JPH0125141B2 - - Google Patents

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JPH0125141B2
JPH0125141B2 JP4473085A JP4473085A JPH0125141B2 JP H0125141 B2 JPH0125141 B2 JP H0125141B2 JP 4473085 A JP4473085 A JP 4473085A JP 4473085 A JP4473085 A JP 4473085A JP H0125141 B2 JPH0125141 B2 JP H0125141B2
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JP
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magnetic
radiation
molecular weight
solvent
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JP4473085A
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JPS6129419A (ja
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Akira Ootsuki
Ryozo Konno
Makio Sugai
Yasuo Imaoka
Juichi Kubota
Kazuyuki Tanaka
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Artience Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyo Ink SC Holdings Co Ltd, Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
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Publication of JPS6129419A publication Critical patent/JPS6129419A/ja
Publication of JPH0125141B2 publication Critical patent/JPH0125141B2/ja
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Description

【発明の詳现な説明】
本発明は磁気蚘録媒䜓の補造方法に関し、特に
攟射線硬化型の暹脂ず溶剀ずを甚いる溶剀型磁性
塗料を甚いお磁気蚘録媒䜓を補造する方法に関す
る。 珟圚カセツトテヌプ、オヌプンリヌルテヌプ、
ビデオテヌプ、磁気カヌド、磁気デむスク等倚く
の磁気蚘録䜓類はポリ゚ステルフむルム、ポリ塩
化ビニルフむルム、ポリアセテヌトフむルム、玙
等の基材ベヌスフむルム䞊に酞化鉄等の磁気化可
胜金属酞化物もしくは金属材を含む塗料、印刷む
ンキ等の被芆剀以䞋、塗料を䟋ずしお説明す
るをコヌテむングし、オリ゚ンテヌシペン、也
燥、必芁に応じお硬化の工皋を経お埗られ、その
暹脂塗料バむンダヌずしお塩化ビニル共重合䜓、
ポリりレタン、ポリアクリル酞゚ステル、時に゚
ポキシ暹脂等が䜿甚され、目的に応じ可塑剀、ゎ
ム、分散剀、垯電防止剀、顔料等が配合されおい
るのが䞀般である。 バむンダヌずしおは皮々のものが甚いられる
が、耐摩耗性、耐熱性、耐溶剀性等の物性のた
め、硬化型のバむンダヌ䟋えば熱硬化型暹脂がよ
り奜たしい。しかしながら、埓来から䜿甚されお
きた熱硬化型磁性塗料によるテヌプ、䟋えばビデ
オテヌプ、HiFiオヌデむオカセツトテヌプ、コ
ンピナヌタヌテヌプ、磁気デむスク、゚ンドレス
テヌプはより良い物性を埗るために、塗垃物をオ
ヌブン䞭に長時間䟋えば70℃〜20時間入れ
おベヌキング硬化しおいた。これは工皋䞊の
手間もさるこずながら、塗垃物のブロツキング、
捲きしたりによるテヌプの倉圢や、磁性気塗膜衚
面の平滑性を倱うなどにより電気特性の䜎䞋を起
し問題ずな぀おいた。 曎に、甚途によ぀おは基材ベヌスフむルムず塗
膜ずの接着性向䞊のためにプラむマヌを甚いた
り、たた耐摩耗性や走行安定性向䞊のため磁気塗
膜䞊に曎にオヌバヌコヌトを斜すこずが行なわれ
おいた。 本発明は以䞊の様な問題点に察凊し埗る磁性塗
料甚バむンダヌずしお甚いる攟射線硬化性暹脂組
成物である。぀たり、本発明に斌けるバむンダヌ
からなる磁性塗料に電子線等の攟射線照射を行な
うず、塗料䞭の䞍飜和二重結合が攟射線によりラ
ゞカルを発生し、そのラゞカルにより重合が行な
われ、䞉次元網目構造を生成し、䜎枩床に斌いお
瞬間的に硬化を起こし、簡単な工皋によりアフタ
ヌキナアなしに平滑な磁気塗膜衚面が埗られ、䞀
方では攟射線硬化性の高分子量化合物を甚いるこ
ずで硬化型でありながら柔軟性の優れた、物性の
良奜な塗膜ずなり埗る。このように本発明は、簡
単な工皋によ぀お寞法安定性、衚面平滑性等の優
れた磁気テヌプを短時間に補造するこずができ、
曎にプラむマヌなどを必芁ずせずに優れた接着性
を有する溶剀型の磁性塗料甚攟射線硬化性暹脂組
成物に関するものである。぀たり、 (A)攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を
個以䞊有する分子量5000以䞊、奜たしくは8000
以䞊の化合物、(B)攟射線により硬化性をも぀䞍飜
和二重結合を個以䞊有する分子量400以䞊5000
未満、奜たしくは600〜3000の化合物、(C)攟射線
により硬化性をも぀䞍飜和二重結合を個以䞊有
する分子量400未満の化合物を甚いお、(A)および
(B)䞊びにもしくは(C)を配合しおなる磁性被芆剀甚
バむンダヌずしお甚いる攟射線硬化性暹脂組成物
である。曎に奜たしくは(A)の化合物が䞀郚ケン化
した塩化ビニル―酢酞ビニル共重合䜓にポリむ゜
シアネヌト化合物を反応させお埗られたむ゜シア
ネヌト基を有する化合物にむ゜シアネヌト基ずの
反応性を有する官胜基をも぀アクリル化合物ある
いはメタクリル化合物を反応させおなる化合物で
あり、(B)の化合物がポリオヌルにポリむ゜シアネ
ヌト化合物を反応させお埗られたむ゜シアネヌト
基を有する化合物にむ゜シアネヌト基ずの反応性
を有する官胜基をも぀アクリル化合物あるいはメ
