JPH01247571A - 希土類金属−鉄族金属ターゲットおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録媒体として用いられる希土類金属
−鉄族金属ターゲットおよびその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

最近、ガラスあるいは樹脂基板上にスパッタリング法を
用いて所望組成の希土類金属−鉄族金属系の薄膜を形成
し、これを記録媒体として用いた書き換え可能で高密度
記録が可能な光磁気ディスクの開発が行なわれている。

このスパッタリングに用いられるターゲットの製造方法
としては、従来以下のようなものが提案されていた。

（１）所望組成の希土類金属−鉄族金属合金を真空中ま
たは不活性ガス雰囲気中で溶解した後、同じく真空中あ
るいは不活性ガス中で所定の形状に鋳造してターゲット
を製造する方法（日経二二一マテリアル１９８６年１１
月２４日号Ｐ６１）。

（２）所望組成の合金を真空中または、不活性ガス雰囲
気中で、溶解、鋳造してインゴットを作成し、このイン
ゴットを粉砕して得られた粉末を加圧焼結する方法（特
開昭６１−９１３３６号）。

（３）希土類金属粉末と鉄族金属粉末を所望組成に混合
し、この混合粉末を液相発現温度未満の温度範囲で加圧
焼結する方法（特開昭６１−９９６４０号）。

（４）　　目標成分よりも鉄族金属量が少ない鉄族金属
−希土類金属粉末を溶解・粉砕法により製造し、前記合
金粉末と鉄族金属粉末とを所望組成に混合した後、成形
し、焼結する方法（特開昭６０−２３０９０３号）。

しかしながら、前記（１）の製造方法でターゲットを作
成した場合、 （ａ）　　Ｕ造時に添加元素の偏析が生じやすく均質な
ターゲットを得にくい。

（ｂ）　　希土類金属−鉄族金属系合金は非常に脆性な
金属間化合物を形成するため、鍛造などの組織均均質化
プロセスがとりにくい。このため、鋳造時に生じた巣な
どの欠陥を除去することが不可能である。

（ｃ）　　材質的に脆いため、ターゲット形状に加工す
る際、チッピングや割れを生じやすく機械加工が非常に
困難である。またボンディング時およびスパッタ時の熱
応力でターゲットが割れてしまう。

（ｄ）　　本製造方法によるターゲットをスパッタして
作成した薄膜の組成は、ターゲット組成から７〜１０ａ
ｔ％近く鉄族金属室側にずれを生じ、薄膜組成の制御が
難しい。

などの問題点がある。

前記（２）の製造方法でターゲットを作成した場合、均
質なターゲットは製造可能であるが粉末の構成粒子自体
が脆い金属間化合物より成るため前記（１）のプロセス
で製造したターゲットと同様の問題点がある６ 前記（３）の製造方法で作成した場合、（ａ）　　希土
類金属は酸素との親和力が強いため、粉末作成時、粉体
の取扱い時および加圧焼結時に希土類金属が酸化し、低
酸素の成形体を得られない場合がある。このような成形
体をスパッタリング用ターゲットとして使用した場合、
ターゲット中の含有酸素が薄膜の内部にとり込まれて、
希土類金属を選択的に酸化するため薄膜の磁気特性、特
に保磁力Ｈｅが大きく変動する。

（ｂ）　　スパッタリングの初期において、鉄族金属相
より希土類金属相の部分が優先的にスパッタされ、その
後に鉄族金属相および希土類金属相のスパッタリング速
度が平衡に達するという挙動を示す。このため薄膜の組
成が安定するまでに長時間のブリスパッタを行なう必要
があり、ターゲットの使用効率が悪い。

という問題点がある。

前記（４）の製造方法、具体的には（４）の公開特許公
報で実施例として開示されている、鉄族金属−希土類金
属系の合金粉末に１〜１０重量％程度の鉄族金属を所望
組成になるよう混合し、前記混合粉末を圧粉成形し、次
いで焼結を行なった場合、（ａ）　　薄膜組成が安定す
るまでのブリスパッタに要する時間は前記（３）の製造
方法によるターゲットと比較して短時間となるが、ター
ゲット組成と薄膜組成間のずれが大きく、また薄膜面内
で組成変化量も大きい。

（ｂ）　　混合粉を圧粉成形後、不活性ガス中または、
真空中で、焼結するだけでは、成形体の密度があがらず
、ターゲット中に空孔が残存した状態となり、これがス
パッタリング時の異常放電の原因となること。

