JPH01263938A

JPH01263938A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH01263938A
Application number: JP9105888A
Authority: JP
Inventors: Kunio Hibino; 邦男日比野
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1988-04-13
Filing date: 1988-04-13
Publication date: 1989-10-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は高密度磁気記録媒体に適する強磁性金属薄膜型
の磁気記録媒体の製造方法に関するものでおり、さらに
詳しくは、磁気記録媒体の塗布層を塗布形成するに際し
、空気中の水分の影響を改善した製造方法に関するもの
である。

従来の技術磁気記録分野においては、近年デジタル化、小型化、長
時間化などの高性能化が進んでいるが、それに伴って、
高密度磁気記録の要求が高まシ、磁気記録層を強磁性金
属薄膜で構成した磁気記録媒体が、短波長記録に極めて
有利なことから、盛んに検討されている。

磁気記録媒体に要求される性能としては、電磁変換特性
、走行性、耐久性、保存特性などが上げられる。

強磁性金属薄膜型磁気記録媒体においては、高密度磁気
記録を達成するために、基板に優れた表面性を要求する
。即ち、高出力、走行性、耐久性を確保するために表面
平滑性に優れた基板上に微粒子と結合剤からなる下地層
を設けた基板上に強磁性金属薄膜を形成することが提案
されている。

（特開昭５７−１４０６２９号公報、特開昭５７−１５
２１８５号公報、特開昭５７−１５９８４１号公報、特
開昭５７−１５９８４２号公報など）しかし、この様な
優れた表面性を持った磁気記録媒体によっても、十分な
走行性、耐久性、電磁変換特性は得られていない。

すなわち、基板表面上に下地層を形成しても、その機能
を十分発揮できない原因の一つに均一な塗膜が得られて
いないことがある。上記のような下地層を形成するには
、固体微粒子を含む樹脂溶液を基板上に塗布することが
行われるが、塗布された塗布液が乾燥ラインにはいるま
での過程で、しばしばハジキや塗布ムラを生じることが
あるからである。

このように下地処理液の塗布時にハジキや塗布ムラが生
じた基板上に、強磁性金属薄膜を形成した磁気記録媒体
は、磁気ヘッドなどに擦られた時に、特に高湿時には、
その摩擦状態が一様にならないために、走行状態が不安
定になって、走行不良になったり、スチル耐久性が悪く
なったり、再生出力のエンペロープ不良、ドロップ・ア
ウトの増加が発生する。

発明が解決しようとする課題そのために、均一な下地層を形成すべく、種々の検討を
重ねた結果、下地層形成工程中の塗布層形成個所の雰囲
気中の水分が大きな影響を与えることが判明した。この
問題の解決方法として、特開昭６１−１０５７２９号公
報には、この塗布層形成個所の周囲雰囲気の相対湿度を
７０％以下にすると、良好な潤滑層形成がなされる旨が
記載されている。しかし、基板上の下地層形成に適用し
たところ、十分な均一性を持った下地層を得ることがで
きなかった。

本発明は、この様な塗布層形成個所の周囲雰囲気の水分
の影響を防止し、良好な走行性、耐久性および優れた電
磁変換特性を持つ磁気記録媒体の製造方法を提供するも
のである。

課題を解決するための手段上記の課題を解決するために、本発明は基板表面に下地
層を形成するに際し、この塗布層形成個所の周囲の雰囲
気を、絶対湿度０．０１３汚／１４以下にしたものであ
る。

作用本発明は上記のごとく、表面平滑性に優れた基板の上に
、固体微粒子と結合剤からなる下地層の形成に際し、塗
布層形成個所の周囲雰囲気の絶対湿度を０．０１３　Ｊ
ｃｆ／に９以下に制御することによって、均一な下地層
の形成が可能となり、高温高湿の環境においても、良好
な走行性、耐久性および優れた電磁変換特性を持つ磁気
記録媒体の製造を可能とするものである。

実施例以下、本発明の一実施例について説明する。

本発明においては、基板上に設けられる塗布層のその形
成個所の雰囲気の絶対湿度を０．０１３に９／汀以下に
する。塗布層形成個所とは、塗布液が、コータで塗布さ
れてから乾燥ラインに入るまでの過程を言う。塗布液を
基板上に塗布するとき、溶剤の蒸発によって塗布液が冷
却され、空気中の水分が塗布層表面に凝集し、塗布層に
影響を与える。

従って、この雰囲気の絶対湿度は、塗布液に使用される
溶剤の蒸発潜熱が大きいものほど、その値が小さいもの
がよく、絶対湿度ｏ、ｏ１：ａｋｙ／ｋｇ以下において
は、塗布層に影響を与えない。

本発明において塗布層が形成する際に使用される溶剤と
しては、メタノール、エタノール、インプルデノール、
ｎ−フタノールなどの低級アルコール類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンナトノ芳香族類、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケ
トン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、セ
ロソルブ、酢酸セロソルブなどのセロソルブ類などの単
独または混合溶媒がある。

本発明で使用する固体微粒子としては、樹脂微粒子、酸
化チタン微粒子、シリカ微粒子、カーボンブラックなど
がある。結合剤樹脂としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレートなどの飽和ポリエス
テル、ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド、ポ
リスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリア
クリレート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチラール、
ポリフェニレンオキサイド、フェノキシ樹脂などの単独
、およびそれらの共重合体または、混合体が使用できる
。または、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂
、あるいはそれらの変性樹脂のような熱硬化性樹脂も使
用できる。