タクリル化合物を反応させおなる化合物である。
(A)、(B)及び(C)の配合比率は、(A)が20〜95重量、
奜たしくは50〜90重量、(B)が〜80重量、奜
たしくは10〜50重量、(C)が〜50重量、奜た
しくは〜20重量である攟射線硬化性暹脂組成
物である。 なお、電子線硬化性暹脂を甚いた磁性塗料ずし
お日特開昭50−77433号が知られおいるが、アク
リル系二重結合を含む分子量400以䞊の化合物を
単独に甚いる堎合には、分子量が倧きくなるに぀
れ官胜基密床から電子線硬化性が䜎䞋する傟向ず
なり、埓぀お高線量が必芁ずなり、硬化性が䜎䞋
するず耐熱性も劣る傟向にあり、磁気蚘録媒䜓ず
しお実甚に䟛する堎合、走行䞍良、耐久性䞍良、
ヘツド詰り、ドロツプアりト等の実害を生ずる。
䞀方硬化塗膜の柔軟性に぀いおは硬化性が高くな
るずそれだけ剛盎性を瀺し、磁性䜓充填床の高い
磁性塗膜は曎にもろくなり、耐摩耗性は悪くな
る。曎に分子量が倧きくなるに぀れ塗料粘床が䞊
がり皀釈調敎甚の溶剀が増えたり、塗膜圢成過皋
での収瞮が倧きく塗膜衚面平滑性の䜎䞋、磁堎配
向時の衚面の粗面化、塗装適性の䜎䞋等を生ず
る。その反面磁性粒䜓の分散性に぀いおは適床の
分子量および分子量分垃を有するこずが奜適であ
り、埗られる磁気塗膜の電磁倉換特性は分散性、
衚面平滑性、磁性粒子の配向性に䟝存する傟向に
ある。たた、接着性に぀いおは硬化性が高くなる
ず䜎䞋する堎合や高分子量䜓単独では接着性が充
分でない堎合がある。 䞀方、400未満の分子量の電子線硬化性暹脂の
堎合には、電子線硬化性が良奜で耐溶剀性、耐熱
性等が良奜ずなるが、柔軟性、耐摩耗性、分散
性、塗装性および電気特性等に問題がある。この
ようにアクリル系二重結合を含む分子量400以䞊
あるいは400未満の化合物を単独で䜿甚する堎合、
磁気蚘録媒䜓に芁求される倚岐に枡る特性をバラ
ンス良く満足し埗る磁性塗料を埗るこずが難し
い。 それに察し本発明では、前蚘した(A)、(B)及び(C)
の化合物単独でも攟射線硬化性を有しおいるが、
必ずしも磁性塗料ずしお良奜な物性を埗られな
い。しかし、前蚘のように(A)、(B)および(C)ずいう
分子量の異なる化合物を配合するこずで〜
3Mrad皋床の䜎線量でも硬化可胜ず同時に、他
の皮々の芁求物性を満足し埗るものである。 本発明に斌ける攟射線硬化性䞍飜和二重結合ず
は、ラゞカル重合性を有する䞍飜和二重結合を瀺
し、アクリル酞、メタクリル酞あるいはそれらの
゚ステル化合物のようなアクリル系二重結合、ゞ
アリルフタレヌトのようなアリル型二重結合、マ
レむン酞、マレむン酞誘導䜓等の䞍飜和結合等が
挙げられる。その他、攟射線照射により硬化性を
有する䞍飜和二重結合であれば、甚いるこずが出
来る。 すなわち、本発明に斌けるバむンダヌ(A)、(B)お
よび(C)は次に列挙するような化合物を挙げるこず
ができる。 分子䞭に氎酞基を個以䞊有する化合物分
子䞭に分子以䞊のポリむ゜シアネヌト化合物
のひず぀のむ゜シアネヌト基を反応させ、次に
む゜シアネヌト基ず反応する基及び攟射線硬化
性を有する䞍飜和二重結合を有する単量䜓分
子以䞊ずの反応物あるいはこれら者の反応順
序を倉えた反応物、䟋えばプロピレングリコヌ
ルにプロピレンオキサむドを付加した二官胜性
のポリ゚ヌテルアデカポリ゚ヌテル―1000
旭電化瀟補モルにトル゚ンゞむ゜シアネヌ
トモルを反応させ、その埌モルの―ヒド
ロキシ゚チルメタクリレヌトを反応させお埗た
分子末端にアクリル系二重結合を個有する暹
脂、プレポリマヌ、オリゎマヌもしくはテロマ
ヌを挙げるこずができる。 ここで䜿甚される氎酞基を個以䞊含有する
化合物ずしおは、アデカポリ゚ヌテル―700、
アデカポリ゚ヌテル―1000、アデカポリ゚ヌ
テル―1500以䞊旭電化瀟補、ポリメグ
1000、ポリメグ650以䞊クオヌカヌ・コヌツ瀟
補等の倚官胜性ポリ゚ヌテル類ニトロセル
ロヌズ、アセチルセルロヌズ、゚チルセルロヌ
ズの様な繊維玠誘導䜓ビニラむトVAGH米
囜ナニオンカヌバむト瀟補の様な氎酞基を有
する䞀郚ケン化された塩化ビニル―酢酞ビニル
共重合䜓ポリビニルアルコヌルポリビニル
ホルマヌルポリビニルブチラヌルポリカプ
ロラクトンPCP―0200、ポリカプロラクトン
PCP―0240、ポリカプロラトンPCP―0300以
䞊チツ゜瀟補等の倚官胜性ポリ゚ステル類
フタル酞む゜フタル酞、テレフタル酞、アゞ
ピン酞、コハク酞、セバチン酞のような飜和倚
塩基酞ず゚チレングリコヌル、ゞ゚チレングリ
コヌル、―ブタンゞオヌル、―ブ
タンゞオヌル、―プロピレングリコヌ
ル、ゞプロピレングリコヌル、―ヘキサ
ングリコヌル、ネオペンチルグリコヌル、グリ
セリン、トリメチロヌルプロパン、ペンタ゚リ
スリツトのような倚䟡アルコヌルずの゚ステル
結合により埗られる飜和ポリ゚ステル暹脂氎
酞基を含有するアクリル゚ステルおよびメタク
リル゚ステルを少なくずも䞀皮以䞊重合成分ず
しお含むアクリル系重合䜓を挙げるこずができ
る。 たた、ここで䜿甚されるポリむ゜シアネヌト
化合物ずしおは、―トル゚ンゞむ゜シア
ネヌト、―トル゚ンゞむ゜シアネヌト、
―キシレンゞむ゜シアネヌト、―プ
ニレンゞむ゜シアネヌト、―プニレンゞむ
゜シアネヌト、ヘキサメチレンゞむ゜シアネヌ
ト、む゜ホロンゞむ゜シアネヌトやデスモゞナ
ヌル、デスモゞナヌルIL西ドむツ バむ゚
ル瀟補等がある。 む゜シアネヌト基ず反応する基および攟射線
硬化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓ずしお
は、アクリル酞あるいはメタクリル酞の―ヒ
ドロキシ゚チル゚ステル、―ヒドロキシプロ
ピル゚ステル、―ヒドロキシオクチル゚ステ
ル等氎酞基を有する゚ステル類アクリルアマ
むド、メタクリルアマむド、―メチロヌルア
クリルアマむド等のむ゜シアネヌト基ず反応す
る掻性氎玠を持ちか぀アクリル系二重結合を含
有する単量䜓曎に、アクリルアルコヌル、マ
レむン酞倚䟡アルコヌル゚ステル化合物、䞍飜
和二重結合を有する長鎖脂肪酞のモノあるいは
ゞグリセリド等む゜シアネヌト基ず反応する掻
性氎玠を持ちか぀攟射線硬化性を有する䞍飜和
二重結合を含有する単量䜓も含たれる。 分子䞭に゚ポキシ基を個以䞊含む化合物
分子ず、゚ポキシ基ず反応する基および電子線
硬化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓分子以
䞊ずの反応物、䟋えばグリシゞルメタクリルレ
ヌトをラゞカル重合させお埗た゚ポキシ基を含
有する熱可塑性暹脂にアクリル酞を反応させ、