（ｃ）　　機械加工の点から見ると、前記（１）、（２
）の製造方法によるターゲットと比較して改善されては
いるが、材料中に含有している希土類金属は全て鉄族金
属との金属間化合物として存在するため、旋盤などで機
械加工する際、割れやチッピングを生じやすい。

などの問題点がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上説明した従来技術の問題点のほとんどを解決したタ
ーゲットとして特開昭６２−７０５５０号に、希土類金
属と鉄族金属との金属間化合物と、鉄族金属相とが焼結
によって結合した微細な混合組織を有するターゲットが
開示されている。

すなわち、希土類金属粉末と鉄族金属粉末とを所望組成
に混合し１次いで液相発現温度未満の温度で加圧焼結し
希土類金属と鉄族金属からなる成形体を形成し、その後
液相発現温度以上の温度で成形体を短時間加熱すること
により成形体中の希土類金属を金属間化合物に変換し、
上記組織のターゲットを得るものである。

このターゲットによると、金属間化合物に変換された希
土類金属は、単体の場合よりもスパッタリング速度が低
下して鉄族金属単体のスパッタリング速度に近づき、こ
の結果従来から提起されていた薄膜組成の不安定という
問題が解決され、かつターゲット中に存在している鉄族
金属によって、加工性が十分に保証される強度をも具備
することが可能である。

しかるに本発明者の検討によると、特開昭６２−７０５
５０号に開議された技術においても以下の問題点を有し
、より一層の改善が望まれるところである。

すなわち、 （ａ）　　第１０回日本応用磁気学会誌学術講演概要集
（１９８６，Ｐ１２８〜Ｐ１２９）によれば、ターゲッ
トと薄膜間の組成ずれは、希土類金属、鉄族金属、希土
類金属−鉄族金属金属間化合物の量比を適正に制御する
ことで改善可能なことが報告されている。

しかるに特開昭６２−７０５５０号のように熱処理によ
って組織制御する方法では、 ｉ）鉄族金属単体周辺の金属間化合物層が異常成長する
、 ｉｉ）特開昭６２−７０５５０号公報の第６図のＣによ
ると鉄族金属単体相、金属間化合物相の他に、希土類金
属のα相と希土類金属−鉄族金属金属間化合物相とから
なる共晶合金相が存在しているが、この共晶合金相内の
希土類金属のα相と希土類金属−鉄族金属金属間化合物
の晶出量および形状を制御することが非常に困難である
、 １ｉｉ）組織にムラを生じやすい、 などの欠点がある。したがって、上記のターゲットを用
いてスパッタリングを行なった場合、ｉ）スパッタ時間
が長時間になると膜組成や特性が変動する、 ｉｉ）ターゲット組成が全く同じものでも、熱処理のロ
フトが異なれば膜組成、特性が異なる。いわゆるロット
間のばらつきが大きいという問題点がある。

（ｂ）　　機械的強度の面からすると、鉄族金属周辺に
存在する脆弱な希土類金属−鉄族金属金属間化合物を薄
くする必要があるが、前述のように異常成長により層厚
が厚くなり好ましくない。

（ｃ）　　希土類金属粉末と鉄族金属粉末の混合物を焼
結したターゲットは、酸素含有量がもともと高くなりや
すい上、熱処理を行なうので最終製品は高酸素になり易
く、薄膜特性に悪影響を及ぼす。

（ｄ）　　希土類金属と鉄族金属のみからなるターゲッ
トから得られた薄膜は、耐食性が不十分であり磁気特性
の劣化という問題がある。

本発明は、以上説明した問題点を解決したターゲットお
よびその製造方法の提供を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、希土類金属−鉄族金属からなる共晶合金相と
鉄族金属相とが希土類金属と鉄族金属との金属間化合物
を主体とする固相拡散接合層により結合した組織を有し
、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ。

Ｎｂ、Ｔａ、ＰｄおよびＰｔの一種または二種以上を原
子％で１５％以下含有することを特徴とする希土類金属
−鉄族金属ターゲット、および希土類金属のα相と、該
希土類金属と鉄族金属とからなる金属間化合物相とが均
一微細に晶出した組織を有する希土類金属−鉄族金属合
金粉末に、ターゲット目標組成に対し不足分の鉄族金属
粉末ならびにＴ　ｘ　＋　Ａ　ｌ　ｔ　Ｃｕ　＋　Ｃｒ
　ｔ　Ｎ　ｂ　ｒ　Ｔ　ａ　ｔ　Ｐ　ｄおよびＰｔの一
種または二種以上を原子％で１５％以下混合したのち、
真空または不活性ガス雰囲気下で前記希土類金属−鉄族
金属合金粉末の組織を保持しつつ加圧焼結することを特
徴とする希土類金属−鉄族金属ターゲットの製造方法で
ある。