上記の塗布液を塗布するには、ディッピング方式、リバ
ースロール方式、グラビアロール方式、エクストルージ
ョン方式、ドクターブレード方式、スプレ一方式などが
使用され、塗布膜は、乾燥ラインに入り乾燥される。

本発明に用いられる基板は、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムがよく用いられるが、他のポリエステル類、
ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルロースア
セテートなどのセルロース誘導体、ポリアミド、ポリイ
ミドなどのプラスチックフィルムであってもよいし、非
磁性金属基板であってもよい。

また、強磁性金属薄膜としては、電子ビーム蒸着法、ス
パッタリング法、イオンブレーティング法、無電解メツ
キ法で形成した鉄、コバルト、ニッケルまたはそれらを
主成分とする合金あるいは、それらの部分酸化膜、部分
窒化膜などを用いることができる。

基板上に下地層形成の塗布液が塗布され、その塗布液が
、乾燥ラインにはいるまでに溶剤の一部分が揮発され、
この揮発の際に蒸発潜熱が奪われて、塗布面の温度が低
下しても、その雰囲気の絶対湿度が、ｏ、ｏ１ｓｋｇ／
ｋｇであると水分凝集による影響がなく、ハジキや塗布
ムラを生じることがなく、均一な下地層が得られる。

以下に本発明を更に具体的に、実施例と比較例とを対比
しながら説明する。

実施例１表面平滑性に優れた厚み１０μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に、微粒子シリカを結合剤樹脂溶液
に分散させた下地処理液をリバースロール方式で塗布し
、下地処理層を形成した。

塗布厚みは、８μｍで、溶剤として、メチルエチルケト
ン：トルエン：シクロヘキサノン（３：２：１）の混合
溶剤を使用した。塗布層形成個所の雰囲気は、絶対湿度
０．０１３に９／に９　（温度２３℃、相対湿度７６％
）であった。その上に電子ビーム法で蒸着し、Ｇｏ−Ｎ
ｉ−０膜を形成した。これを７エアーカツト法にて、８
ｇ幅に裁断し磁気テープとした。

実施例２〜４実施例１において、塗布層形成個所の雰囲気の絶対湿度
をｏ、ｏｏ９ｋｇ／＃（温度１６℃、相対湿度８４％）
　、ｏ、ｏｌｏ　Ｊｃｒｉ／ｋｆ　（温度２５℃、相対
湿度５２チ）、ｏ、ｏｏｓ却／却（温度６℃、相対湿度
８４％）にした以外は同様にして、それぞれ実施例２〜
４の磁気テープを作成した。

比較例１〜３実施例１において、塗布層形成個所の雰囲気の絶対湿度
を、ｏ、ｏ　１ｒｓ　Ｈ／Ｈ（温度３２℃、相対湿度５
２％）、０．０１７に９／ｋｆ　（温度３６℃、相対湿
度４９チ）、０．０２３＃／汚（温度３５℃、相対湿度
６６チ）にした以外は同様にして、それぞれ比較例１〜
３の磁気テープを作成した。

上記実施例および比較例で得られた磁気テープについて
、塗布性を調べると共に走行性、耐久性、電磁変換特性
を評価した。

第１図に結果を示した塗布性は、光学顕微鏡（倍率２０
０〜ＳＯＯ倍）および走査型電子顕微鏡（倍率３０００
〜１０ｏｏＯ）で観察したもので、塗布性３は走査型電
子顕微鏡でノ・ジキ、塗布ムラ、凝集が観察されないも
の、塗布性２はそれらが観察されたもの、塗布性１は光
学顕微鏡でも観察されたものを示す。

その他の項目については、Ｇｏ℃、９０％の環境におい
て、市販の８−ＶＴＲを改造した試験機で評価した。即
ち、第２図に示す走行性については再生画像の画質（３
段階評価）で評価し、第３図に示すスチル耐久性は試料
数５で評価し、第４図に示す電磁変換特性は再生出力の
エンベロー１波形をオシロスコープで測定し評価した。

第１図から第４図の結果かられかるように、絶対湿度０
００１７に９／に９以上になると、走行性およびスチル
耐久性が低下し始め、ｏ、ｏ１ｓ／ｉ／に以上になると
、塗布性および電磁変換特性が低下し始める。すなわち
、塗布層形成箇所の周囲雰囲気の絶対湿度を０．０１３
館／館以下にすることによって、ハジキ、塗布ムラ、凝
集がなく、高温高湿下においても、再生画像の画質の劣
化がなく、６０分以上のスチル寿命？持ち、良好なエン
ベロープをもつ磁気記録媒体が得られるものである。

発明の効果上記の実施例かられかるように、本発明の磁気記録媒体
の製造方法によっての走行性、耐久性、電磁変換特性の
優れた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を得ることができ
、その実用的価値は高いものである。

【図面の簡単な説明】

第１図から第４図は塗布層形成個所の周囲雰囲気と各項
目についての関係を示すもので、第１図は塗布性の特性
図、第２図は走行性の特性図、第３図はスチル耐久性の
特性図、第４図は電磁変換特性の特性図である。代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名区　
　　　倒伜某ムど奇の　　　　ベト仝を牛ｌ

Claims

【特許請求の範囲】

磁気記録媒体の塗布層を形成するに際し、塗布層形成個
所の周囲の雰囲気を、絶対湿度を０．０１３ｋｇ／ｋｇ
以下にしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。