 前記基板を加熱する加熱手段と、 前記作業孔を覆い、キャピラリが挿通ずる必要最小限度
の大きさの挿通孔を有し、前記搬送方向に対して交差す
る方向に変位自在である移動カバーと、 移動カバーを前記交差方向に変位駆動する変位駆動手段
と、 キャピラリを実質的に前記交差方向に駆動変位する変位
駆動手段とを含み、 前記作業孔は、キャピラリが前記交差方向に変位してワ
イヤボンディングすることができるように前記交差方向
に長めの形状を有することを′I) mとするハイブリ
ッド集積回路のワイヤボンディング装置である。
作 用
本発明に従えば、還元性ガスまたは不活性ガスが供給さ
れたハウジング内のワイヤボンディング作業領域内にお
いて集積回路チップが接着された基板が収納される。こ
の基板は、搬送手段によって前記ワイヤボンディング作
業空間内において予め定める搬送方向に移動変位される
。前記ハウジングには、iA積回路チップと基板上に形
成された導体とをワイヤボンディングすべき領域の上方
にキャピラリが挿通する作業孔が形成される。この1′
r−全孔は、キャピラリが実質的に前記搬送方向に対し
て交差する方向に変位してワイヤボンディングすること
ができるように前記交差方向に長めの形状を有する。
れたハウジング内のワイヤボンディング作業領域内にお
いて集積回路チップが接着された基板が収納される。こ
の基板は、搬送手段によって前記ワイヤボンディング作
業空間内において予め定める搬送方向に移動変位される
。前記ハウジングには、iA積回路チップと基板上に形
成された導体とをワイヤボンディングすべき領域の上方
にキャピラリが挿通する作業孔が形成される。この1′
r−全孔は、キャピラリが実質的に前記搬送方向に対し
て交差する方向に変位してワイヤボンディングすること
ができるように前記交差方向に長めの形状を有する。
前記ハウジングには、ワイヤボンディングすべき領域の
上方に前記作業孔を覆う移動カバーが乗載される。この
移動カバーには、前記キャピラリが挿通ずる挿通孔が形
成される。この移動カバーは、変位駆動手段によって前
記交差方向に変位駆動される。前記キャピラリは、変位
駆動手段によって実質的に前記交差方向に駆動変位され
る。
上方に前記作業孔を覆う移動カバーが乗載される。この
移動カバーには、前記キャピラリが挿通ずる挿通孔が形
成される。この移動カバーは、変位駆動手段によって前
記交差方向に変位駆動される。前記キャピラリは、変位
駆動手段によって実質的に前記交差方向に駆動変位され
る。
したがって移動カバーはキャピラリの動作を妨げること
なく、前記作業孔を覆うことができ、これによってワイ
ヤボンディングする際において、fヤ全孔を介して空気
がハウジング内のワイヤボンディング作業空間内に侵入
することが阻止され、たとえば銅などから成る導体が酸
化するのを防ぐことができる。したがって接合強度の高
いワイヤボンディングすることができるとともに、高密
度で導体を形成することが可能となる。
なく、前記作業孔を覆うことができ、これによってワイ
ヤボンディングする際において、fヤ全孔を介して空気
がハウジング内のワイヤボンディング作業空間内に侵入
することが阻止され、たとえば銅などから成る導体が酸
化するのを防ぐことができる。したがって接合強度の高
いワイヤボンディングすることができるとともに、高密
度で導体を形成することが可能となる。
このように本発明に従えば、移動カバーの搬送方向への
変位駆動手段を設けることなく、キャピラリによるワイ
ヤボンディングを行うことができ、装置全体の構成が簡
単になる。
変位駆動手段を設けることなく、キャピラリによるワイ
ヤボンディングを行うことができ、装置全体の構成が簡
単になる。
実施例
第1図は、本発明の一実施例の一部を示す断面図である
。ハウジング内ング動作手段2が設けられ、加熱手段2
上には搬送f−段3が乗載され、この搬送手段3上には
複数のハイブリッド集積回路をそれぞれ構成する基板4
が固定されており、各基板4上には複数の集積回路チッ
プ5が接着剤によって接着される。
。ハウジング内ング動作手段2が設けられ、加熱手段2
上には搬送f−段3が乗載され、この搬送手段3上には
複数のハイブリッド集積回路をそれぞれ構成する基板4
が固定されており、各基板4上には複数の集積回路チッ
プ5が接着剤によって接着される。
第212Iは、ハイブリッド集積回路を構成するセラミ