本発明ターゲットの特徴は、第１に希土類金属−鉄族金
属からなる共晶合金相が、極めて均一かつ微細に分散し
た希土類金属−鉄族金属金属開化金物晶出相と希土類金
属のα相とから構成されていることである。これは、ア
トマイズ法等の急冷凝固処理によって得られた希土類金
属のα相と。

該希土類金属と鉄族金属とからなる金属間化合物相とが
均一微細に晶出した組織を有する希土類金属−鉄族金属
合金粉末を一方の原料粉末として用い、この組織を保持
すべく液相発現温度未満で加圧焼結していることによる
。

本発明ターゲットは、以上のような均一微細な組織を有
しているため、ターゲットとそれをスパッタリングした
薄膜間の組成ずれを極めて小さくし、さらにスパッタリ
ングに先立って行なわれるプリスパッタリングの時間を
短縮することができる。

第１０回日本応用磁気学会誌学術講演概要集（１９８６
、Ｐ１２８）によれば、複合ターゲット、すなわち希土
類金属単体と鉄族金属単体より構成されるターゲットを
スパッタした場合、希土類金属より鉄族金属が側方にス
パッタされ易く、その結果、薄膜組成は鉄族金属貧にな
る０反対に金属間化合物より構成されるターゲットの場
合は、鉄族金属より希土類金属が側方にスパッタされ易
いため、薄膜組成が鉄族金属富になると報告されている
。これに対し本発明によれば、前述のように希土類金属
のα相と希土類金属−鉄族金属金属間化合物からなる共
晶合金相、さらに固相接合相および鉄族金属相が均一、
かつ微細に分散するため、希土類金属スパッタ粒子と鉄
族金属スパッタ粒子の放出方向の異方性が緩和され、こ
の結果組成ずれが小さくなるものと思われる。

ブリスパッタ時間が短縮される理由としては、（１）特
開昭６２−７０５５０号に述べられているような鉄族金
属と希土類金属の間のスパッタリング速度の差と比較し
て、鉄族金属と希土類金属−鉄族金属金属間化合物の間
のスパッタリング速度の差の方が小さい、 （２）急冷処理により希土類金属−鉄族金属合金粉末を
作成するため、希土類金属のα相と金属間化合物相が均
一かつ微細に分散している。つまり希土類金属相は細か
く分断された形で晶出しているため、微視的に見ると希
土類金属のスパッタ速度は変わらないにもかかわらず、
希土類金属のα相のスパッタリング速度が金属間化合物
相のスパッタリング速度と等しくなるような効果が得ら
れる、 ことにあるものと考えられる。

本発明ターゲットの第２の特徴は、希土類金属と鉄族金
属との金属間化合物を主体とする拡散接合層が極めて薄
いことである。

これは、接合層が液相発現温度未満の加圧焼結による同
相拡散接合層によるものだからである。

このように拡散接合層が薄く、組織にむらを生ずること
がないために、スパッタ時間が長時間となっても安定し
た薄膜特性を得ることができ、かつ機械的強度を劣化さ
せることがないのである。

本発明によれば、この接合層を１０μｍ以下と非常に薄
く制御することが可能である１機械的強度の面から言え
ば、３０μｍ以下に制御することが望まれる。

本発明ターゲットの第３の特徴は、Ｔ　ｘ　ｔ　Ａ　１
　ｙＣｕ　ｒ　Ｃｒ　ｔ　Ｎ　ｂ　ｙ　Ｔ　ａ　？　Ｐ
　ｄおよびＰｔの一種または二種以上を含有しているこ
とである。

前述の如く希土類金属と鉄族金属のみからなるターゲッ
トから得られた薄膜は、耐食性が不十分であり磁気特性
の劣化という問題があるが、本発明ではこれを防止する
ためにＴ　ｉｐ　Ａ　ｌ　Ｉ　Ｃｕ　ｔＣｒ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、ＰｄおよびＰｔの一種または二種以上を含有せしめ
ている。添加量は、あまり多すぎると磁気特性に悪影響
をおよぼすので１５ａｔ％以下とする。