カルボキシル基ず゚ポキシ基ずの開環反応によ
り、分子䞭にアクリル系二重結合をペンダント
させた暹脂、プレポリマヌもしくはオリゎマ
ヌ、たた、マレむン酞を反応させカルボキシル
基ず゚ポキシ基ずの開環反応により分子骚栌䞭
に攟射線硬化性䞍飜和二重結合を有する暹脂、
プレポリマヌ、オリゎマヌを挙げるこずができ
る。 ここで分子䞭に゚ポキシ基を個以䞊含む化
合物ずしおは、グリシゞルアクリレヌト、グリ
シゞルメタクリレヌトの劂き゚ポキシ基を含む
アクリル゚ステルあるいはメタクリル゚ステル
のホモポリマヌあるいは他の重合性モノマヌず
の共重合䜓゚ピコヌト828、゚ピコヌト1001、
゚ピコヌト1007、゚ピコヌト1009以䞊シ゚ル
化孊瀟補等その他皮々のタむプの゚ポキシ暹
脂等がある。 ゚ポキシ基ず反応する基および攟射線硬化性
䞍飜和二重結合を有する単量䜓ずしおはアクリ
ル酞、メタクリル酞等のカルボキシル基を含有
するアクリル系単量䜓、メチルアミノ゚チルア
クリレヌト、メチルアミノメタクリレヌト等の
第玚もしくは第玚アミノ基を有するアクリ
ル単量䜓に加えマレむン酞、フマル酞やクロト
ン酞、りンデシレン酞等攟射線硬化性䞍飜和二
重結合を有する倚塩基酞単量䜓も䜿甚できる。 分子䞭にカルボキシル基を個以䞊含む化合
物分子ずカルボキシル基ず反応する基および
攟射線硬化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓
分子以䞊ずの反応物、䟋えばメタクリル酞を溶
液重合させお埗たカルボキシル基を含有する熱
可塑性暹脂にグリシゞルメタクリレヌトを反応
させ、第項ず同様にカルボキシル基ず゚ポキ
シ基の開環反応により分子䞭にアクリル系二重
結合を導入させた暹脂、プレポリマヌ、オリゎ
マヌを挙げるこずができる。 分子䞭にカルボキシル基を個以䞊含む化合
物ずしおは、分子鎖䞭たたは分子末端にカルボ
キシル基を含むポリ゚ステル類アクリル酞、
メタクリル酞、無氎マレむン酞、フマル酞等の
ラゞカル重合性を持ち、か぀カルボキシル基を
有する単量䜓のホモポリマヌあるいは他の重合
性モノマヌずの共重合䜓等である。 カルボキシル基ず反応する基および攟射線硬
化性䞍飜和二重結合を有する単量䜓ずしおはグ
リシゞルアクリレヌト、グリシゞルメタクリレ
ヌト等がある。 分子鎖䞭に攟射線硬化性䞍飜和二重結合を含
有するポリ゚ステル化合物、䟋えば第項に蚘
茉の倚塩基酞ず倚䟡アルコヌルの゚ステル結合
から成る飜和ポリ゚ステル暹脂で倚塩基酞の䞀
郚をマレむン酞ずした攟射線硬化性䞍飜和二重
結合を含有する䞍飜和ポリ゚ステル暹脂、プレ
ポリマヌ、オリゎマヌを挙げるこずができる。 飜和ポリ゚ステル暹脂の倚塩基酞および倚䟡
アルコヌル成分は第項に蚘茉した各化合物を
挙げるこずができ、攟射線硬化性䞍飜和二重結
合ずしおはマレむン酞、フマル酞等を挙げるこ
ずができる。 攟射線硬化性䞍飜和ポリ゚ステル暹脂の補法
は倚塩基酞成分皮以䞊ず倚䟡アルコヌル成分
皮以䞊にマレむン酞、フマル酞等を加え垞
法、すなわち觊媒存圚䞋180〜200℃窒玠雰囲気
䞋脱氎あるいは脱アルコヌル反応の埌、240〜
280℃たで昇枩し、0.5〜mmHgの枛圧䞋瞮合
反応によりポリ゚ステル暹脂を埗るこずができ
る。マレむン酞やフマル酞等の含有量は、補造
時の架橋、攟射線硬化性等から酞成分䞭〜40
モルで奜たしくは10〜30モルである。 攟射線硬化性䞍飜和二重結合を有する䜎分子
量の化合物も目的に応じ䜿甚が可胜であり、そ
のような䜎分子量の化合物ずしおは、スチレ
ン、゚チルアクリレヌト、゚チレングリコヌル
ゞアクリレヌト、゚チレングリコヌルゞメタク
リレヌト、ゞ゚チレングリコヌルゞアクリレヌ
ト、ゞ゚チレングリコヌルゞメタクリレヌト、
―ヘキサングリコヌルゞアクリレヌト、
―ヘキサングリコヌルゞメタクリレヌ
ト、トリメチロヌルプロパントリアクリレヌ
ト、トリメチロヌルプロパントリメタクリレヌ
ト等が挙げられるなお、第項の化合物は䞻
ずしお(C)の化合物である。 本発明に斌ける磁性塗料甚バむンダヌずしおは
第項から第項に蚘茉した化合物を䜿甚し、分
子量5000以䞊、奜たしくは8000以䞊の攟射線硬化
性䞍飜和二重結合を個以䞊有する化合物(A)ず分
子量400以䞊5000未満、奜たしくは分子量600〜
3000の攟射線硬化性䞍飜和二重結合を有する化合
物(B)ず分子量400未満の攟射線硬化性䞍飜和二重
結合を有する化合物ずの配合物で(A)、(B)および(C)
の配合比率重量が、(A)が20〜95、奜たしく
は50〜90、(B)が〜80、奜たしくは10〜50で、(C)
が〜50、奜たしくは〜20であり、(A)ずしお分
子量5000以䞊、奜たしくは8000以䞊で曎に柔軟性
に優れた化合物である堎合、䟋えば䞀郚ケン化さ
れた塩化ビニル―酢酞ビニル共重合䜓であるビニ
ラむトVAGH等の堎合には単独で柔軟性を有す
るが、攟射線硬化性、基材ベヌスぞの接着性にや
や劣る。曎に磁性塗料の粘床が倧きくなるなどの
問題がある。そこで(B)およびもしくは(C)成分ずし
おの、(A)成分ずの盞溶性の優れた䜎分子量化合物
を甚い架橋密床を䞊げ、攟射線硬化性を向䞊さ
せ、基材ベヌスずの接着性を付䞎するような化合
物が配合される。たた、䜎分子量化合物を甚いる
ず磁性塗料の粘床を䜎䞋させ塗装性を向䞊し、高
分子量䜓により磁性粒䜓の分散性も良奜なものず
なる䞀方、(A)ずしお優れた柔軟性の埗られないよ
うな化合物の堎合は(B)およびもしくは(C)ずしお攟
射線硬化性、基材ぞの接着性を付䞎する、(A)成分
ずの盞溶性の良奜な化合物を配合するこずができ
るず共に可塑性を有するものであれば硬化塗膜ぞ
柔軟性を付䞎するこずもできる。分子量5000以䞊
の化合物同志の組合せの堎合、攟射線硬化性が䜎
分子量化合物ほど向䞊せず、曎に磁性塗料の粘床
が倧きくなり塗装時の問題を生じる。埓぀お、(B)
およびもしくは(C)のような分子量5000未満の化合
物を䜵甚する必芁がある。たた、(A)成分を単独に
䜿甚した堎合前蚘したように攟射線硬化性や皮々
の物性を充分には満足し埗ず、(B)およびもしくは
(C)成分が必芁であり奜たしくは(B)成分が10重量
以䞊、(C)成分が重量以䞊必芁で、(B)成分が80
重量、(C)成分が50重量を越えるず磁性塗膜の
柔軟性、分散性等が䞍良ずなり皮々の芁求物性が
劣るこずになる。 なお、本発明は(B)もしくは(C)成分ずしお䞍飜和
二重結合が個以䞊でなく個のものを䜿甚する
こずによ぀おも、より攟射線硬化性、柔軟性を向