ックスなどの電気絶縁材料から成る基板ll上に複数の
集積回路チップ5が前述のように接着されており、各集
積回路チップ5と基板4の一表面に形成される導体6と
はキャピラリ7によってワイヤボンディングされて電気
的に接続される。複数の集積回路チップ5と基板4上の
導体6とをワイヤボンディングするために搬送手段3が
停止した状態でキャピラリ7が移動する必要がある。ワ
イヤボンディング作業領域は、第2図において参照符1
1によって示されている。
ックスなどの電気絶縁材料から成る基板ll上に複数の
集積回路チップ5が前述のように接着されており、各集
積回路チップ5と基板4の一表面に形成される導体6と
はキャピラリ7によってワイヤボンディングされて電気
的に接続される。複数の集積回路チップ5と基板4上の
導体6とをワイヤボンディングするために搬送手段3が
停止した状態でキャピラリ7が移動する必要がある。ワ
イヤボンディング作業領域は、第2図において参照符1
1によって示されている。
第3図は、ハウジング1とその付近の構成を示す下面図
である。供給手段9からは基板4に集積回路チノフ゛5
が接続された状態であるハイブリッド集積回路の半完成
品が搬送手段3に固定されてハウジング1の入口10か
らハウジング1のワイヤボンディング作業空間11内に
装入される。ワイヤボンディング作業を完了した基板4
は、搬送手段3とともに駆動手段41(第6図参照)に
よってハウジング1の出口14から排出され、収納手段
13へ収納される。
である。供給手段9からは基板4に集積回路チノフ゛5
が接続された状態であるハイブリッド集積回路の半完成
品が搬送手段3に固定されてハウジング1の入口10か
らハウジング1のワイヤボンディング作業空間11内に
装入される。ワイヤボンディング作業を完了した基板4
は、搬送手段3とともに駆動手段41(第6図参照)に
よってハウジング1の出口14から排出され、収納手段
13へ収納される。
第11図は、ハウジング1の斜視図である。ハウジング
1上には、移動カバー15が配置される。
1上には、移動カバー15が配置される。
第5図は、ハウジング1と移動カバー15とを示す斜視
図である。ハウジング1の上ff116にはキャピラリ
7によってワイヤボンディング作業を行うための作業孔
17が形成されている。この移動カバー15は、常時、
前記作業孔17を覆い、この作業孔17に臨む挿通孔1
8を有する。
図である。ハウジング1の上ff116にはキャピラリ
7によってワイヤボンディング作業を行うための作業孔
17が形成されている。この移動カバー15は、常時、
前記作業孔17を覆い、この作業孔17に臨む挿通孔1
8を有する。
第6図は、装置全体の構成を示す部分断面図である。前
記キャピラリ7は、アーム2oを介してボンディングヘ
ッド26に固定されている。ボンディングヘッド26に
は、キャピラリ7が作業孔17および挿通孔18がら取
出された状態で作業孔17および挿通孔18を介して前
記ワイヤボンディング作業空間11内の基板4aの前記
ワイヤホンディング作業領域11を構成する各部分作業
領域12a、12b、12c、−,12i (以下、総
称するときは部分作業領域12と称する〉の−部な撮像
V−る工業用テレビカメラ22が取付アーノ、21に取
付けられる。前記キャピラリ7とこの工業用テレビカメ
ラ22とは、水平面内でずれた位置に配設されているけ
れども、ワイヤホンディング作業をするにあたっては、
キャピラリ7を前配挿通孔18よりも上方に移動さQ゛
てその挿通孔18の直上から水平方向にずらした状態で
この工業用テレビカメラ22を挿通孔18の真上に移動
して撮像するようにする。
記キャピラリ7は、アーム2oを介してボンディングヘ
ッド26に固定されている。ボンディングヘッド26に
は、キャピラリ7が作業孔17および挿通孔18がら取
出された状態で作業孔17および挿通孔18を介して前
記ワイヤボンディング作業空間11内の基板4aの前記
ワイヤホンディング作業領域11を構成する各部分作業
領域12a、12b、12c、−,12i (以下、総
称するときは部分作業領域12と称する〉の−部な撮像
V−る工業用テレビカメラ22が取付アーノ、21に取
付けられる。前記キャピラリ7とこの工業用テレビカメ
ラ22とは、水平面内でずれた位置に配設されているけ
れども、ワイヤホンディング作業をするにあたっては、