本発明ターゲットにおいて、希土類金属には従来から公
知のＴｂ、Ｇｄ、Ｄｙ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｈａ、Ｔｍ等の１
種または２種以上を用いることができる。その含有量は
１５ａｔ％未満および４５ａｔ％を越えると光磁器記録
媒体としての機能を有する薄膜を得ることが困難になる
ので、１５−４５ａｔ％とする必要がある。

一方、鉄族金属についても従来から用いられているＦｅ
、ＧｏおよびＮｉの１種または２種以上を適用すること
ができる。

以上より本発明における金属間化合物とは、たとえばＦ
ｅ２Ｔｂのみならず、Ｆ　ｅ　Ｃｏ　Ｔ　ｂ等のように
異種の鉄族金属と希土類金属との化合物を含む概念であ
ることは言うまでもない。

次に製造方法について説明する。

本発明においては、まず希土類金属−鉄族金属合金粉末
および鉄族金属粉末が用意される０本発明の特徴は希土
類金属−鉄族金属合金粉末を急冷凝固処理により得る点
であり、この急冷凝固処理により粉末レベルで希土類金
属のα相と金属間化合物との均一、微細化を達成する。

したがって、組成面からみれば、希土類金属と鉄族金属
との組成が共晶組織を発現する組成範囲内にある必要が
ある。

急冷凝固処理の手法としては、合金溶湯から製造する不
活性ガスアトマイズ法、真空アトマイズ法、回転ロール
法等、および前記組成範囲内にある電極を用いる回転電
極法等が適用できる。水冷ロール法、回転電極法等にお
いても合金の酸化防止のために雰囲気は真空、あるいは
不活性ガス雰囲気とする必要がある。

なお、第２図にガスアトマイズ後のＦｅ−Ｔｂ合金粉末
のミクロ金属組織写真を示すが、α−ＴｂとＦｅ２Ｔｂ
が均一微細に晶出した組織である。

また希土類金属−鉄族金属合金粉末は、純希土類金属粉
と比較して格段に耐酸化性に優れているため、ターゲツ
ト材中の含有酸素量を希土類金属粉末と鉄族金属粉末の
混合物を焼結したものと比較して５００〜１０００ｐｐ
ｎ＋以上も減らすことが可能である。

本発明では、上記希土類金属−鉄族金属合金粉末の他に
、鉄族金属ならびにＴｉ、Ａｌ、Ｃｕ。

Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、ＰｄおよびＰｔの一種または二種以
上を添加する。添加の形態は、鉄族金属、Ｔｉ、Ａｌ、
Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、ＰｄおよびＰｔの一種または
二種以上をそれぞれ単独であるいは相互に合金化して添
加する、また鉄族金属とＴｉ、Ａｌ、Ｃｕ等との合金で
添加する、等により実施される。

原料粉末の平均粒径は１ｍ以下であることが望ましい。

これは、平均粒径が１ｍｓを越えると成形体中に不均一
部を生じ、これをターゲットして用いた場合、得られる
薄膜の組成が部分的に不均一となるからである。

以上の原料粉末を混合した後、液相発現温度未満の温度
で加圧焼結を行なう。

加圧焼結の温度を液相発現温度未満とするのは。

液相発現温度以上の温度にすると、鉄族金属相と希土類
金属−鉄族金属共晶合金相との間の接合層が異常に成長
し、成形体の機械的強度が低下すること、および希土類
金属−鉄族金属からなる共晶合金相に晶出している希土
類金属のα相が消滅してしまうことによる。望ましくは
液相発現温度未満の温度から（液相発現温度未満−１０
０℃）の範囲内。

更に望ましくは液相発現温度未満の温度から（液相発現
温度未満−３０℃）の範囲内である。なお液相発現温度
の一例を上げると、Ｔｂ−Ｆｅの場合８４０℃、Ｔｂ−
Ｆｅ−Ｇｏの場合、６９５℃、Ｔｂ−Ｇｄ−Ｆｅの場合
６３０℃である。

以上の液相発現温度未満の加圧焼結により接合層の極薄
化を達成できるのは前述の通りであるが、さらに、 ｉ）原料粉末レベルで得られている希土類金属のα相と
金属間化合物の量および良好な分散状態の維持、制御が
容易になされる、 ｉｉ）組織中にむらを生じさせることがない、１ｉｉ）
酸素含有量を低レベルに抑制できる。

