JPH01264929A - 透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法 - Google Patents
透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法Info
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- JPH01264929A JPH01264929A JP9087588A JP9087588A JPH01264929A JP H01264929 A JPH01264929 A JP H01264929A JP 9087588 A JP9087588 A JP 9087588A JP 9087588 A JP9087588 A JP 9087588A JP H01264929 A JPH01264929 A JP H01264929A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は暗所室温における抵抗値が10”Ω・ぼレベル
の透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法に関する。
の透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法に関する。
酸化亜鉛は、3.2evのワイドバンドギャップ幅な持
つ牛導体として知られており、その膜が光導電性、(l
E市時特性有することから電子写真用感光材、王を変換
塁子として利用されている。また該酸化亜鉛膜は不純物
のドーピング及び膜の部分還元により導゛亀性な制御す
ることが可能であり、かつ可視光透過性があるため、丸
陽璽、池等の透明4電鍵としての利用が考えられている
。特に。
つ牛導体として知られており、その膜が光導電性、(l
E市時特性有することから電子写真用感光材、王を変換
塁子として利用されている。また該酸化亜鉛膜は不純物
のドーピング及び膜の部分還元により導゛亀性な制御す
ることが可能であり、かつ可視光透過性があるため、丸
陽璽、池等の透明4電鍵としての利用が考えられている
。特に。
Zn5e、CdTe等の1l−Vl族系半導体鵠す用い
た太陽電池を形成する際に、通常のITO,TO透明導
電膜な用いた場合、In、Snとカルコフッ元素が反応
し易く十分な特性を得るのが遺しいため、i−■族系半
導体吸との反応安定性?有しかつマツチングの良いZn
Omk用いることが検討されている。
た太陽電池を形成する際に、通常のITO,TO透明導
電膜な用いた場合、In、Snとカルコフッ元素が反応
し易く十分な特性を得るのが遺しいため、i−■族系半
導体吸との反応安定性?有しかつマツチングの良いZn
Omk用いることが検討されている。
(従来の技術とeI題点)
透明酸化地鉛膜は従来、真空蒸看法、スパッタリング法
、evo法、スプレイノくイロリシス法。
、evo法、スプレイノくイロリシス法。
唾鉛化合物の有機溶液の塗布熱分解法、酸fヒ匝鉛粉末
をペースト化したものをスクリーン印刷後焼成する方法
等により刃台されており、特にスノくツタリング法によ
り作成した、ff族金rm (B、AI。
をペースト化したものをスクリーン印刷後焼成する方法
等により刃台されており、特にスノくツタリング法によ
り作成した、ff族金rm (B、AI。
Sc、Ga、Y、In、Tl )&含有させてなる酸化
亜鉛膜は、500℃迄の耐熱性を有しすぐれた透明性と
導電性(10Ω・ユオーダー)を示す(例えば、特開昭
61−205619号公報)。
亜鉛膜は、500℃迄の耐熱性を有しすぐれた透明性と
導電性(10Ω・ユオーダー)を示す(例えば、特開昭
61−205619号公報)。
しかるに、この方法は高価な装置と高価なターゲット原
料を要し、手軽に実施できない。製造上製造装置、生産
性等のコスト面において、スプレィパイロリシス法、亜
鉛有機化合物溶液の塗布熱分滌法、酸化亜鉛粉末をペー
スト化したものをスクリーン印刷後焼成する方法が優れ
ている。スプレィパイロリシス法では、暎厚の均一性、
@の透明性に問題があり、又酸化亜鉛粉末ペーストのス
クリーン印刷後焼成する方法では、嘆厚数μm以下の薄
膜の作成が困難である。亜鉛有機化合物の塗布熱分解法
は、デバイス作成に使用可能な嗅厚数μm以下の薄膜の
作成に有利な方法であるが、実用上十分な4を性を示さ
なかった。
料を要し、手軽に実施できない。製造上製造装置、生産
性等のコスト面において、スプレィパイロリシス法、亜
鉛有機化合物溶液の塗布熱分滌法、酸化亜鉛粉末をペー
スト化したものをスクリーン印刷後焼成する方法が優れ
ている。スプレィパイロリシス法では、暎厚の均一性、
@の透明性に問題があり、又酸化亜鉛粉末ペーストのス
クリーン印刷後焼成する方法では、嘆厚数μm以下の薄
膜の作成が困難である。亜鉛有機化合物の塗布熱分解法
は、デバイス作成に使用可能な嗅厚数μm以下の薄膜の
作成に有利な方法であるが、実用上十分な4を性を示さ
なかった。
例えば窯業協会誌、第83巻、535頁(1975)に