キャピラリ7を前配挿通孔18よりも上方に移動さQ゛
てその挿通孔18の直上から水平方向にずらした状態で
この工業用テレビカメラ22を挿通孔18の真上に移動
して撮像するようにする。
ボンディングへノド26は、移動手段23によって搬送
手段3および周板、■と平行な水下面内で変位駆動され
る9前記移動下段23は、搬送手段3の長手方向く第1
図、第2図および第3(2Iの左右方向、第0(21の
紙面垂直方向、以下、X方向とする)にボンディングヘ
ノド26を変位駆動するX方向駆動デープル2・lと、
前記搬送手段3および、!!板4の幅方向(第1図の紙
面に垂直方向、第21Aおよび第3図の上下方向、第6
図の左右方向、以下、Y方向とする)にボンディングヘ
ッド26を変位駆動するY方向駆動テーブル25とを含
む。
手段3および周板、■と平行な水下面内で変位駆動され
る9前記移動下段23は、搬送手段3の長手方向く第1
図、第2図および第3(2Iの左右方向、第0(21の
紙面垂直方向、以下、X方向とする)にボンディングヘ
ノド26を変位駆動するX方向駆動デープル2・lと、
前記搬送手段3および、!!板4の幅方向(第1図の紙
面に垂直方向、第21Aおよび第3図の上下方向、第6
図の左右方向、以下、Y方向とする)にボンディングヘ
ッド26を変位駆動するY方向駆動テーブル25とを含
む。
したがってボンディングヘノド26および工業用テレビ
カメラ22は、前記X方向駆動テーブル24およびY方
向駆動テーブル25によって一体的にX方向、Y方向に
それぞれ移動される。
カメラ22は、前記X方向駆動テーブル24およびY方
向駆動テーブル25によって一体的にX方向、Y方向に
それぞれ移動される。
前記ボンディングヘノド26には、キャピラリ7および
キャピラリ7を固定するアーム2oを鉛直方向く以下、
Z方向とする)に上下に昇降変位駆動するZ方向駆動機
構26aが設けられている。
キャピラリ7を固定するアーム2oを鉛直方向く以下、
Z方向とする)に上下に昇降変位駆動するZ方向駆動機
構26aが設けられている。
前記移動カバー15は、アーム27を介してY方向移動
テーブル28によってY方向に変位駆動される。キャピ
ラリ7が移動カバー15の挿通孔18に挿通されている
状態においては、Y方向駆動テーブル25.28は同期
してキャピラリ7および移動カバー15をそれぞれ駆動
する。iM記X方向駆動テーブル24の可動範囲はわず
がてあり、その動作は高精度に設定されている。すなわ
ち、キャピラリ7は、集積回路チップ5と各導体6との
X方向に関するワイヤボンディング「ヤ業を行うことが
できる程度に動くことができ、しが5高精度である。一
方、Y方向駆動テーブル25は、ハイブリッド集積回路
の全幅方向に移動可能であり、しかも高精度に設定され
ている。
テーブル28によってY方向に変位駆動される。キャピ
ラリ7が移動カバー15の挿通孔18に挿通されている
状態においては、Y方向駆動テーブル25.28は同期
してキャピラリ7および移動カバー15をそれぞれ駆動
する。iM記X方向駆動テーブル24の可動範囲はわず
がてあり、その動作は高精度に設定されている。すなわ
ち、キャピラリ7は、集積回路チップ5と各導体6との
X方向に関するワイヤボンディング「ヤ業を行うことが
できる程度に動くことができ、しが5高精度である。一
方、Y方向駆動テーブル25は、ハイブリッド集積回路
の全幅方向に移動可能であり、しかも高精度に設定され
ている。
前記移動ガバー15の挿通孔17の大きさは、(1)前
記部分作業領域12のうちの一部分(前記撮像できる範
囲)を前記工業用テレビカメラ22で撮像できる程度の
大きさ、 〈2)その部分子t業領域12のうちの一部分でキャピ
ラリ7がワイヤボンディング作業を行うためにY方向お
よびX方向に移動するときにギヤピラリ7が挿通孔】7
の内周面に衝突しない程度の大きさ、 (3)さらに、j−凡作カスが可及的に外部に漏洩しな
い程度の大きさ、 の各条件を満足する大きさに形成される。
記部分作業領域12のうちの一部分(前記撮像できる範
囲)を前記工業用テレビカメラ22で撮像できる程度の
大きさ、 〈2)その部分子t業領域12のうちの一部分でキャピ
ラリ7がワイヤボンディング作業を行うためにY方向お
よびX方向に移動するときにギヤピラリ7が挿通孔】7
の内周面に衝突しない程度の大きさ、 (3)さらに、j−凡作カスが可及的に外部に漏洩しな