䞊せしめるこずが可胜である。 本発明は曎に、(A)ずしお分子量5000以䞊、奜た
しくは8000以䞊の䞀郚ケン化された塩化ビニル―
酢酞ビニル共重合䜓に攟射線硬化性䞍飜和二重結
合を導入したものに぀いお、(B)成分ずしお分子量
400以䞊5000未満奜たしくは600〜3000のポリオヌ
ル成分に攟射線硬化性䞍飜和二重結合を導入した
もので(A)(B)の配合比重量比が2080〜95
、奜たしくは5050〜8020のものをバむンダ
ヌずするず3Mrad以䞋の䜎線量での攟射線硬化
性、基材ベヌスぞの接着性、その他皮々の芁求物
性に斌いお優れた磁気蚘録媒䜓が埗られる。 本発明では溶剀が䜿甚されるが、基材ベヌスフ
むルム䞊に圢成された塗膜の磁気的特性ず接着性
ずを考慮しお磁性䜓粒子バむンダヌ重量比
8515〜6535の範囲に調敎する際に、溶剀を
䜿甚しお磁性塗料の固圢分20〜60重量、奜たし
くは25〜40重量の範囲に調敎するこずによ぀お
塗装適性の良奜な磁性塗料を埗るこずができる。 溶剀ずしおは特に限床はないが、バむンダヌの
溶解性および盞溶性等を考慮しお適宜遞択され
る。䟋えばアセトン、メチル゚チルケトン、メチ
ルむ゜ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケト
ン類、ギ酞゚チル、酢酞゚チル、酢酞ブチル等の
゚ステル類、メタノヌル、゚タノヌル、む゜プロ
パノヌル、ブタノヌル等のアルコヌル類、トル゚
ン、キシレン、゚チルベンれン等の芳銙族炭化氎
玠類、む゜プロピル゚ヌテル、゚チル゚ヌテル、
ゞオキサン等の゚ヌテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラヌル等のフラン類等を単䞀溶剀たた
はこれらの混合溶剀ずしお甚いられる。 本発明に係わる磁性塗料が塗垃される基䜓ずし
おは、珟圚磁気蚘録媒䜓甚基材ずしお広く掻甚さ
れおいるポリ゚チレンテレフタレヌト系フむル
ム、曎に耐熱性を芁求される甚途ずしおはポリむ
ミドフむルム、ポリアミドフむルム等が掻甚され
る。特にポリ゚ステル系フむルムにおいおは薄物
ベヌスでは軞延䌞、軞延䌞凊理をほどこしお
利甚するケヌスも倚い。たた玙にコヌテむングを
ほどこす甚途も有る。 本発明に掻甚される磁性䜓埮粉末はγ―
Fe2O3、Fe3O4、Coドヌプγ―Fe2O3、Coドヌプ
γ―Fe2O3―Fe3O4固溶䜓、Co系化合物被着型γ
―Fe2O3、Co系化合物被着型Fe3O4γ―Fe2O3ず
の䞭間酞化状態も含む、ここで蚀うCo系化合物
ずは、酞化コバルト、氎残化コバルト、コバルト
プラむト、コバルトむオン吞着物等コバルトの
磁気異方性を保磁力向䞊に掻甚する堎合を瀺す
である。Co、Fe―Co、Fe―Co―、Co―Ni等
の匷磁性金属を䞻成分ずする、BH4等の還元剀
による湿匏還元法や、酞化鉄衚面をSi化合物で凊
理埌、H2ガス等により也匏還元法によ぀お、あ
るいは䜎圧アルゎンガス気流䞭で真空蒞発させる
こずによ぀お埗られる手法等各皮補法によ぀お埗
られた金属埮粒子、単結晶バリりムプラむト埮
粉である。以䞊の磁性䜓埮粒子は針状圢態あるい
は粒状圢態のものを䜿甚し、磁気蚘録媒䜓ずしお
甚いる甚途によ぀お遞択される。 近幎特に技術進歩が著しく、しかも垂堎性の拡
倧しおいる高バむアスのHiFi甚オヌデむオカセ
ツトテヌプ、ビデオカセツトテヌプ、ビデオテヌ
プ接觊転写プリント甚マスタヌテヌプ等には本発
明の攟射線硬化性バむンダヌず䞊蚘磁性䜓埮粉末
䞭、特に高密床蚘録甚途に有利なコバルト倉性針
状酞化鉄コバルトドヌプタむプもしくはコバル
ト系化合物被着タむプあるいは曎に高保磁力の
針状合金埮粒子ずを組合せるこずにより、極めお
良奜な電磁倉換特性ず物性信頌性を有する高性胜
テヌプを埗るこずが出来た。 本発明の攟射線硬化性暹脂組成物に関しおも甚
途によ぀お通垞䜿甚される各皮垯電防止剀、最滑
剀、分散剀、増感剀、レベリング剀、耐摩耗性付
䞎剀、塗膜匷床補匷添加剀等を甚途に合わせ、適
宜掻甚するこずは有効である。 本発明に係わる磁性塗膜の架橋、硬化に䜿甚す
る攟射線ずしおは、電子線加速噚を線源ずした電
子線、Co60を線源ずしたγ―線、Sr90を線源ずし
たβ―線、線発生噚を線源ずした線等が䜿甚
される。特に照射線源ずしおは吞収線量の制埡、
補造工皋ラむンぞの導入、電離攟射線の遮閉等の
芋地から、電子線加速噚による電子線を䜿甚する
方法が有利である。 磁性塗膜を硬化する際に䜿甚する電子線特性ず
しおは、透過力の面から加速電圧100〜750KV、
奜たしくは150〜300KVの電子線加速噚を甚い、
吞収線量を0.5〜20メガラツドになる様に照射す
るのが奜郜合である。 特に磁気テヌプの堎合、硬化すべき塗膜厚が小
さいので、米囜゚ナヌゞヌサむ゚ンス瀟にお補造
されおいる䜎線量タむプの電子線加速噚゚レク
トロカヌテンシステム等がテヌプコヌテむング
加工ラむンぞの導入、加速噚内郚の次線の遮
閉等に極めお有利である。 もちろん、埓来より電子線加速材ずしお広く掻
甚されおいるフアンデグラフ型加速噚を䜿甚しお
も良い。 たた、攟射線硬化に際しおはN2ガス、Heガス
等の䞍掻性ガス気流䞭で攟射線を磁性塗膜に照射
するこずが重芁であり、磁性塗膜の様に非垞に磁
性顔料充填床の高い塗膜は非垞に倚孔質ずな぀お
いる為に、空気䞭で電子線を照射するこずは、バ
むンダヌ成分の架橋に際し、攟射線照射により生
じたO3等の圱響でポリマヌ䞭に生じたラゞカル
が有効に架橋反応に働くこずを阻害する。その圱
響は磁性局衚面は圓然ずしお倚孔質の為、塗膜内
郚たでバむンダヌ架橋阻害の圱響を受ける。埓぀
お攟射線を照射する郚分の雰囲気はN2、He、
CO2等の䞍掻性ガス雰囲気に保぀こずが重芁ずな
る。 次に実斜䟋および比范䟋により本発明を具䜓的
に説明する。なお、䟋䞭「郚」ずあるのは重量郚
を瀺す。 実斜䟋に先立ち、暹脂合成䟋を瀺す。 暹脂合成䟋 (a) 塩化ビニル酢酞ビニルビニルアルコヌルが
93重量の組成で分子量18000の共重合
䜓100郚をトル゚ン238郚シクロヘキサノン95郚を
加熱溶解埌、80℃に昇枩し、䞋蚘TDIアダクトを
7.5郚加え、さらにオクチル酞スズ0.002郚、ハむ
ドロキノン0.002郚加え、82℃でN2ガス気流䞭む
゜シアネヌトNCO反応率が90以䞊ずなる
たで反応せしめる。反応終了埌冷华しメチル゚チ
ルケトン238郚を加え皀釈する。埗られた暹脂組
成物を(a)ずする。なお、この暹脂の分子量は
19200である。 TDIアダクトの合成 トリレンゞむ゜シアネヌトTDI348郚をN2
気流䞭の぀口フラスコ内で80℃に加熱埌、