といった効果が得られ、長時間スパッタ時の薄膜特性の
安定化に寄与するものである。

加圧焼結の手法としては、熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）
、ホットプレス、熱間パック圧延、熱間パック鍛造等を
適用できる。具体的な条件としては熱間静水圧プレスの
場合、液相発現温度未満から（液相発現温度未満−３０
℃）の範囲内かつ不活性ガス圧１０００〜２０００気圧
で、２〜３時間保持すると、鉄族金属相と希土類金属−
鉄族金属共晶合金相との間の拡散接合層の厚さを、１０
〜３０μ１以内に抑えることが可能で、成形体の密度も
９７％以上に達する。

ホットプレスの場合、密度９８以上の成形体を得ようと
する場合、加熱温度を液相発現温度未満から（液相発現
温度末ａ−１０℃）以内、成形圧力１．５０ｋｇ／ｃｄ
以上で２時間程度保持することが望ましい。

熱間パック圧延、熱間パック鍛造の場合は、加熱温度は
ＨＩＰと同様で良いが、１バスごとの圧下率を１０％以
内にして加工する必要がある。

〔実施例〕

第１表に実施例に用いた試料の組成（粉末も含む）を示
す。全試料とも平均粒径０．：３ｍ以下の粉末を使用し
た。粉末の作成方法について述べると本発明では、Ｔｂ
−Ｆｅ粉末については、溶融塩電解法で製造した７０．
２ａｔ％Ｔｂ−Ｆｅ組成の低酸素合金（酸素１３０Ｐρ
ｍ）へ目櫻組成になるように、ＦｅまたはＴｂを加えて
、底部に溶湯噴射用ノズルの付いたルツボに装入した。

前記ルツボをガスアトマイズ装置内にｉ２置した後、装
置内をｔｏ−’−１０−’　ｔｏｒｒ台まで真空に引き
、高周波誘導で加熱を行なってルツボ内の溶解原料を溶
解した。溶湯温度が約１２００℃に達した段階で原料は
完全に溶解するため。

溶湯にＡｒガス圧力を印加すると同時に噴射用ノズルの
弁を開いてガスアトマイズを行なった。上記の方法で作
成したＴｂ−Ｆｅ粉の酸素量は、平均で１２００ｐｐｍ
程度であった。溶解原料としては前記のようなＴｂ−Ｆ
ｅ共晶合金の他、純Ｔｂ、純Ｆｅを所定量秤量して用い
ることも可能であるが、市販の高純度Ｔｂの含有酸素量
が９００〜１２００ρｐ１１であること、原料が完全に
溶解するまでの温度が高く、また溶解時間も長時間とな
ることから、作成したＴｂ−Ｆｅ粉の平均酸素含有量は
２２００ｐｐｎ＋にも達する。

このため、Ｔｂ−Ｆａ共晶点組成合金などの希土類金属
−鉄族金属系共晶合金を溶解原料の主体とすることが望
ましい。実施例で用いたＦｅ、Ｇｏ。

Ｆｅ−Ｃｏ、　Ｆｅ−Ｔｉ、　Ｆｅ−Ｃｏｏ−Ｔｉ等の
粉末についてもＴｂ−Ｆｅ粉と同様にアルゴンガスアト
マイズを用いて製造した。その際の粉末の平均酸素量は
、Ｆｅ　２５０ｐｐｍ、　Ｇｏ　８０ｐｐｍ、　Ｆｅ−
Ｔｉ　２００ｐｐｍ、　Ｆｅ−Ｃｏ−Ｔｉ　２１０ｐｐ
ｍであった。

上記の希土類金属−鉄族金属、および鉄族金属等それぞ
れのガスアトマイズ粉を用いて、第１表混合物組成の欄
に示すそれぞれの組成になるよう秤量、添加した後、Ｖ
型混合器内に装入し、混合中に粉末が酸化しないように
、混合器内を一度真空に引いた後で、Ａｒガスで置換し
た。粉末混合に関しては、可能な限り均一な混合粉末を
作るため、積算回転数で６０００回以上回転を加えた。

次に混合粉末を軟鋼製カプセルに充填し、カプセル内部
を１０−’　ｔｏｒｒ以上に真空排気をした後で、４０
０℃に加熱し、カプセル全体が４００℃に達した後で５
時間保持した状態のまま封入を行なった。