い程度の大きさ、 の各条件を満足する大きさに形成される。
萌記ワfヤボンディング作業空間11内には、挿通管3
1を介して挿通孔32から還元性ガスまたは不活性ガス
が供給される。還元性ガスとしてはたとえば窒素ガスと
水素ガスとの混きカスであるフ4−ミングガスがあり、
また、不活性ガスとしてはたとえば窒素ガスがある。
1を介して挿通孔32から還元性ガスまたは不活性ガス
が供給される。還元性ガスとしてはたとえば窒素ガスと
水素ガスとの混きカスであるフ4−ミングガスがあり、
また、不活性ガスとしてはたとえば窒素ガスがある。
第7図は、キャピラリ7によるワイヤボンディング動f
%を説明するたy)の図である。キャピラリ7が移動カ
バー15の挿通孔18から取出された状態で工業用テレ
ビカメラ22によって基板4 ELのワイヤボンディン
グ作業領域21の一部分を撮像し、次に撮像結果に基づ
いてキャピラリ7を前記挿通孔18を介して作業孔17
内に装入し、ワイヤボンディング作業を行う。
%を説明するたy)の図である。キャピラリ7が移動カ
バー15の挿通孔18から取出された状態で工業用テレ
ビカメラ22によって基板4 ELのワイヤボンディン
グ作業領域21の一部分を撮像し、次に撮像結果に基づ
いてキャピラリ7を前記挿通孔18を介して作業孔17
内に装入し、ワイヤボンディング作業を行う。
ワイヤボンディング作業を行うには、まず第7図(1)
に示されるように、金などの材料から成るワイヤ34の
一端部35がキャピラリ7の先端部から突出している。
に示されるように、金などの材料から成るワイヤ34の
一端部35がキャピラリ7の先端部から突出している。
次に第7図く2)に示されるように、前記加熱手段2に
よって250°C程度に加熱されている基板4a上の集
積回路チップ5の電(至)36に、ワイヤ34の一端部
35をキャピラリ7によって超音波熱圧着ボンディング
法あるいは熱圧着ボンディング法によって接続する。
よって250°C程度に加熱されている基板4a上の集
積回路チップ5の電(至)36に、ワイヤ34の一端部
35をキャピラリ7によって超音波熱圧着ボンディング
法あるいは熱圧着ボンディング法によって接続する。
次に第7図(3)に示されるように、キャピラリ7を代
かに上昇させて水平移動し、前記基板・la上の導体6
にワイヤ34の途中位置を押付けて超音波熱圧着ボンデ
ィング法あるいは熱圧着ボンディング法によって接続す
る。そこで、第7[](4)に示されるように、キャピ
ラリ7を移動し、クランパ37によってワイヤ34を把
持して上昇し、参照符38で示す部分でワイヤ34を分
断する。その後、キャピラリ7から下方に突出している
ワイヤ34の先端部35を第7図(5)の先端部と同様
に放電によ−)で球状に形成し、次のワイヤボンディン
グ作業の準備状態とする。
かに上昇させて水平移動し、前記基板・la上の導体6
にワイヤ34の途中位置を押付けて超音波熱圧着ボンデ
ィング法あるいは熱圧着ボンディング法によって接続す
る。そこで、第7[](4)に示されるように、キャピ
ラリ7を移動し、クランパ37によってワイヤ34を把
持して上昇し、参照符38で示す部分でワイヤ34を分
断する。その後、キャピラリ7から下方に突出している
ワイヤ34の先端部35を第7図(5)の先端部と同様
に放電によ−)で球状に形成し、次のワイヤボンディン
グ作業の準備状態とする。
キャピラリ7は、前記移動手段23によって移動されて
前述と同様に工業用テレビカメラ22のS程結果に基づ
いてワイヤボンディング作業P業を行う。移動カバー1
5の下面とハウジング1の上面との間は気密とされ、キ
ャピラリ7の外周面と挿通孔18の内周面との間隙は僅
かであるので、ハウジング1のワイヤボンディング作業
空間11内に空気が侵入することはない。したがってワ
イヤ34と導体6との接続時に導体6の表面が酸「ヒす
ることなく、導1本6とワイヤ34とは低抵抗で電気的
に接続され、しかも導体6とワイヤ34との接3強度は
大きい。
前述と同様に工業用テレビカメラ22のS程結果に基づ
いてワイヤボンディング作業P業を行う。移動カバー1
5の下面とハウジング1の上面との間は気密とされ、キ
ャピラリ7の外周面と挿通孔18の内周面との間隙は僅
かであるので、ハウジング1のワイヤボンディング作業
空間11内に空気が侵入することはない。したがってワ