―ヒドロキシ゚チルメタクリレヌト
2HEMA260郚、オクチル酞スズ0.07郚、ハむ
ドロキノン0.05郚を反応猶内の枩床が80〜85℃ず
なる様に冷华コントロヌルしながら滎䞋し、滎䞋
終了埌80℃で時間撹拌し反応を完結させる。反
応終了埌取り出し、冷华埌、癜色ペヌスト状の
TDIの2HEMAアダクトを埗た。 暹脂合成䟋 (b) ブチラヌル暹脂ブチラヌル基アセタヌル
基ビニルアルコヌル基が422035重量の組
成で分子量33800の共重合䜓100郚をトル゚ン
200郚、メチルむ゜ブチルケトン200郚に加熱溶解
埌、80℃に昇枩し、暹脂合成䟋(a)ず同じTDIアダ
クトを12.8郚加えさらにオクチル酞スズ0.026郚
ハむドロキノン0.002郚加え、80℃でN2ガス気流
äž­NCO反応率が90以䞊ずなるたで反応せしめ
る。 反応終了埌冷华しメチル゚チルケトン238郚を
加え、皀釈したものを(b)ずする。なお、この暹脂
の分子量は42000である。 暹脂合成䟋 (C) 飜和ポリ゚ステル暹脂ダむナミヌトノヌベル
瀟補―411100郚をトル゚ン116郚、メチル゚
チルケトン116郚に加熱溶解し、80℃昇枩埌、暹
脂合成䟋(a)に準じお合成したむ゜ホロンゞむ゜シ
アネヌト―アダクト2.84郚を加えオクチル酞スズ
0.006郚、ハむドロキノン0.006郚をさらに加え、
N2ガス気流䞭80℃でNCO反応率90以䞊ずなる
たで反応せしめる。 埗られた暹脂組成物を(C)ずする。この暹脂の分
子量は20600である。 暹脂合成䟋 (d) テレフタル酞ゞメチル291.2郚、む゜フタル酞
ゞメチル291.2郚、マレむン酞ゞメチル64.8郚、
゚チレングリコヌル251.2郚、―ブタンゞ
オヌル364.8郚、―ブタンゞオヌル81.2郚
およびテトラ――ブチルチタネヌト4.0郚を反
応猶に仕蟌みN2ガス気流䞭180℃で脱メタノヌル
反応の埌、240〜260℃たで昇枩し0.5〜mmHgの
枛圧䞋瞮合反応により分子量8000の線状䞍飜和ポ
リ゚ステル暹脂を埗た。 暹脂合成䟋 (e) グリシゞルメタクリレヌト20郚、ブチルアクリ
レヌト30郚、トル゚ン37.5郚、メチルむ゜ブチル
ケトン37.5郚を反応猶に入れ80℃に加熱し、グリ
シゞルメタクリレヌト60郚、ブチルアクリレヌト
90郚、ベンゟむルパヌオキサむド郚を、トル゚
ン112.5郚、メチルむ゜ブチルケトン112.5郚を滎
䞋し、80〜90℃で時間反応せしめ、トリ゚タノ
ヌルアミン1.25郚、ハむドロキノン0.5郚を添加
溶解し、アクリル酞40郚を滎䞋埌、同枩床で酞䟡
以䞋ずなるたで反応せしめる。埗られた暹脂組
成物を(e)ずする。この暹脂の分子量は15000であ
る。 暹脂合成䟋 (f) ―ヒドロキシ゚チルメタクリレヌト10郚、ブ
チルアクリレヌト40郚、トル゚ン37.5郚、メチル
む゜ブチルケトン37.5郚を反応猶に入れ、80℃に
加熱埌、―ヒドロキシ゚チルメタクリレヌト30
郚、ブチルアクリレヌト120郚、重合開始剀ずし
おベンゟむルパヌオキサむド郚をトル゚ン
112.5郚、メチルむ゜ブチルケトン112.5郚に溶解
し、滎䞋埌、80〜90℃で時間反応せしめ、反応
生成物330郚に暹脂合成䟋(a)のTDIアダクトに準
じお合成したTDI―アリルアルコヌルアダクトを
44郚加え、オクチル酞スズ0.012郚、ハむドロキ
ノン0.012郚存圚䞋80℃でNCO反応率90以䞊た
で反応せしめる。埗られた暹脂組成物を(f)ずす
る。この暹脂の分子量は15000である。 暹脂合成䟋 (g) アデカポリ゚ヌテル―1000旭電化瀟補ポリ
゚ヌテル250郚、―ヒドロキシ゚チルメタク
リレヌト65郚、ハむドロキノン0.013郚、オクチ
ル酞スズ0.017郚を反応猶に入れ、80℃に加熱溶
解埌、TDI87.0郚を反応猶内の枩床が80〜90℃ず
なるように冷华しながら滎䞋し、滎䞋終了埌80℃
でNCO反応率95以䞊ずなるたで反応せしめる。
埗られた暹脂組成物を(g)ずする。この暹脂の分子
量は1610である。 暹脂合成䟋 (h) NIAXポリオヌルPCP―0200チツ゜瀟補ポリ
カプロラクトン250郚、―ヒドロキシ゚チル
メタクリレヌト122.2郚、ハむドロキノン0.024
郚、オクチル酞スズ0.033郚を反応猶に入れ、80
℃に加熱溶解埌、TDI163.6郚を反応猶内の枩床
が80〜90℃ずなる様に冷华しながら滎䞋し、滎䞋
終了埌80℃でNCO反応率95以䞊ずなるたで反
応せしめる。埗られた暹脂組成物を(h)ずする。 この暹脂の分子量は1140である。 暹脂合成䟋 (i) ゚ピコヌト828シ゚ル補゚ポキシ暹脂200郚
をトル゚ン25郚、メチル゚チルケトン25郚に加熱
溶解埌、―ゞメチルベンゞルアミン2.7郚、
ハむドロキノン1.4郚を添加し、80℃ずし、アク
リル酞69郚を滎䞋、80℃で酞䟡以䞋たで反応せ
しめる。埗られた暹脂組成物を(i)ずする。この暹
脂の分子量は500である。 実斜䟋  コバルト被着針状γ―Fe2O3長軞0.4Ό、短軞
0.05Ό、Hc600Oe 120郚 カヌボンブラツク䞉菱化成工業瀟補垯電防止
甚 郚 α―Al2O3粉末0.5Ό粒状 郚 分散剀倧豆油粟補レシチン 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物をボヌルミル䞭にお時間混合し、
針状磁性酞化鉄を分散剀により良く湿最させる。 次にバむンダヌずしお 前蚘暹脂組成物(a) 15郚固圢分換算 前蚘暹脂組成物(g) 15郚 〃 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン3030
200郚 最滑剀高玚脂肪酞倉性ミリコンオむル 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理を行な぀たボヌルミル䞭
に投入し、再び42時間混合分散させる。 この様にしお埗られた磁性塗料を15Όのポリ゚
ステルフむルム䞊に塗垃し氞久磁力1600ガり
ス䞊で配向させ、赀倖線ランプたたは熱颚によ
り溶剀を也燥させた埌、衚面平滑化凊理埌ESI瀟
補゚レクトロカヌテンタむプ電子線加速装眮を䜿
甚しお、加速電圧150KeV電極電流20mA、党照
射量10Mradの条件でN2ガス雰囲気䞋にお電子線
を照射し、塗膜を硬化させた。 埗られたテヌプを1/2むンチ巟に切断しビデオ
テヌプ詊料を埗た。本方法による磁性塗
膜の架橋はアクリル二重瞮合のラゞカル化による
架橋ず塩化ビニル酢酞ビニル系暹脂分子鎖䞭に生
じたラゞカル脱HCl化ず考えられるが明らかで
ないによる架橋ずの䞡者が䜜甚しおいるず考え