前記カプセルを熱間静水圧プレス装置（ＨＩ　Ｐ）を用
いて、温度６８５℃、　１２００気圧、２Ｈｒ保持の加
圧焼結を実施した。

なお、比較例１１はＴｂ粉、Ｆｅ粉、Ｃｏ粉をホットプ
レス装置で６８５℃、１５０ｋｇ／ｄで２時間加圧焼結
したものである。

焼結を完了した成形体より旋盤と平面研削盤を用いて外
側の鉄皮を除去した後で、直径１０１ｍａＸ厚さ３Ｉの
薄膜評価用ターゲット、抗折力測定用試験片、および酸
素量分析用試料を加工した。

薄膜評価には、高周波電源を有するマグネトロンタイプ
のスパッタ装置を用いて、０．１５ａ＋＋の板厚を有す
るコーニング社製の７０５９ガラス上に成膜を行なった
。成膜条件は高周波出力４００ｗ、Ａｒガス圧５　ｘ　
ｔｏ′□３ｔｏｒｒ、ターゲットとガラス基板間の距離
は７０ＩＩＩ１１で、成膜時にはガラス基板を回転せず
、ターゲットとガラス基板を対向させている。

第２表に本発明および比較例のターゲットの含有酸素量
、抗折力および前記ターゲットを用いて成膜した薄膜の
組成を示す。本発明によるターゲットの含有酸素量は、
いずれも１ｌ１００ｐｐ以下で１０ｋｇ／ｃＪ以上の良
好な抗折力を有している。

このように良好な抗折力を有している理由は、ターゲッ
ト中に存在する鉄族金属相の効果によるものと考えられ
る。

また、薄膜組成の点でも、ターゲット組成に比して鉄族
金属盲側に２ａｔｘ以内しかずれを生ぜず。

かつ膜中の耐食性元素の含有量もターゲット組成とほぼ
同程度であることがわかる。

次に、ガラス基板上に形成された薄膜の耐食性を評価し
た。評価に用いた試料は、試料Ｎｏ、１０（本発明）と
試料Ｎｏ、１１（比較例）であり、評価方法は温度６５
℃、相対湿度９椙の環境下に薄膜が形成された基板を置
き、５０時間ごとにガラス基板をとり出し、その磁性を
測定することにより行なった。

第１図に結果を示す。

試料Ｎｏ、１０は試料時間が長期に渡っても保磁力（Ｈ
ｅ）の変動が小さいことがわかる。それに対し、試料Ｎ
ｏ、１１は短時間から保磁力（Ｈｅ）が変動し始め試験
時間２００Ｈｒ以降、垂直磁化膜ではなくなった。

上記の現象は、Ｔｂが優先的に酸化され、特性がＦｅ側
に移行し始め、最終的にはアモルファス組成をはずれた
ため生じたものと思われる。

〔発明の効果〕

以上説明のように本発明によれば、ターゲット組成と薄
膜組成のずれが小さく、かつ良好な耐食性を有する薄膜
が得られるため、産業に大きな利益を与える。

【図面の簡単な説明】

第１図は、耐食性評価試験の結果を示すグラフ、第２図
は、本発明ターゲットに供する合金粉末のミクロ金属組
織写真である。 ■ 第１図 時闇（Ｈｒ　） 第　　２　　図 Ｃ，％　４．　ｇ　Ｑ　）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　希土類金属−鉄族金属からなる共晶合金相と鉄族金
   属相とが希土類金属と鉄族金属との金属間化合物を主体
   とする固相拡散接合層により結合した組織を有し、Ｔｉ
   、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、ＰｄおよびＰｔの一
   種または二種以上を原子％で１５％以下含有することを
   特徴とする希土類金属−鉄族金属ターゲット。 ２　希土類金属のα相と、該希土類金属と鉄族金属とか
   らなる金属間化合物相とが均一微細に晶出した組織を有
   する希土類金属−鉄族金属合金粉末に、ターゲット目標
   組成に対し不足分の鉄族金属粉末ならびにＴｉ、Ａｌ、
   Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、ＰｄおよびＰｔの一種または
   二種以上を原子％で１５％以下混合したのち、真空また
   は不活性ガス雰囲気下で前記希土類金属−鉄族金属合金
   粉末の組織を保持しつつ加圧焼結することを特徴とする
   希土類金属−鉄族金属ターゲットの製造方法。