イヤ34と導体6との接続時に導体6の表面が酸「ヒす
ることなく、導1本6とワイヤ34とは低抵抗で電気的
に接続され、しかも導体6とワイヤ34との接3強度は
大きい。
前記作業孔17の真下に配設された基板4a上の全ての
集積回路チップについてワイヤボンディングする際には
、その搬送方向最下流側の部分作業領域12a側から、
順次、ワイヤボンディング作業が行われる。この部分1
1°業領域12a内の全ての集積回路チップについてワ
イヤボンディングfヤ業が終了すると、次に駆動手段4
1(第6図参照)によって搬送手段3が搬送方向下流側
(第1図および第2図の右方)に移動され、隣接する新
たな部分作業領域12bが作業孔17の直下に配置され
て前述と同様なワイヤボンディング作業が行なわれる。
集積回路チップについてワイヤボンディングする際には
、その搬送方向最下流側の部分作業領域12a側から、
順次、ワイヤボンディング作業が行われる。この部分1
1°業領域12a内の全ての集積回路チップについてワ
イヤボンディングfヤ業が終了すると、次に駆動手段4
1(第6図参照)によって搬送手段3が搬送方向下流側
(第1図および第2図の右方)に移動され、隣接する新
たな部分作業領域12bが作業孔17の直下に配置され
て前述と同様なワイヤボンディング作業が行なわれる。
このようにして各部分作業領域12について順次ワイヤ
ボ〉ディング作業を行うことによって、前記基板4a上
のワイヤボンディング作業領域11に取付けられたすべ
ての4A’l’5回路チップについてワイヤボンディン
グ作業を完了することができる。
ボ〉ディング作業を行うことによって、前記基板4a上
のワイヤボンディング作業領域11に取付けられたすべ
ての4A’l’5回路チップについてワイヤボンディン
グ作業を完了することができる。
このようにして作業孔17の直下の基板4aに取1寸け
られたすべての集積回路チップについてワイヤボンディ
ング(V業が終了すると、前記駆動手段41によって搬
送手段3が搬送方向下流側に移動され、隣接する新たな
基板4が作業孔17の直下に配置されて前述と同様なワ
イヤボンディング作業が行なわれる。
られたすべての集積回路チップについてワイヤボンディ
ング(V業が終了すると、前記駆動手段41によって搬
送手段3が搬送方向下流側に移動され、隣接する新たな
基板4が作業孔17の直下に配置されて前述と同様なワ
イヤボンディング作業が行なわれる。
このように本実施例の装置では、移動カバー15を移動
させるための移動手段としてY方向駆動テーブル25に
同期したY方向駆動テーブル28のみを使用しており、
Y方向駆動テーブル25と前記搬送手段3とによってキ
ャピラリ7と集積回路チップ5との相対的な位置決めを
行うようにしたので、移動カバー15のX方向駆動テー
ブルを設ける必要はなく、装置全体の構成が簡単となる
。
させるための移動手段としてY方向駆動テーブル25に
同期したY方向駆動テーブル28のみを使用しており、
Y方向駆動テーブル25と前記搬送手段3とによってキ
ャピラリ7と集積回路チップ5との相対的な位置決めを
行うようにしたので、移動カバー15のX方向駆動テー
ブルを設ける必要はなく、装置全体の構成が簡単となる
。
また、本実施例では基板4上のワイヤボンディングすべ
き領域11を分割して各部分作業領域12町にワイヤボ
ンディング作業を行うようにしたので、ボンディングヘ
ッド21のX方向の可動範囲を越えた大形基板(たとえ
ばサーマルヘンド基板)などでも、当該基板上のすべて
のワイヤボンディング作業領域についてワイヤボンディ
ングすることができ、その機能性が格段に向上される。
き領域11を分割して各部分作業領域12町にワイヤボ
ンディング作業を行うようにしたので、ボンディングヘ
ッド21のX方向の可動範囲を越えた大形基板(たとえ
ばサーマルヘンド基板)などでも、当該基板上のすべて
のワイヤボンディング作業領域についてワイヤボンディ
ングすることができ、その機能性が格段に向上される。
前記導体は銅系であるけれども、他の実施例においては
、その他の金属が用いられてもよい。
、その他の金属が用いられてもよい。
他の実施例としては、前記キャピラリ7のX方向駆動テ
ーブル24を省略してもよい。このときには、各基板4
を搬送する搬送手段3とキャピラリ7のY方向駆動テー
ブル25とを駆動することによって、高精度でハイブリ