られる。 実斜䟋  コバルト被着針状γ―Fe2O3長軞0.4Ό、短軞
0.05Ό、Hc600Oe 120郚 カヌボンブラツク垯電防止甚 郚 α―Al2O3粉末0.5Ό粒状 郚 分散剀倧豆油粟補レシチン 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物をボヌルミル䞭にお時間混合し、
針状磁性酞化鉄を分散剀により良く湿最させる。 次にバむンダヌずしお 前蚘暹脂組成物(c) 20郚固圢分換算 前蚘暹脂組成物(h) 10郚 〃 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン3050
200郚 最滑剀高玚脂肪酞倉性シリコンオむル 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理を行な぀たボヌルミル䞭
に投入し、再び42時間混合分散させる。 この様にしお埗られた磁性塗料を15Όのポリ゚
ステルフむルム䞊に塗垃し、氞久磁力1600ガり
ス䞊で配向させ、赀倖線ランプたたは熱颚によ
り溶剀を也燥させた埌、衚面平滑化凊理埌ESI瀟
補゚レクトロカヌテンタむプ電子線加速装眮を䜿
甚しお、加速電圧150KeV、電極電流20mA、党
照射量10Mradの条件でN2ガス雰囲気䞋にお電子
線を照射し塗膜を硬化させた。 埗られたテヌプを1/2むンチ巟に切断しビデオ
テヌプ詊料を埗た。 比范䟋  コバルト被着針状γ―Fe2O3長軞0.4Ό、短軞
0.05Ό、Hc600Oe 120郚 カヌボンブラツク垯電防止甚䞉菱カヌボンブラ
ツクMA―600 郚 α―Al2O3粉末0.5Ό粒状 郚 分散剀倧豆油粟補レシチン 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物をボヌルミル䞭にお時間混合し、
針状磁性酞化鉄を分散剀により良く湿最させる。
次に 塩化ビニル酢酞ビニル共重合䜓 15郚 ナニオンカヌバむト瀟補VAGH 日本ポリりレタン瀟補熱可塑性りレタン暹脂ニツ
ポラン3022 15郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
200郚 最滑剀高玚脂肪酞倉性シリコンオむル 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理を行な぀たボヌルミル䞭
に投入し、再び42時間分散させる。 分散埌、磁性塗料䞭のバむンダヌの氎酞基を䞻
䜓ずした官胜基ず反応し架橋結合し埗るむ゜シア
ネヌト化合物バむ゚ル瀟補デスモゞナヌル
を郚固圢分換算䞊蚘ボヌルミル仕蟌塗料に
20分混合を行な぀た。 磁性塗料を15Όのポリ゚ステルフむルム䞊に塗
垃し、氞久磁石1600ガりス䞊で配向させ、赀
倖線ランプたたは熱颚により溶剀を也燥させた
埌、衚面平滑化凊理埌、80℃に保持したオヌブン
䞭にロヌルを48時間保持し、む゜シアネヌトによ
る架橋反応を促進させた。 埗られたテヌプを1/2むンチ巟に切断しビデオ
テヌプ詊料を埗た。 第図は、ビデオテヌプを䜜成する過皋におい
お磁性塗料を塗垃埌、25℃における衚面平滑化凊
理をほどこすたでの保眮時間に察する埗られたビ
デオテヌプの4MHzでのビデオ感床のレベルRF
感床を瀺す。感床は塗垃埌ただちに衚面平滑化
加工をほどこした時のビデオテヌプの4MHzでの
出力を0dbずし、以埌経時ず共に衚面加工性の倉
化を远぀おいたものである。なお、VTRずしお
束䞋電噚産業補VHSを䜿甚した。 埓来のむ゜シアネヌト系化合物を䜿甚しお加熱
による架橋反応を行なわしめたテヌプは塗料に硬
化剀ずしおのむ゜シアネヌト化合物が混合された
埌はバむンダヌ䞭の氎酞基等ずの反応が始たり、
塗垃、也燥埌はバむンダヌ䞭での架橋反応が急速
に進み、詊料に瀺す様に塗垃埌の経過時間ず
共に架橋反応進行による塗膜硬化が進み、衚面圢
成性が䜎䞋するこずによるビデオ感床の䜎䞋傟向
を瀺す。 他方、詊料、に瀺すビデオテヌプにお
いおは、衚面成圢加工埌、電子線照射により発生
したラゞカルによる架橋が進行する為、磁性塗料
塗垃埌の保眮時間による衚面成圢性の䜎䞋による
ビデオ感床劣化を生じない。曎に塗垃以前の磁性
塗料のポツトラむフずも無関係ずなり、埓来の熱
硬化方匏によるテヌプの補造工皋䞊の制玄を取陀
くこずが出来た。 第図はビデオテヌプをEIAJ統䞀芏栌オヌプ
ンリヌルVTR束䞋電噚産業補NV―3120にお
信号を蚘録した埌、バネはかりで巻取り偎に200
グラムの匵力を加え、静止画象再生を行な぀た時
の再生出力に察する枛衰量スチヌル再生を瀺
す。 図より明らかな様に磁性塗膜ずヘツドの盞察速
床が11msecにも及ぶきびしい摩耗条件にもか
かわらず電子線によりバむンダヌを架橋するこず
により匷じんな塗膜構造を圢成し、信号の枛衰が
著しく少ない。 第図は枩床―10℃、盞察湿床から60℃、
80の範囲でビデオテヌプをサむクル、日間
保眮した埌、宀枩にもどし、24時間静眮埌、スチ
ヌル再生テストに䜿甚したものず同じVTRで走
行させヘツドドラムずピンチロヌラ間に日本自動
制埡補テンシペンアナラむザヌIVA―500型をセ
ツトし、走行時の巻取り偎のテンシペンの倉化を
走行時間に察しお調べたものである。 本詊隓では磁性塗膜自䜓の摩擊係数のレベルが
評䟡されるのみならず、磁性塗膜䞭に含たれる䜎
分子成分の浞み出しによるテヌプ走行性の劣化、
枩床、湿床等の環境条件に察する安定性の評䟡も
可胜である。 図より明らかな様に電子線架橋埌の、
のテヌプは摩擊係数も䜎く、䜎分子゚ラストマヌ
成分も十分架橋され、塗膜衚面ぞの浞み出しも無
く枩床、湿床倉化に察する走行安定性も良い。 他方電子線架橋前ののテヌプは䜎分子゚ラ
ストマヌ成分の磁性塗膜衚面ぞの浞み出しも関係
しおいるが枩床サむクル埌の走行安定性は極めお
悪い。 詊料は詊料、ず比范するずやや䞍
安定であり、電子線による架橋の均䞀性が確認さ
れた。 実斜䟋  Fe合金針状磁性粉長軞0.3、短軞0.04Ό、
Hc1100Oe 120郚 分散剀オレむン酞 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物を匷力ミキサヌにお時間混合し、
磁性合金埮粉末を分散剀により良く湿最させる。
次に 前蚘暹脂組成物(b) 18郚固圢分換算 前蚘暹脂組成物(h) 12郚 〃  溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
200郚 最滑剀 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理物ず高速ミキサヌによる
時間十分混合サンドグラむンドミルを甚いお
時間混合分散を行な぀た。 この様にしお埗られた磁性塗料を12Όポリ゚ス
テルフむルム䞊に塗垃し、磁堎配向、溶剀也燥、
衚面平滑化凊理埌、゚レクトロカヌテンタむプ電
子線加速装眮を䜿甚しお、加速電圧150KeV、電
極電流10mA、党照射量5Mradの条件でN2ガス
雰囲気䞋にお電子線を照射し、塗膜を硬化させ
た。 埗られたテヌプを3.8mm巟に切断し、合金オヌ
デむオカセツトテヌプ詊料を埗た。 実斜䟋  Fe合金針状磁性粉長軞0.3、短軞0.04Ό、
Hc1100Oe 120郚 分散剀オレむン酞 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物を匷力ミキサヌにお時間混合し、
磁性合金埮粉末を分散剀により良く湿最させる。
次に 前蚘暹脂組成物(f) 13郚固圢分換算 前蚘暹脂組成物(h) 12郚 〃  分子量400未満の成分ずしお―ヘキサング
リコヌルゞメタクリレヌト 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
150郚 最滑剀 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理物ず高速ミキサヌにより
時間十分混合し、サンドグラむンドミルを甚い
お時間混合分散を行な぀た。 この様にしお埗られた磁性塗料を12Όポリ゚ス
テルフむルム䞊に塗垃し、磁堎配向、溶剀也燥、
衚面平滑化凊理埌、゚レクトロカヌテンタむプ電
子線加速装眮を䜿甚しお、加速電圧150KeV、電
極電流10mA、党照射量5Mradの条件でN2ガス
雰囲気䞋にお電子線を照射し、塗膜を硬化させ
た。 埗られたテヌプを3.8mm巟に切断し、合金オヌ
デむオカセツトテヌプ詊料を埗た。 比范䟋  Fe合金針状磁性粉長軞0.3Ό、短軞0.04Ό、
Hc1100Oe 120郚 分散剀オレむン酞 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物を匷力ミキサヌにお時間混合し、
磁性合金埮粉末を分散剀により良く湿最させる。
次にバむンダヌずしお 分子量5000以䞊の暹脂ずしおアクリル二重結合導
入塩化ビニル酢酞ビニル共重合䜓を単独に甚い
た。その時の䜿甚量は 30郚固圢分換算 溶剀メチル゚チルケトン 200郚 最滑剀高玚脂肪酞倉性シリコンオむル 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理物ず高速ミキサヌにより
時間十分混合し、サンドグラむンドミルを甚い
お時間混合分散を行な぀た。 分散埌磁性塗料䞭のバむンダヌの氎酞基を䞻䜓
ずした官胜基ず反応し架橋結合し埗るむ゜シアネ
ヌト化合物バむ゚ル瀟補デスモゞナヌルを
固圢分換算で重量郚、䞊蚘サンドグラむンドミ
ル仕蟌塗料に20分混合を行な぀た。 磁性塗料を12Όポリ゚ステルフむルム䞊に塗垃
し、磁堎配向、溶剀也燥、衚面平滑化凊理埌、80
℃に保持した熱凊理炉䞭で48時間保持しお熱硬化
を行な぀た。 埗られたテヌプを3.8mmに切断し、合金オヌデ
むオカセツトテヌプを埗た。詊料ずする。
【衚】 衚―に本発明のバむンダヌによる合金オヌデ
むオカセツトテヌプの特性を瀺す。実斜䟋に䜿甚
しおいる分子量5000以䞊の電子線感応性成分ず分
子量400〜5000未満の電子線感応性成分ず分子量
400未満のモノマヌの分子量の異な぀た暹脂同志
および電子線反応性モノマヌをブレンドしたバむ
ンダヌを䜿甚した堎合、オヌデむオテヌプ特性の
バランスが良く、合金磁性粉末ずの芪和性も良
く、塗垃埌の衚面成圢性もすぐれおいる為に、極
めお平滑な衚面性ず高い残留磁束密床を埗るこず
が出来る。 埓぀お、䜎呚波数の333HzのMoLより、16KHz
の高呚波数のMoLに至るたで非垞に高感床のテ
ヌプを埗るこずが出来た。曎にテヌプの信頌性物
性であるテヌプのキシミ音を生じるたでの走行時
間、カヌステレオによる埀埩耐久走行性、基材の
ポリ゚ステルベヌスずの接着力等を分子量の異な
る電子線硬化型のバむンダヌを混合した合金カセ
ツトテヌプは比范䟋テヌプず比べお非垞にすぐれ
た耐久走行性、高枩、高湿等に察する環境信頌
性、ベヌスずの接着性を瀺すこずが確認された。 実斜䟋  γ―Fe2O3長軞0.8Ό、短軞0.2Ό、Hc300Oe
120郚 カヌボンブラツク垯電防止甚䞉菱カヌボンブラ
ツクMA―600 郚 α―Al2O3粉末0.5Ό粒子 郚 分散剀゜ルビタンモノオレ゚ヌト 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物をボヌルミル䞭にお時間混合し、
磁性酞化鉄を分散剀により良く湿最させる。次に 前蚘暹脂組成物(e) 15郚固圢分換算 前蚘暹脂組成物(i) 15郚 〃  溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
200郚 最滑剀フツ玠オむルデナポン補クラむトツク
ス 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理を行な぀たボヌルミル䞭
に投入し、再び42時間混合分散させる。 この様にしお埗られた磁性塗料を厚さ188Όの
ポリ゚ステルフむルムの片面に塗膜厚が玄10Όず
なる様に塗垃也燥を行ない、次いで衚面平滑化凊
理をほどこした埌、゚レクトロカヌテンタむプ電
子線加速装眮を䜿甚しお、加速電圧175KeV、電
極電流15mA、党照射量2Mradの条件でN2ガス
雰囲気䞋で電子線を照射し、塗膜を硬化させた。 埗られたロヌルを円板状経玄65m/mに打
ち抜き磁気デむスクを埗た。詊料をずする。 比范䟋  γ―Fe2O3長軞0.8Ό、短軞0.2Ό、Hc300Oe
120郚 カヌボンブラツク垯電防止甚䞉菱カヌボンブラ
ツクMA―600 郚 α―Al2O3粉末0.5Ό粒子 郚 分散剀゜ルビタンモノオレ゚ヌト 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物をボヌルミル䞭にお時間混合し磁
性酞化鉄を分散剀により良く湿最させる。次に 前蚘暹脂組成物(g) 30郚固圢分換算 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
200郚 最滑剀フツ玠オむルデナポン補クラむトツク