よれば、亜鉛化合物の有機溶液の塗布熱分解法により調
造した透明酸化亜鉛模は膜の抵抗値が暗所室温において
10 Ω・にと半絶縁性の領域に在り、従って透明導
Tft膜としての特性を有しておらず、実用に用いるこ
とは不可能であった。
よれば、亜鉛化合物の有機溶液の塗布熱分解法により調
造した透明酸化亜鉛模は膜の抵抗値が暗所室温において
10 Ω・にと半絶縁性の領域に在り、従って透明導
Tft膜としての特性を有しておらず、実用に用いるこ
とは不可能であった。
(発明の目的)
本発明者らは、亜鉛化合物の有機溶融の塗布熱分解法に
より弗潰された透明酸化匪鉛噂に導電性を付与するため
、鋭意検討な重ねた結果、#亜鉛化合物の有機浴液にボ
ロンまたはアルミニウム化合物を添加した組成物溶液の
塗布熱分解法により形成した酸化亜鉛韓をさらに水翼雰
囲気で熱処理することにより、目的を達成しイ篠ること
I!tM出し、本発明に到達した。
より弗潰された透明酸化匪鉛噂に導電性を付与するため
、鋭意検討な重ねた結果、#亜鉛化合物の有機浴液にボ
ロンまたはアルミニウム化合物を添加した組成物溶液の
塗布熱分解法により形成した酸化亜鉛韓をさらに水翼雰
囲気で熱処理することにより、目的を達成しイ篠ること
I!tM出し、本発明に到達した。
(e明の構成)
すなわち1本発明によれば、ボロ/またはアルミニウム
な含有させてなる透明導市性酸化亜鉛憤の形成法におい
1、亜鉛化合物の有機溶液にホロンまたはアルミニウム
化合物を加えた組成物tpisxの塗布熱分解により形
成した透明酵化岨鉛ψな水素雰囲気で300℃〜680
℃の鵬l変で熱処理することtW徴とする透明4を性M
化亜鉛率の粘合方法、が得られる。このようにして衾造
された透明酸イと亜鉛Aは叫所室湛における折抗イ1へ
か10”Ω・aレベルの透明導寛性酸仕亜鉛模である。
な含有させてなる透明導市性酸化亜鉛憤の形成法におい
1、亜鉛化合物の有機溶液にホロンまたはアルミニウム
化合物を加えた組成物tpisxの塗布熱分解により形
成した透明酵化岨鉛ψな水素雰囲気で300℃〜680
℃の鵬l変で熱処理することtW徴とする透明4を性M
化亜鉛率の粘合方法、が得られる。このようにして衾造
された透明酸イと亜鉛Aは叫所室湛における折抗イ1へ
か10”Ω・aレベルの透明導寛性酸仕亜鉛模である。
本発明に用いることがでさる陣給化合物は、硝酸叱鉛、
塩化亜鉛・専のS機亜鉛化合物、ヘキサン酸亜鉛、オク
チル1也鉛、ナフチ7酸岨鉛等の有機酸岨鉛、ビルアセ
チルアセトナト亜鉛、ビスオキソブタン酸二チラ) 徂
i等の亜鉛のβ−ジケトン錯体、β−ケトエステル賭体
等である。
塩化亜鉛・専のS機亜鉛化合物、ヘキサン酸亜鉛、オク
チル1也鉛、ナフチ7酸岨鉛等の有機酸岨鉛、ビルアセ
チルアセトナト亜鉛、ビスオキソブタン酸二チラ) 徂
i等の亜鉛のβ−ジケトン錯体、β−ケトエステル賭体
等である。
また、本発明に用いることができるボロン化合物は、は
う酷、醇イビはう素、ハロゲン化はう素。
う酷、醇イビはう素、ハロゲン化はう素。
はう酸エステル類、有機はうX化合物等であり、アルミ
ニウム化合物はアルミニウムイソプロピレート、モノ5
ec−プトキシアルミニウムジイソブロピレート、アル
ミニウム5ec−ブチレート、エチルアセトアセテート
アルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス
(エチルアセトアセテ−))、アルミニウムトリス(ア
セチルアセトネート)、アルミニウムモノアセチルアセ
トネートビス(エチルアセトアセテール)等のアルミニ
ウム有機化合物(アルマレート、キレート)である。
ニウム化合物はアルミニウムイソプロピレート、モノ5
ec−プトキシアルミニウムジイソブロピレート、アル
ミニウム5ec−ブチレート、エチルアセトアセテート
アルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス
(エチルアセトアセテ−))、アルミニウムトリス(ア
セチルアセトネート)、アルミニウムモノアセチルアセ
トネートビス(エチルアセトアセテール)等のアルミニ
ウム有機化合物(アルマレート、キレート)である。
添加するボロンまたはアルミニウム化合物の添加量はB
/ZnまたはA I / Z n換算のモル比で0、1
〜5.0釜の範囲である該モル比が0.1優未iAでは
導電性向上の効果はなく、また5、 0易な越えた」騙
合Vc&エボロノまたはアルミニウムの添7JOfit
増やしても導醒性向上効果はそれ以上上がらない。
/ZnまたはA I / Z n換算のモル比で0、1
〜5.0釜の範囲である該モル比が0.1優未iAでは
導電性向上の効果はなく、また5、 0易な越えた」騙
合Vc&エボロノまたはアルミニウムの添7JOfit
増やしても導醒性向上効果はそれ以上上がらない。
本発明の第一工程では、これら東鉛化合物と必要ニ応じ
テハ、PEG、PVA、PVB、 リノール酸等の有
機バインダーまたは被膜形5!物゛貰ケ有横溶即jに浴
かした浴液と添加するボロンまたはアルミニウム化合物
との組成物溶液?基板に塗布醗酸化雰囲気で焼成する。
テハ、PEG、PVA、PVB、 リノール酸等の有
機バインダーまたは被膜形5!物゛貰ケ有横溶即jに浴
かした浴液と添加するボロンまたはアルミニウム化合物
との組成物溶液?基板に塗布醗酸化雰囲気で焼成する。
この時の焼成温度は400℃以上であることが必要であ
り、基板の安定な、また酸化唾鉛模と基板との反応がお
こらない温度範囲内であれば、結晶粒が成長し易い高融
での焼成の方が望ましい。焼成a1斐が400℃以下で
あると、膜中に炭紫成分が残留し易く、次の第二工程で
の熱処理後に十分な導電性を俳ることが出来ない。以上
の第一工程によって得た散化捗鉛弾を第二工撞では更に
水素′R曲気で300℃〜680℃で熱処理することに
より680℃までの血す熱性を備えた10”Ω・−レベ
ルの透明28電性酸化亜f1e1換を得ることが出来る
。
り、基板の安定な、また酸化唾鉛模と基板との反応がお
こらない温度範囲内であれば、結晶粒が成長し易い高融
での焼成の方が望ましい。焼成a1斐が400℃以下で
あると、膜中に炭紫成分が残留し易く、次の第二工程で
の熱処理後に十分な導電性を俳ることが出来ない。以上
の第一工程によって得た散化捗鉛弾を第二工撞では更に
水素′R曲気で300℃〜680℃で熱処理することに
より680℃までの血す熱性を備えた10”Ω・−レベ
ルの透明28電性酸化亜f1e1換を得ることが出来る
。
次に1本発明を実施例によって其体的に説明するが、以
下の実施例は本発明の範囲を限定するものではない。
下の実施例は本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1
オクチル酸徂鉛20%t 8 (0(?aHs)s
7.7優、リノール酸54のベンゼン溶液を(この時
のB / Z n換算のモル比は1.0 mo 1%で
ある。)Pyrex基板に回転数300 Orpm で
スピアコートvk室温で30分放置、大気下400℃
−時間焼成凌更Vc550℃で一時間焼成を行った。こ
の操作を三回繰り返し換厚約210OAのZnO模な得
た。この膜の抵抗値は10’〜Ω・菌と中絶縁性で光透
過率は〉95%であった。このZnO11i!ケ管状炉
内水素雰囲気550℃で一時間熱処理を行った。この模
の暗所室温における抵抗値は1、IXl”Ω・αで光透
過率は、95%ど熱処理前と殆ど変化無かった。
7.7優、リノール酸54のベンゼン溶液を(この時
のB / Z n換算のモル比は1.0 mo 1%で
ある。)Pyrex基板に回転数300 Orpm で
スピアコートvk室温で30分放置、大気下400℃
−時間焼成凌更Vc550℃で一時間焼成を行った。こ
の操作を三回繰り返し換厚約210OAのZnO模な得
た。この膜の抵抗値は10’〜Ω・菌と中絶縁性で光透
過率は〉95%であった。このZnO11i!ケ管状炉
内水素雰囲気550℃で一時間熱処理を行った。この模
の暗所室温における抵抗値は1、IXl”Ω・αで光透
過率は、95%ど熱処理前と殆ど変化無かった。
央翔例2〜6
実施例2〜6の条件及び結果な第1表にまとめた。
第 1 表 実施例2〜6
比較例1〜9
比較例1〜90条件及び結果な第2表にまとめた。
第 2 表 比較例1〜9
実施例7
オクチル酸岨鉛20%、AI (OC48G)烏0.5
1蚤、リノールfiRS%のベンゼン溶液を(この時の
A I / Z n換算のモル比は1.5%である)
Pyrex基板に回転数300Orpmでスピアコート
後室温で30分放置、大気下400℃で一時間焼成後史
VC550℃で一時間焼放な行った。この操作を三回繰
り返し膜厚約210OAのZnの暎を得た。
1蚤、リノールfiRS%のベンゼン溶液を(この時の
A I / Z n換算のモル比は1.5%である)
Pyrex基板に回転数300Orpmでスピアコート
後室温で30分放置、大気下400℃で一時間焼成後史
VC550℃で一時間焼放な行った。この操作を三回繰
り返し膜厚約210OAのZnの暎を得た。
この膜の抵抗値は106〜Ω・凛と半絶扉性で光透過率
は〉95優であった。このZnO1l#?を管状炉内水
!!雰囲気550℃で一時間熱処理?行った。
は〉95優であった。このZnO1l#?を管状炉内水
!!雰囲気550℃で一時間熱処理?行った。
この暎の暗所室温における抵抗値は1. I X 10
’Ω・αで光透過率は、95慟と熱処理前と殆ど変化無
かった。
’Ω・αで光透過率は、95慟と熱処理前と殆ど変化無
かった。
実施例8〜12
Sj!施f118〜12の条件及び結果?第3表にまと
めた。
めた。
8g 3 表 実施例8〜12
比較例1O〜18
比較例10〜18の条件及び結果9を第4表にまとめた
。
。
第 4 表 比較例1 O〜18(発明の効果
) 本発明のボロンまたはアルミニウムドープ透明4宣性酸
化亜鉛嘆は、上記構成をとることによって、従来のCV
D法、スパッタリング法による透明導電性酸化唾鉛膿比
べ低摩かつ簡便にIM造が可能であり、太陽電池2表示
素子等の通常の透明導電膜として、ITO,TOIIg
の代替となり、さらに今までのITO,TOtllの使
用できなかった工程、応用分野への透明導′IIL膜の
近親利用も可能となる。
) 本発明のボロンまたはアルミニウムドープ透明4宣性酸
化亜鉛嘆は、上記構成をとることによって、従来のCV
D法、スパッタリング法による透明導電性酸化唾鉛膿比
べ低摩かつ簡便にIM造が可能であり、太陽電池2表示
素子等の通常の透明導電膜として、ITO,TOIIg
の代替となり、さらに今までのITO,TOtllの使
用できなかった工程、応用分野への透明導′IIL膜の
近親利用も可能となる。
特許出砂人 三菱金属株式会社
Claims (1)
- (1)ボロンまたはアルミニウムを含有させてなる透明
導電性酸化亜鉛膜の形成法において、亜鉛化合物の有機
溶液にボロンまたはアルミニウム化合物を加えた組成物
溶液の塗布熱分解により形成した透明酸化亜鉛膜を水素
雰囲気で300℃〜680℃の温度で熱処理することを
特徴とする透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9087588A JP2526632B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9087588A JP2526632B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01264929A true JPH01264929A (ja) | 1989-10-23 |
JP2526632B2 JP2526632B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=14010665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9087588A Expired - Lifetime JP2526632B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2526632B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013103843A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 無機結晶膜およびその製造方法 |
WO2013145160A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜 |
WO2013145161A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜 |
-
1988
- 1988-04-13 JP JP9087588A patent/JP2526632B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013103843A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 無機結晶膜およびその製造方法 |
WO2013145160A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜 |
WO2013145161A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜 |
CN104220375A (zh) * | 2012-03-28 | 2014-12-17 | 东芝三菱电机产业系统株式会社 | 金属氧化膜的制造方法及金属氧化膜 |
TWI470680B (zh) * | 2012-03-28 | 2015-01-21 | Toshiba Mitsubishi Elec Inc | 金屬氧化膜之製造方法及金屬氧化膜 |
JPWO2013145161A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2015-08-03 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜 |
JPWO2013145160A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2015-08-03 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜 |
US10351957B2 (en) | 2012-03-28 | 2019-07-16 | Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | Method for producing metal oxide film and metal oxide film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2526632B2 (ja) | 1996-08-21 |
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