JPH01282999A - 音響用振動板及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は音響用振動板とその製造法に関するものであ
る。

［従来の技術］ 音響用振動板、特に高音用スピーカ及び中音用スピーカ
に使用される振動板として、その材質や振動板基材の表
面を処理するための数多くの方法が従来より提案されて
きたが、このうち、振動板基材の表面にアモルファス（
非結晶）が少ないダイヤモンド皮膜を形成する方法とし
ては、第１４図（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、熱フイラ
メント法、電子衝撃化学輸送法（ＥＡＣＶＤ法）及びマ
イクロ波化学輸送法（ＭＣＶＤ法）があり、更に１図に
は示さないが、プラズマジェット法やＤＣプラズマ法等
がある。

また、ダイヤモンド膜だけで振動板を得る方法としては
特開昭８１−１２８７００号公報が知られており、第１
５図（Ａ）に示すように、振動板形状に形成した単結晶
硅素４０の上にメタン（ＣＨ４）と水素（Ｈ２）の混合
ガスを上記した２、４５ＧＨｚのＭＣＶＤ法によりダイ
ヤモンド膜４１を堆積させたのち、単結晶硅素を溶解し
て、第１５図（Ｂ）に示すようなダイヤモンド振動板４
２を製造する方法である。

［発明が解決しようとする課題］ ところが上記した従来の音響用振動板及びその製造法に
は次のような問題点がある。

第１に、熱フイラメント法及びＥＡＣＶＤ法は皮膜を得
る面積が小さく、被着物である振動板基材との距離が短
いこと及び膜厚分布も悪い、また、ＭＣＶＤ法はその被
着面積が導波管と反応する石英管とプラズマのサイズで
決定されることが知られており、いずれの方法によって
も被着面の直径は３〜ｌ０ｃｍであるため、直径１イン
チの振動板が１〜５枚程度処理できる能力しかない、ま
た、時間当りの付着膜厚はｌ−１０ｇ／　ｃｍ’のレー
トであって高価格となって量産性に乏しい、という欠点
がある。

第２に、上記したいずれの方法も、フィラメントの加熱
、直流放電又は高周波のマイクロ波の放電によりダイヤ
モンド膜を得る方法であるため、振動板基材には１００
０度におよぶ熱が加わり、基材の変形や損壊が生じるこ
とからその放熱を改善する必要がある。

第３に、ダヤモンド膜だけの振動板を製造する方法にお
いて、上記した特開昭８１−１２８７００号公報記載の
方法では単結晶硅素４０を目的形状にするための加工が
困難であると共に堆積面の直径が３〜１０ｃ＋ｓであり
、しかも時間当りの堆積速度が１用以下であるから、数
十ミクロンのダイヤモンド膜による振動板を得るために
は数十時間を要し、量産性に欠ける難点がある。

この発明の第１の目的は、振動板基材の表面にダイヤモ
ンド膜を形成した低床な、しかも、径の大きな振動板で
あってもダイヤモンド膜厚を均一に形成した音響用振動
板を提供することにある。

この発明の第２の目的は、振動板基材の表面にダイヤモ
ンド膜を形成するに際し、短時間で確実に皮膜を形成す
ることができ、量産性に富むのは勿論、振動板の大きさ
に制限を受けることがない音響用振動板の製造法を提供
することにある。

この発明の第３の目的は、ダイヤモンド膜だけの音響用
振動板を製造するに際し、短時間で製造できて量産性に
富み、しかも振動板の大きさに制限を受けることがない
音響用振動板の製造法を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、この発明に係る音響用振動板
においては、振動板形状に形成したセラミックスによる
振動板基材の少なくとも片面に、アルゴン、炭化水素及
び水素の混合したガスを熱プラズマ放射することにより
結晶質ダイヤモンド膜を形成したものである。

この場合、振動板基材としては、炭化硅素などの炭化物
系セラミックスとしたり、酸化アルミニウム又は酸化ジ
ルコニウムなどの酸化物系セラミックス、或いは、窒化
チタン又は窒化硼素などの窒化物系セラミックスで形成
することができる。