ッド集積回路とキャピラリ7とを相対的に変位移動して
ワイヤボンディング作業を行うようにしてもよい。
ーブル24を省略してもよい。このときには、各基板4
を搬送する搬送手段3とキャピラリ7のY方向駆動テー
ブル25とを駆動することによって、高精度でハイブリ
ッド集積回路とキャピラリ7とを相対的に変位移動して
ワイヤボンディング作業を行うようにしてもよい。
キャピラリ7をZ方向にのみ変位駆動する手段を設け、
ハウジング1をX方向駆動テーブルとY方向駆動テーブ
ル上に配置して、キャピラリ7と基板4および集積回路
チップ5との相対的、が−)高精度な位置決めを行うよ
うにしてもよい。
ハウジング1をX方向駆動テーブルとY方向駆動テーブ
ル上に配置して、キャピラリ7と基板4および集積回路
チップ5との相対的、が−)高精度な位置決めを行うよ
うにしてもよい。
発明の効果
以上のように本発明に従えば、ワイヤボンディング作業
中においてワイヤボンディング作業空間内への空気など
の侵入を防ぐことができ、導体の材料としてたとえば銅
などが用いられた場きには、その酸化を防ぐことができ
る。したがって、電気抵抗が小さな状態で接続すること
ができるとともに、ワーfヤの接合強度を強くするなど
の極めて良好な電気的特性で導体と集積回路チップ等の
ワイヤボンディングを実現することができる。
中においてワイヤボンディング作業空間内への空気など
の侵入を防ぐことができ、導体の材料としてたとえば銅
などが用いられた場きには、その酸化を防ぐことができ
る。したがって、電気抵抗が小さな状態で接続すること
ができるとともに、ワーfヤの接合強度を強くするなど
の極めて良好な電気的特性で導体と集積回路チップ等の
ワイヤボンディングを実現することができる。
また本発明に従えば、移動カバーの搬送方向についての
変位駆動手段を設ける必要がないので、装置全体の構成
が簡単になる。さらにワイヤボンディングすべき作業領
域のキャピラリに対する搬送方向の移動を搬送手段によ
って行うようにしたので、キャピラリの可動範囲を越え
る大形基板についてもワイヤボンディングすることがで
き、その機能性が格段に向上される。
変位駆動手段を設ける必要がないので、装置全体の構成
が簡単になる。さらにワイヤボンディングすべき作業領
域のキャピラリに対する搬送方向の移動を搬送手段によ
って行うようにしたので、キャピラリの可動範囲を越え
る大形基板についてもワイヤボンディングすることがで
き、その機能性が格段に向上される。
第1図は本発明の一実施例の一部を示す断面図、第2図
はハイブリッド集積回路を構成する基板Xlの平面図、
第3図はハウジング1とその付近の簡略1ヒした平面図
、第4図はハウジング1の斜視図、第5図はハウジング
1および移動カバー15を示す斜視図、第6図は装置全
体の構成を示す部分断面図、第7(2Iは動f11:を
説明するための図である。 ■・・・ハウジング、2・・・加熱手段、3・・・搬送
手段、−4,4a・・・基板、5・・・集積回路チップ
、6・・・導体、7・・・キャピラリ、11・・・ワイ
ヤボンディング作業空間、15・・・移動カバー、17
・・・作業孔、18・・・挿通孔、21・・・工業用テ
レビ取はアーム、24・・・X方向駆動テーブル、25
・・・Y方向駆動テーブル、26・・・ボンディングヘ
ッド、26a・・・Z方向駆動機構、28・・・Y方向
駆動テーブル、3−1・・・ワイヤ、11・・・ワイヤ
ボンディング作業領域、12・・・部分作業領域 代理人 弁理士 西教 圭一部 第 1 図 第2図 第3図 9 lb13 第4図 第7図
はハイブリッド集積回路を構成する基板Xlの平面図、
第3図はハウジング1とその付近の簡略1ヒした平面図
、第4図はハウジング1の斜視図、第5図はハウジング
1および移動カバー15を示す斜視図、第6図は装置全
体の構成を示す部分断面図、第7(2Iは動f11:を
説明するための図である。 ■・・・ハウジング、2・・・加熱手段、3・・・搬送
手段、−4,4a・・・基板、5・・・集積回路チップ
、6・・・導体、7・・・キャピラリ、11・・・ワイ
ヤボンディング作業空間、15・・・移動カバー、17
・・・作業孔、18・・・挿通孔、21・・・工業用テ
レビ取はアーム、24・・・X方向駆動テーブル、25
・・・Y方向駆動テーブル、26・・・ボンディングヘ
ッド、26a・・・Z方向駆動機構、28・・・Y方向