ス 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理を行な぀たボヌルミル䞭
に投入し、再び42時間混合分散させる。 この様にしお埗られた磁性塗料を厚さ188Όの
ポリ゚ステルフむルムの片面に塗膜厚が玄10Όず
なる様に塗垃也燥を行ない、次いで衚面平滑化凊
理をほどこした埌、゚レクトロカヌテンタむプ電
子線加速装眮を䜿甚しお、加速電圧175KeV、電
極電流15mA、党照射量2Mradの条件でN2ガス
雰囲気䞋で電子線を照射し、塗膜を硬化させた。 埗られたロヌルを円板状埄玄65m/mに打
ち抜き磁気デむスクを埗た。詊料をずする。 磁気デむスクをそれぞれ蚘録再生装眮に装填
し、磁気ヘツドパツド圧40/cm2摺動させな
がら玄1m秒の速床で走行させ、环積ドロツプ
アりト数が1000個に達するたでの走行時間を枬定
した。 その結果を衚―に瀺す。
【衚】 䞊蚘衚の結果から明らかな様に、分子量の5000
以䞊ず分子量400以䞊か぀5000未満の、分子量の
異なる感電子性バむンダヌを組合せお䜿甚するこ
ずは磁性塗膜を匷じんにし、フロツピヌデむスク
ずしお奜適であ぀た。 他方分子量5000未満〜400以䞊の暹脂単独でテ
ストした結果では磁性塗膜が非垞にもろ
くなり、短時間でヘツドにより削られおしたい、
実斜䟋ず比べ劣る。 実斜䟋  γ―Fe2O3長軞0.8Ό、短軞0.2Ό、Hc350Oe
120郚 カヌボンブラツク垯電防止甚䞉菱カヌボンブラ
ツクMA―600 郚 α―Al2O3粉末0.5Ό粒子 郚 分散剀゜ルビタンモノオレ゚ヌト 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物をボヌルミル䞭にお時間混合し、
磁性酞化鉄を分散剀により良く湿最させる。次に 前蚘暹脂組成物(d) 15郚固圢分換算 前蚘暹脂組成物(g) 10郚 〃  分子量400未満成分ずしおゞ゚チレングリコヌル
メタクリレヌト 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
150郚 最滑剀フツ玠オむルデナポン補クラむトツク
ス 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理を行な぀たボヌルミル䞭
に投入し、再び42時間混合分散させる。 この様にしお埗られた磁性塗料を厚さ75Όのポ
リ゚ステルフむルムの片面に塗垃也燥を行ない、
次いで塗膜厚が玄2Όずなる様に衚面平滑化凊理
をほどこした埌、゚レクトロカヌテンタむプ電子
線加速装眮を䜿甚しお、加速電圧175KeV、電極
電流15mA、党照射量2Mradの条件でN2ガス雰
囲気䞋で電子線を照射し、塗膜を硬化させた。 埗られたロヌルを所定の寞法に切断し打ち抜き
シヌルレス定期刞を䜜成した。詊料ずする。 比范䟋  γ―Fe2O3長軞0.8Ό、短軞0.2Ό、Hc350Oe
120郚 カヌボンブラツク垯電防止甚䞉菱カヌボンブラ
ツクMA―600 郚 α―Al2O3粉末0.5Ό粒子 郚 分散剀゜ルビタンモノオレ゚ヌト 郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100郚 䞊蚘組成物をボヌルミル䞭にお時間混合し、
磁性酞化鉄を分散剀により良く湿最させる。次に 前蚘暹脂組成物(d) 30郚固圢分換算 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
150郚 最滑剀フツ玠オむルデナポン補クラむトツク
ス 郚 の混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉凊理を行な぀たボヌルミル䞭
に投入し、再び42時間混合分散させる。 この様にしお埗られた磁性塗料を厚さ75Όのポ
リ゚ステルフむルムの片面に塗垃也燥を行ない、
次いで塗膜厚が玄2Όずなる様に衚面平滑化凊理
をほどこした埌、゚レクトロカヌテンタむプ電子
線加速装眮を䜿甚しお、加速電圧175KeV、電極
電流15mA、党照射量2Mradの条件でN2ガス雰
囲気䞋で電子線を照射し、塗膜を硬化させた。 埗られたロヌルを所定の寞法に切断し打ち抜き
シヌルレス定期刞を䜜成した。詊料ずする。 実斜䟋および比范䟋に぀きシヌルレス定期
刞ずしお䜿甚した時のゲヌト耐甚テストを行な぀
た結果を瀺す第図。 繰返しパス埌の再生出力のピヌク電圧を最初の
再生出力ピヌク電圧100ずした時の枛衰比率を
瀺すEmずする。 通垞初期の基準出力電圧に察し、繰返し再生埌
25を割぀た堎合をシヌルレス定期刞の寿呜ず刀
定する。 結果に瀺す通り、繰返しパス回数最高
30000passたでのパルス信号ピヌクの出力電圧レ
ベルを芋る。 第図に瀺されるように分子量5000以䞊の化合
物ず分子量5000未満の化合物を組合せるこずによ
り再生回数に察する出力の䜎䞋は非垞に改善され
るこずが確認された。
【図面の簡単な説明】
第図は磁性塗料を塗垃埌、衚面平滑化凊理を
斜こすたでの保眮時間に察する埗られたビデオテ
ヌプの4MHzのビデオ感床RF感床のグラフ、
第図はビデオテヌプをVTRにお信号を蚘録し
た埌、バネばかりで巻取り偎に匵力を加え、静止
画像再生を行な぀た時の再生時間に察する枛衰量
のグラフ、第図はビデオテヌプをVTRで走行
させ、走行時間に察する巻取り偎のテンシペンの
倉化のグラフ、第図はシヌルレス定期刞を繰返
しパスした埌の再生出力のピヌク電圧枛衰比率の
グラフをそれぞれ瀺す。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (A) 攟射線玫倖線を陀くにより硬化性を
    も぀䞍飜和二重結合を個以䞊有する分子量
    5000以䞊、奜たしくは8000以䞊の化合物20〜95
    重量、 (B) 前蚘攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結
    合を個以䞊有する分子量400以䞊で、か぀
    5000未満、奜たしくは600〜3000の化合物〜
    80重量、及び (C) 前蚘攟射線により硬化性をも぀䞍飜和二重結
    合を個以䞊有する分子量400未満の化合物
    〜50重量 を配合しおなるバむンダヌ、磁性䜓粒子および溶
    剀を䞻成分ずする磁性塗料を支持䜓に塗垃し、溶
    剀を陀去した埌、衚面平滑化凊理し、前蚘攟射線
    を照射し硬化させるこずを特城ずする磁気蚘録媒
    䜓の補造方法。
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