更には、上記振動板基材を金属振動板基材とすることが
でき、また、この金属振動板基材をチタニウムとし、ア
ルゴンと炭化水素ガスを熱プラズマ放射することにより
振動板基材面に炭化チタン層を形成して該炭化チタン層
の上に、上記アルゴンと炭化水素ガスに水素を加えて熱
プラズマ放射して結晶質ダイヤモンド膜を形成して、チ
タニウム、炭化チタン及びダイヤモンドの三層の素材層
を形成したものとすることができる。

この発明に係る音響用振動板の製造法において、振動板
形状に形成した金属基材の表面にダイヤモンド膜を形成
したのち金属基材を溶解させて、ダイヤモンド膜だけで
形成された音響用振動板を製造するに際しては、チタニ
ウム、タンタル又はモリブデンで振動板形状に形成した
金属基材に、アルゴン、炭化水素及び水素の混合ガスを
熱プラズマ放射することにより結晶質のダイヤモンドを
堆積させてダヤモンド膜を形成し、上記金属基材を溶解
させる。

また、この場合、金属基材の表面に硅素又は炭化チタン
を蒸着し、その上に上記手段によって結晶質ダイヤモン
ド膜を形成したのち、金属基材を溶解せしめることもで
きる。

一方、振動根基村上にダイヤモンド膜を形成して９９用
振動板を製造する方法においては、振動板基材と該振動
板基材をセットすべき放熱器との間にセラミックパウダ
ーを充填して振動板を冷却しながら、この振動根基村上
に、アルゴン、炭化水素及び水素の混合ガスを熱プラズ
マ放射して結晶質ダイヤモンド膜を形成する。

この場合、充填されるべきセラミックパウダーとしては
、ダイヤモンド、立方晶窒化硼素及び炭化硅素によるセ
ラミックスとすることができる。

また、振動板基材を該振動板基材の形状に対応する形状
のセット部を備えた放熱器にセットして水冷しながら、
上記振動根基村上に、アルゴン、炭化水素及び水素の混
合ガスを熱プラズマ放射して結晶質ダイヤモンド膜を形
成する方法を採ることができる。

この場合、放熱器のセット部の表面に、ダイヤモンド、
立方晶窒化硼素及び炭化硅素を蒸着してセラミックス膜
を形成して振動板基材の冷却効果を高めることができる
。

［作用］ この発明に係る音響用振動板のうち、振動板基材上に結
晶質のダイヤモンド膜を形成してなる振動板においては
、後に詳述するように、音速に優れており、また、ダイ
ヤモンド特有の高硬度、高剛性の特長によって分割振動
が低減され、優れた振動板とすることができる。

結晶質ダイヤモンド膜だけで形成された振動板において
は膜厚が均一となっており、また、音速は更に優れてい
る。

この発明に係る音響用振動板の製造法においては、基材
上にダヤモンド膜を形成するに際し、混合ガスを大量に
供給する熱プラズマ化学輸送法（熱プラズマＣＶＤ法）
が用いられ、混合ガスとしては、アルゴン、炭化水素及
び水素が使用される。この方法では高温のプラズマを発
生させることができ、直流放電の電極はプラズマトーチ
内にあるため被着物である基材との間隔に自由度がある
。また、基材をプラズマトーチを中心として移動させる
ことにより数多く処理することができ、しかも時間あた
りの付着速度にも優れている。

従って、基材上には均一な膜厚の結晶質ダイヤモンド膜
を迅速に形成することができ、また、被着物である基材
の大きさに制限を受けることがない。

このため、金属基村上にダイヤモンド膜を形成した後こ
の金属基材を溶解させてダイヤモンド膜だけの振動板を
製造する方法においても、所定厚さの結晶質ダイヤモン
ド振動板を量産することができる。

熱プラズマＣＶＤ法は上記のように高温のプラズマを発
生させるものであるから、振動板基材の溶融や極度の変
形が生じ、或いは炭素化が促進されてダイヤモンド膜が
生成されないおそれがるが、この振動板基材を冷却しな
がら結晶質ダイヤモンド膜を形成することにより所期の
目的を達することができる。

［実施例］ この発明に係る音響用振動板及びその製造法の実施例を
第１図乃至第１３図に基づいて説明すると、第１図は熱
プラズマＣＶＤ法の実施に使用される機構図であり、熱
プラズマを発生するプラズマトーチ（ガン）１及びチャ
ンバー２内は真空排気５によって真空状態におかれてお
り、原料ガス３が供給される。被着物である振動板基材
４は実施例ではドーム型に形成され、冷却水６がｗＩ環
する放熱器７上にセットされる。この放熱器７は回転す
るようになっている。

プラズマトーチ１はアノード（陽極）８とカソード（陰
極）９で構成した電極間の直流放電によって炭化水素ガ
スのメタンと水素が分解したプラズマをトーチから放出
し、化学輸送法（ＣＶＤ）によって振動板基材４上に結
晶粒のダイヤモンド膜が堆植する。

この方式においてはプラズマトーチ１に混合ガスを大量
に供給し、高温のプラズマを発生させることができ、直
流放電の電極はプラズマトーチ内にあるため被着物たる
上記振動板基材４との間隔に自由度がある。また、プラ
ズマトーチを中心として振動板基材４を移動させること
により数多く処理することができ、従来法にない利点が
ある。

更に、この熱プラズマＣＶＤ法ではダイヤモンド膜の生
成に大量のガスを供給する方式であるため、従来の１０
〜５０倍の付着速度が得られ、量産性に適している。

第２図は上記した熱プラズマＣＶＤ法によるプラズマジ
ェット温度分布図であるが、アーク放電電流によって生
じる誘導磁場でアーク柱が搾られるためプラズマトーチ
ｌの出口では１００００度乃至２００００度に達する。

放熱器７にセットされた振動板基材４はこの高温にさら
されるからこの振動板基材４を効率的に冷却する必要が
ある。

実験例として、供給すべき原料ガス（混合ガス）の混合
比を アルゴン　　　１００％ メタン　　　　０．１％ 水　　素　　　　　　　　７　％ とし、その他の条件を、 真空度　　　　　　　　　２０　Ｔｏｒｒ振動板基材　
　　炭化硅素（Ｓｉｎ）　４０ＪＬ　　蒸着基材の大き
さ　　　　　２．５ｃｍ として、支持面が平坦な従来の支持装置に上記ドーム型
の振動板基材をセットして冷却しないで熱プラズマ放射
したところ、振動板基材の表面の温度が２０００〜３０
００度に達し、振動板基材が熔融したり極度の変形が生
じた。また、高温であるため炭素化が促進され、ダイヤ
モンド膜が生成されなかった。

そこで第３図及び第４図に示すような放熱器７を設けた
ものである。

銅製の放熱器７には振動板基材４のヒンジ部を固定する
押え治具１０が設けられており、内部の通水路１１を介
して冷却水６が循環することにより冷却されるようにな
っている。第３図（Ａ）においては振動板基材４のドー
ム径よりもやや小径の半球状のセット部１２を形成し、
このセット部１２に振動板基材４をセットするが、振動
板基材４との間にセラミックパウダー１３を充填する。

第３図（Ａ）の冷却手段で振動板基材を冷却しなから熱
プラズマ放射すると、振動板基材の表面温度は８００〜
１０００度に保つことができた。

第３図（Ｂ）に示すものにおいては、載設部が平坦な放
熱器にドーム型の振動板基材４をセットする場合に、載
設部と振動板基材との間にセラミックスパウダー１４を
充填したものである。このセラミックスパウダーとして
は、ダイヤモンド、立方晶窒化硼素（ＣＢＮ）、炭化硅
素（Ｓｉｎ）のパウダーである。いずれのパウダーも１
５００度以上の融点をもち、且つ、熱伝導率が放熱器７
の素材である銅と同等又はそれ以上である素材が好まし
い、これらの素材の熱伝導率は次の通りである。

銅　　　　　　　　　３．８５　Ｗ／　ｃｒａ　＊℃ダ
イヤモンド　　　２０．０ 立方晶窒化硼素　　　８．０ 炭化硅素　　　　　　２．７ セラミック粒径　　　０．５〜２座 上記第３図（Ｂ）における冷却でも第３図（Ａ）と同様
、振動板基材の表面温度を８００〜１０００度に保つこ
とができた。

上記のような第３図（Ａ）、（Ｂ）に示す冷却手段を用
いて振動板基材を冷却すると振動板基材の表面温度を３
分の一〜４分の−に冷却することができ、これによって
放熱器表面の耐熱性を向上させることができて振動板基
材との熱融着による変形がなくなり、また、ガスの発生
によるダイヤモンド膜の品質低下を防止することができ
る。

第４図（Ａ）の放熱器７は振動板基材４のドーム形状に
対応する半球状のセット部１５を形成し、振動板基材を
これに嵌合してセットし、水冷するものである。これに
よっても振動板基材の表面温度を８００〜１０００度に
保つことができた。

第４図（Ｂ）に示すものにおいては、上記セット部１５
の表面に１．Ｓ）プラズマＣＶＤ法を用いてダイヤモン
ド、立方晶窒化硼素、炭化硅素のセラミック膜１６を２
〜４延厚で形成したものである。従って振動板基材４は
セラミック膜１６を介してセット部１５にセットされる
こととなり、これによっても振動板表面温度を８００〜
１０００度に下げることができた。

次に、具体的実施例について説明すると、実施例におい
て、供給すべき原料ガス（混合ガス）の混合比は次の通
りであり、上記した実験例と同様である。

アルゴン　　　１００％ メタン　　　　０．１％ 水　　素　　　　　　　　７　％ その他の条件としては次の通りである。

実施例１ 真空度　　　　　　　　　２０　Ｔａｒｒ振動板基材　
　　炭化硅素（Ｓｉｎ）　４０μ　蒸着基材表面温度　
　　　８００〜１０００度基材の大きさ　　　　　２．
５ｃｍ 形成されたダイヤモンド膜厚　２牌 なお、実施例１においては時間あたりの付着膜厚は、５
０〜１００　ｇ　／ｃｒｒｒ′であった。

この実施例１によって得られたドーム型振動板２１は第
５図（Ａ）に示されており、振動板基材４上に結晶質の
ダイヤモンド膜２２が形成されている。

このダイヤモンド膜２２の分析をラマン分光及びＸ線回
折で行なったところ、第８図のラマン分光特性図に示す
ように、１３３３　ｃ　ｍ”にダイヤモンド特有のピー
クが得られると共にＸ線も同様にダイヤモンドの回折を
示し、同定される。

また、実施例１において、振動板基材４として、酸化物
系又は窒化物系であって、低密度、高弾性であり、音速
が１００００＋ｓ／ｓ以上のセラミックスを使用するこ
とができ、これによって製造されたドーム型振動板を第
５図（Ｂ）　、　（Ｃ）にそれぞれ示す。

これらのドーム型振動板２１において、実施例１により
得られた第５図（Ａ）の振動板においては、音速が１０
０００〜１２０００＋１／３であり、第５図（Ｂ）の振
動板では９０００〜１１０００腸／ｇ　、第５図（Ｃ）
の振動板では８０００〜１００００ｍ／ｓが得られ、従
来のスピーカの周波数特性に対して約り、Ｓ〜２．４倍
の高域再生が可能なスピーカとすることができる。

第１１図は実施例１によって得られた上記第５図（Ａ）
のドーム型振動板の周波数特性Ａ（実線で示す）とチタ
ニウムだけによるドーム型振動板の周波数特性Ｂ（破線
で示す）を比較した周波数特性図であり、第５図（Ａ）
のものＡは特に高域において著しく改善されていること
が判明する。

実施例２ 実施例１において、振動板基材４として金属基材を用い
たものであり、実施例１の条件中、基材表面温度は６０
０〜１０００度である。その他は実施例１と同様である
。

この実施例２によって得られたドーム型振動板２１は第
６図（Ａ）に示されており、ダイヤモンド膜２２の分析
を実施例１と同様に行なった。ラマン分光特性は第９図
に示されており、この分光特性図から明らかなように、
実施例１と同様、１３３３ｃｍ’にダイヤモンド特有の
ピークが得られ、また、Ｘ線回折でも同定された。

実施例２において、金属振動板基材４としてチタンを用
いてその表面にアルゴンと炭化水素ガスの熱プラズマ放
射をして炭化チタン層を形成し、次に上記アルゴンと炭
化水素に水素を加えて上記炭化チタン層の表面に結晶質
ダイヤモンド膜を形成することにより、第６図（Ｂ）に
示すように、チタニウム基材４、炭化チタン層２３、ダ
イヤモンド膜２２の三層からなるドーム型振動板２１と
することができる。

実施例２によって得られた第６図（Ａ）に示すドーム型
振動板２１においては、音速が８０００〜１００００１
１／Ｓであり、第６図（Ｂ）に示すものにおｌ、％ては
９０００〜１１０００ｍ／ｓが得られる。

第１２図は実施例２によって得られた上記第６図（Ａ）
のドーム型振動板の周波数特性Ａとチタニウムだけによ
るドーム型振動板の周波数特性Ｂを比較した周波数特性
図である。

実施例３ 実施例１において、基材４としてチタニウム（Ｔｉ）で
ドーム型振動板形状に形成した金属基材２０（第７図（
Ａ））を用い、その表面に結晶質ダイヤモンド膜を形成
した。この場合の条件は次の通りである。

真空度　　　　　　　　１００　Ｔｏｒｒ基　材　　　
　　　チタニウム　３（１４を基材表面温度　　　　　
８００〜１０００度基材の大きさ　　　　　２．５ｃｍ 堆積時間　　　　　　　４５分 形成されたダイヤモンド膜厚　４０弘 上記のようにして金属基材２０上に結晶質ダイヤモンド
膜２２を形成したものにおいてはダイヤモンドは１〜５
戸の結晶粒が堆積し、ポール状の結晶面をもった膜が得
られた。これを実施例１と同様のラマン分光及びＸ線回
折をしたところ、このラマン分光特性は第１Ｏ図（Ａ）
に示すように、実施例１と同様、１３３３ｃｓ″′Ｉに
ダイヤモンド特有のピークが得られ、また、Ｘ線回折に
よっても同定された。

上記のようにしてダイヤモンド膜２２が形成された金属
基材２０を弗化水素（ＨＦ）と硝酸の１　：　ｌｉ合液
を用いて溶解し、厚さ４０．のダイヤモンド膜だけのド
ーム型振動板２１を得た。

上記実施例３において、第７図（Ｂ）に示すように、金
属基材２０の表面に硅素（Ｓｉ）を蒸着して蒸着膜２４
を形成し、その上にダイヤモンド膜２２を形成した。こ
の場合硅素の蒸着膜２４は金属基材２０との反応を防ぐ
役目をし、ダイヤモンド膜２２の品質が向上する。また
、この蒸着膜は上例の混合液で溶解させることができる
特徴がある。ダイヤモンドは１〜５ルの結晶粒が堆積し
ていることは上例と同様であるが、１００配向の結晶面
をもった膜が得られた。ダイヤモンドＩ］Ｉ２２２の分
析は上例と同様であり、ラマン分光特性は第１０図（Ｂ
）に示す通りである。

第７図（Ｂ）に示すように、上例と同様の手段で金属基
材２０及び蒸着膜２４を溶解させてダイヤモンド膜２２
だけのドーム型振動板２１を得た。

なお、実施例３においては金属基材としてチタニウムを
用いたが、タンタル（Ｔａ）でも可能であり、更には、
タングステン、ニオブ等の高融点の素材を使用すること
ができる。また、Ｍ着膜２４を炭化硅素とすることもで
きる。

実施例３によって得られた第７図（Ａ）　、（Ｂ）に示
すダイヤモンドドーム振動板２１の音響定数は、密度３
〜３．４　（ｇ／ｃｒｎ”）　、ヤング率５．９〜８．
２　ｘ　１０１１（Ｐａ）が得られ、音速は、第７図（
Ａ）のものにおいては１３０００〜１５０００　ｔａｇ
ｓ　、第７図（Ｂ）に示すものにおいては１４０００〜
１θ０００　ｔａｇｓが得られる。この特性は従来のス
ピーカの周波数特性に対して約２゜６〜３．２倍にあた
る１００ＫＨｚまで高域再生が可能なスピーカを得るこ
とができる。

［発明の効果］ この発明に係る音響用振動板によれば、音響定数に優れ
ており、特に高域における周波数特性を大幅に改善する
ことができて、高音用、中音用のスピーカに最適である
。また、ダイヤモンド特有の高強度、高剛性の特長によ
って分割振動を低減することができ、歪の少ないスピー
カとすることができる。

この発明に係る音響用振動板の製造法によれば、ダイヤ
モンド膜の生成に大量のガスを供給する熱プラズマＣＶ
Ｄ法が用いられ、振動板基材を冷却しながらプラズマ放
射を行なうものであるから、振動板基材を溶融したり変
形したりすることなく振動根基村上に所定膜圧のダイヤ
モンド膜を形成することができ、また、その生成速度は
従来の１０〜５０倍の付着速度を得ることができると共
に振動板基材を移動させることにより多数枚処理するこ
とができるから量産性に優れ、特性的に優れた音響用振
動板を安価に製造することができる。

また、このように基材上に所定膜圧のダイヤモンド膜を
迅速に形成することができることから、基材を金属材と
してダイヤモンド膜を形成したのちこの金属基材を溶解
させてダイヤモンド膜だけの振動板を得る場合において
も砥産が可能であり、この種の音響用振動板の製造法と
して最適である。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第１３図はこの発明に係る音響用振動板及び
その製造法の実施例を示し、第１図は熱プラズマＣＶＤ
法の実施に使用される機構図、第２図はプラズマジェッ
ト温度分布図、第３図及び第４図は放熱器の断面図、第
５図及び第６図は音響用振動板の断面図、第７図はダイ
ヤモンド膜だけの音響用振動板を製造する過程における
基材とダイヤモンド膜を示す断面図、第８図乃至第１０
図はラマン分光特性図、第１１図乃至第１３図は音響用
振動板を組み込んだスピーカの周波数特性図である。 第１４図は従来のダイヤモンド膜形成法の機構図、第１
５図は従来のダイヤモンド膜だけによる音響用振動板の
製造法における基材とダイヤモンド膜を示す断面図であ
る。 ■＝プラズマトーチ、２：チャンバー、３：混合ガス４
：振動板基材、５：真空排気、６：冷却水、７：放熱器
８ニアノード、９：カソード、１０：押え治具１１：通
水路、１２：セット部、１５：セット部１３：　セラミ
ックパウダー １４：セラミックスパウダー、１８：セラミック膜２０
：金属基材、２１：　　ドーム型振動板２２：ダイヤモ
ンド膜、２３：炭化チタン層２４：蒸着膜 特許出願人　　　株式会社　ケンウッド第１図 第２図 ｍバＹ−― 第５図 第６図 第９図 ＋８００　　　　１６００　　　１４００　　　１２０
０　　　１０００シ皮畏　　（Ｃｍ−Ｉ） １２　　酋 第１０図 （Ａ） 温長（ｃｍ−１） （Ｂ） 液長（ｃｍ−’） 第１１図 Ｂ 第１２図 Ｂ 第１３図 Ｂ °［ ロ　裏

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、振動板形状に形成したセラミックスの振動板基材の
   少なくとも片面に、アルゴン、炭化水素及び水素の混合
   したガスを熱プラズマ放射することにより結晶質ダイヤ
   モンド膜を形成したことを特徴とする音響用振動板。 ２、振動板基材が炭化硅素などの炭化物系セラミックス
   であることを特徴とする請求項１記載の音響用振動板。 ３、振動板基材が酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウ
   ムなどの酸化物系セラミックスであることを特徴とする
   請求項１記載の音響用振動板。 ４、振動板基材が窒化チタン又は窒化硼素などの窒化物
   系セラミックスであることを特徴とする請求項１記載の
   音響用振動板。 ５、振動板形状に形成した金属振動板基材の少なくとも
   片面に、アルゴン、炭化水素及び水素を混合したガスを
   熱プラズマ放射することにより結晶質ダイヤモンド膜を
   形成したことを特徴とする音響用振動板。 ５、金属振動板基材をチタニウムとし、アルゴンと炭化
   水素ガスを熱プラズマ放射することにより振動板基材面
   に炭化チタン層を形成し、該炭化チタン層の上に、上記
   アルゴンと炭化水素ガスに水素を加えて熱プラズマ放射
   して結晶質ダイヤモンド膜を形成して、チタニウム、炭
   化チタン及びダイヤモンドの三層の素材層からなること
   を特徴とする請求項５記載の音響用振動板。 ７、チタニウム、タンタル又はモリブデンで振動板形状
   に形成した金属基材に、アルゴン、炭化水素及び水素の
   混合ガスを熱プラズマ放射することにより結晶質のダイ
   ヤモンドを堆積させてダヤモンド膜を形成したのち、金
   属基材を溶解せしめてダイヤモンド膜で振動板形状とし
   たことを特徴とする音響用振動板。 ８、金属基材の表面に硅素又は炭化チタンを蒸着し、そ
   の上にダイヤモンド膜を形成したのち、金属基材を溶解
   せしめたことを特徴とする請求項７記載の音響用振動板
   。 ９、振動板形状に形成した金属基材の表面にダイヤモン
   ド膜を形成したのち金属基材を溶解させて、ダイヤモン
   ド膜だけで形成された振動板を得る音響用振動板の製造
   法において、 チタニウム、タンタル又はモリブデンで振動板形状に形
   成した金属基材に、アルゴン、炭化水素及び水素の混合
   ガスを熱プラズマ放射することにより結晶質のダイヤモ
   ンドを堆積させてダヤモンド膜を形成し、金属基材を溶
   解させることを特徴とする音響用振動板の製造法。 １０、金属基材の表面に硅素又は炭化チタンを蒸着し、
   その上に結晶質ダイヤモンド膜を形成したのち、金属基
   材を溶解せしめることを特徴とする請求項９記載の音響
   用振動板の製造法。 １１、振動板基材上に、アルゴン、炭化水素及び水素の
   混合ガスを熱プラズマ放射して結晶質ダイヤモンド膜を
   形成する音響用振動板の製造法において、 振動板基材と該振動板基材をセットすべき放熱器との間
   にセラミックパウダーを充填すると共に放熱器を水冷し
   て振動板を冷却することを特徴とする音響用振動板の製
   造法。 １２、充填されるべきセラミックパウダーが、ダイヤモ
   ンド、立方晶窒化硼素及び炭化硅素によるセラミックス
   であることを特徴とする請求項１１記載の音響用振動板
   の製造法。１３、振動板基材上に、アルゴン、炭化水素
   及び水素の混合ガスを熱プラズマ放射して結晶質ダイヤ
   モンド膜を形成する音響用振動板の製造法において、 振動板基材を該振動板基材の形状に対応する形状のセッ
   ト部を備えた放熱器にセットし、該放熱器を水冷するこ
   とにより振動板基材を冷却することを特徴とする音響用
   振動板の製造法。 １４、放熱器のセット部の表面に、ダイヤモンド、立方
   晶窒化硼素及び炭化硅素を蒸着してセラミックス膜を形
   成して振動板基材の冷却効果を高めることを特徴とする
   請求項１３記載の音響用振動板の製造法。