駆動テーブル、3−1・・・ワイヤ、11・・・ワイヤ
ボンディング作業領域、12・・・部分作業領域 代理人 弁理士 西教 圭一部 第 1 図 第2図 第3図 9 lb13 第4図 第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一表面に導体が形成された電気絶縁性基板上に集積回
路チップを接着した状態で前記導体と集積回路チップと
をワイヤボンディングするハイブリッド集積回路のワイ
ヤボンディング装置において、前記基板上の導体と集積
回路チップとを接続するためのワイヤが供給され、この
ワイヤによって前記導体と集積回路チップとを接続する
キャピラリと、 前記基板を収納する空間を有し、この空間内には還元性
ガスまたは不活性ガスが供給され、ワイヤボンディング
すべき領域の上方にキャピラリが挿通する作業孔が形成
されるハウジングと、前記基板を加熱する加熱手段と、 ハウジング内のワイヤのボンディング作業空間内におい
て、基板を予め定める搬送方向に移動変位させる搬送手
段と、 前記作業孔を覆い、キャピラリが挿通する必要最小限度
の大きさの挿通孔を有し、前記搬送方向に対して交差す
る方向に変位自在である移動カバーと、 移動カバーを前記交差方向に変位駆動する変位駆動手段
と、 キャピラリを実質的に前記交差方向に駆動変位する変位
駆動手段とを含み、 前記作業孔は、キャピラリが前記交差方向に変位してワ
イヤボンディングすることができるように前記交差方向
に長めの形状を有することを特徴とするハイブリッド集
積回路のワイヤボンディング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63127839A JPH088273B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | ハイブリッド集積回路のワイヤボンディング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63127839A JPH088273B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | ハイブリッド集積回路のワイヤボンディング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01296636A true JPH01296636A (ja) | 1989-11-30 |
JPH088273B2 JPH088273B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=14969940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63127839A Expired - Fee Related JPH088273B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | ハイブリッド集積回路のワイヤボンディング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH088273B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7303109B2 (en) * | 2003-07-01 | 2007-12-04 | Asm Technology Singapore Pte Ltd. | Stud bumping apparatus |
-
1988
- 1988-05-24 JP JP63127839A patent/JPH088273B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7303109B2 (en) * | 2003-07-01 | 2007-12-04 | Asm Technology Singapore Pte Ltd. | Stud bumping apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH088273B2 (ja) | 1996-01-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |