JPH01242951A - ハロゲン化炭化水素ガスセンサ - Google Patents
ハロゲン化炭化水素ガスセンサInfo
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- JPH01242951A JPH01242951A JP7121388A JP7121388A JPH01242951A JP H01242951 A JPH01242951 A JP H01242951A JP 7121388 A JP7121388 A JP 7121388A JP 7121388 A JP7121388 A JP 7121388A JP H01242951 A JPH01242951 A JP H01242951A
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の利用分野]
この発明は、金属酸化物半導体の抵抗値の変化を用いた
、ハロゲン化炭化水素ガスセンサに関する。
、ハロゲン化炭化水素ガスセンサに関する。
[従来技術]
フレオン等のハロゲン化炭化水素が大気上層のオゾン層
を破壊し、環境破壊をもたらすことが指摘されている。
を破壊し、環境破壊をもたらすことが指摘されている。
ハロゲン化炭化水素の主なものはフレオンであり、フレ
オン消費量の約40%はフロンl l 3(CCIF、
・CCLF)で占められてい、る。これ以外のフレオン
の内生なものは、フロン+2(CC1,F、、消費量的
25%)、フロンIt(CC1,F、消費量的20%)
、フロン22(CHCIF、消費量的15%)である。
オン消費量の約40%はフロンl l 3(CCIF、
・CCLF)で占められてい、る。これ以外のフレオン
の内生なものは、フロン+2(CC1,F、、消費量的
25%)、フロンIt(CC1,F、消費量的20%)
、フロン22(CHCIF、消費量的15%)である。
これらのフレオンの内、フロン22は比較的環境への影
響の少ない物質であり、またフロン11やフロン12に
は環境への影響が小さいフロン123や、フロン134
a等の代替物質が開発されている。しかし最大の消費
jiを占めろフロン113には、代替物質は開発されて
いない。
響の少ない物質であり、またフロン11やフロン12に
は環境への影響が小さいフロン123や、フロン134
a等の代替物質が開発されている。しかし最大の消費
jiを占めろフロン113には、代替物質は開発されて
いない。
フレオンによる環境破壊を防止するには、その漏れを検
出するセンサが必要である。このセンサには特に、消費
量が大きく今後とも使用を続けねばならない、フロン1
13に高感度であることが要求される。
出するセンサが必要である。このセンサには特に、消費
量が大きく今後とも使用を続けねばならない、フロン1
13に高感度であることが要求される。
発明者らは、金属酸化物半導体ガスセンサのフレオン感
度を測定した。結果は、(1)フレオンに対するガスセ
ンサの感度は不充分である、(2)特に重°要なフロン
113への感度が乏しい、という乙のであった。
度を測定した。結果は、(1)フレオンに対するガスセ
ンサの感度は不充分である、(2)特に重°要なフロン
113への感度が乏しい、という乙のであった。
なおここで、関連する先行技術を示す。特公昭61−6
0,381号公報は、硫酸イオンの5nOtガスセンサ
に対する増感作用を指摘している。この公報によると、
硫酸イオンはメタン、イソブタン、水素等の各種可燃性
ガスへの感度を無差別に向上させ、ガス漏れ警報器用の
センサに特に好ましいとされる。
0,381号公報は、硫酸イオンの5nOtガスセンサ
に対する増感作用を指摘している。この公報によると、
硫酸イオンはメタン、イソブタン、水素等の各種可燃性
ガスへの感度を無差別に向上させ、ガス漏れ警報器用の
センサに特に好ましいとされる。
[発明の課題]
この発明の課題は、ガスセンサのハロゲン化炭化水素に
対する感度を向上させること、特にフロン113への感
度を向上させることに有る。
対する感度を向上させること、特にフロン113への感
度を向上させることに有る。
[発明の構成]
この発明では、金属酸化物半導体に硫黄化合物を添加す
る。添加量は、硫酸イオン換算で0.1〜100 mg
rS O4’−/ gr金属酸化物半導体とし、より好
ましくはl−100mgrS O4’−/gr金属酸化
物半導体、更に好ましくは1〜70 mgrS 04’
−/gr金属酸化物半導体とする。
る。添加量は、硫酸イオン換算で0.1〜100 mg
rS O4’−/ gr金属酸化物半導体とし、より好
ましくはl−100mgrS O4’−/gr金属酸化
物半導体、更に好ましくは1〜70 mgrS 04’
−/gr金属酸化物半導体とする。
添加した硫黄化合物の増感機構の詳細は不明であるが、
主として硫酸イオンとして金属酸化物半導体表面に存在
し、その酸性に関連してハロゲン化炭化水素への感度を
増すものと推測できる。ハロゲン化炭化水素への増感作
用は硫黄化合物に特有のものである。例えば硫黄の隣接
元素であるリンには、このような作用は見られない。
主として硫酸イオンとして金属酸化物半導体表面に存在
し、その酸性に関連してハロゲン化炭化水素への感度を
増すものと推測できる。ハロゲン化炭化水素への増感作
用は硫黄化合物に特有のものである。例えば硫黄の隣接
元素であるリンには、このような作用は見られない。
次ぎに硫黄化合物の添加効果は、O、I mgrSO4
2−/gr金属酸化物半導体程度から発現し、添加量と
共に増大する。硫黄化合物には添加効果が急増する領域
が有り、!−10mgrs O4’−/gr金属酸化物
半導体の範囲で効果が急増する。これ以上の添加量では
、添加量依存性は減少する。硫黄添加量の上限に特に意
味はないが、添加物を過剰に加えることは一般的に好ま
しくなく、+00mgrS O,’7’gr7’酸化物
半導体を上限とした。
2−/gr金属酸化物半導体程度から発現し、添加量と
共に増大する。硫黄化合物には添加効果が急増する領域
が有り、!−10mgrs O4’−/gr金属酸化物
半導体の範囲で効果が急増する。これ以上の添加量では
、添加量依存性は減少する。硫黄添加量の上限に特に意
味はないが、添加物を過剰に加えることは一般的に好ま
しくなく、+00mgrS O,’7’gr7’酸化物
半導体を上限とした。
既に示したように、硫黄化合物の効果はその酸性と関連
し、金属酸化物半導体の種類とは独立したものである。
し、金属酸化物半導体の種類とは独立したものである。
従って金属酸化物半導体の種類は任意であり、例えばZ
nOや1n203等に硫黄化合物を添加してハロゲン化
炭化水素ガスセンサとしてら良い。
nOや1n203等に硫黄化合物を添加してハロゲン化
炭化水素ガスセンサとしてら良い。
以下SnO2ガスセンサを例に、実施例を示す。
また硫黄化合物の添加量は硫酸イオンに換算し、金属酸
化物半導体1gr当たりの添加量をmgr単位で示す。
化物半導体1gr当たりの添加量をmgr単位で示す。
[実施例〕
試料の調整
S nC!4の水溶液をアンモニアで中和し、スズ酸の
ゾルとした。ゾルを水洗後に乾燥し、空気中800°C
で1時間焼成して5nOtを得た3、このSnO,を粉
砕し、塩化パラデイラムの水溶液を含浸さ仕、700℃
で30分間空気中にて焼成し、Pd触媒を担持させた。
ゾルとした。ゾルを水洗後に乾燥し、空気中800°C
で1時間焼成して5nOtを得た3、このSnO,を粉
砕し、塩化パラデイラムの水溶液を含浸さ仕、700℃
で30分間空気中にて焼成し、Pd触媒を担持させた。
担持量は、10mgrPd/grS nOy(金属Pd
換算)である。なお硫黄化合物の効果は、I)d等の触
媒の種類や有無とは無関係であった。
換算)である。なお硫黄化合物の効果は、I)d等の触
媒の種類や有無とは無関係であった。
触媒添加後のSnO*を粉砕し、一対の金電極を印刷し
たアルミナパイプに塗布し、850℃で10分間焼結し
た。焼結後にアルミナパイプにヒータコイルを挿入し、
ステムに固定してガスセンサとした。このガスセンサの
形状は、出願人のガスセンサTGS813“として周知
である。
たアルミナパイプに塗布し、850℃で10分間焼結し
た。焼結後にアルミナパイプにヒータコイルを挿入し、
ステムに固定してガスセンサとした。このガスセンサの
形状は、出願人のガスセンサTGS813“として周知
である。
ガスセンサに希硫酸を滴下し、SnO,に吸収させた。
次いで空気中650℃で30分間熱処理し、硫酸イオン
を担持させた。ガスセンサの動作温度で安定な硫黄化合
物の形態は硫酸イオンであり、硫黄化合物は池の形態で
加えても良い。いずれの場合ら、硫黄化合物は主として
硫酸イオンとしてγを在すると推測される。硫酸イオン
は、例えば硫酸アンモニウム、硫酸第一錫、あるいは亜
硫酸化合物等として加えても良い。また硫酸イオンは、
S n Otの出発材料、例えば触媒添加前のS n
O9、に加えてら良い。なお比較例(硫黄化合物無添加
、あるいは希硫酸に代えて希リン酸を滴下)に付いてら
、同様の調整条件を用いた。また硫黄化合物無添加の比
較例でも、650℃30分間の熱処理を施した。
を担持させた。ガスセンサの動作温度で安定な硫黄化合
物の形態は硫酸イオンであり、硫黄化合物は池の形態で
加えても良い。いずれの場合ら、硫黄化合物は主として
硫酸イオンとしてγを在すると推測される。硫酸イオン
は、例えば硫酸アンモニウム、硫酸第一錫、あるいは亜
硫酸化合物等として加えても良い。また硫酸イオンは、
S n Otの出発材料、例えば触媒添加前のS n
O9、に加えてら良い。なお比較例(硫黄化合物無添加
、あるいは希硫酸に代えて希リン酸を滴下)に付いてら
、同様の調整条件を用いた。また硫黄化合物無添加の比
較例でも、650℃30分間の熱処理を施した。
熱処理後の硫酸イオンの分布と、Sn0w中の存在量と
を測定した。硫酸イオンはSnO,の塗膜にほぼ均一に
存在し、加えた希硫酸からの硫酸イオンのほぼ全量がS
n Oを中に残存した。そこで以下では、添加した希
硫酸が全て硫酸イオンとしてSnowに担持されたもの
として、存在量を示す。
を測定した。硫酸イオンはSnO,の塗膜にほぼ均一に
存在し、加えた希硫酸からの硫酸イオンのほぼ全量がS
n Oを中に残存した。そこで以下では、添加した希
硫酸が全て硫酸イオンとしてSnowに担持されたもの
として、存在量を示す。
硫酸イオンの効果
第1図に、430℃でのフレオン感度と硫酸イオン添加
mとの関係を示す。なお測定雰囲気には、20°Cr(
865%の空気を用い、結果は各3個のセンサの平均で
示す(以下同じ)。また用いたガスは全て1000vo
l ppmである。空気中での抵抗値に対する硫酸イオ
ンの効果は小さく、抵抗値をわずかに減少させるに過ぎ
ない。また硫酸イオンは、エタノール(EtOll)、
イソプロパツール(IPA)、n−オクタンへの抵抗値
には影響しない。
mとの関係を示す。なお測定雰囲気には、20°Cr(
865%の空気を用い、結果は各3個のセンサの平均で
示す(以下同じ)。また用いたガスは全て1000vo
l ppmである。空気中での抵抗値に対する硫酸イオ
ンの効果は小さく、抵抗値をわずかに減少させるに過ぎ
ない。また硫酸イオンは、エタノール(EtOll)、
イソプロパツール(IPA)、n−オクタンへの抵抗値
には影響しない。
なおn−オクタンはガソリンの代表成分であり、カーエ
アコンからのフレオンの漏れを検出する際の妨害ガスと
して例示した。またエタノールやイソプロパツールは、
頻繁に用いられる溶剤蒸気の例として示した。
アコンからのフレオンの漏れを検出する際の妨害ガスと
して例示した。またエタノールやイソプロパツールは、
頻繁に用いられる溶剤蒸気の例として示した。
次ぎに硫酸イオンの効果は、フロン12やフロン113
に対して大きく、フロン11やフロン22には小さい。
に対して大きく、フロン11やフロン22には小さい。
、また硫酸イオンの効果は添加mと共に増加するが、l
mgr−10mgrS 042−/grsn02の範
囲で特に増加が著しい。フロン113の場合、Q 、
l mgr/grS no eの硫酸イオンでイソプロ
パツールと同等の感度が得られ、IBr/grSnO4
以上で感度が激増し、I Omgr/ gr S no
2以上で飽和Jこ近付く。
mgr−10mgrS 042−/grsn02の範
囲で特に増加が著しい。フロン113の場合、Q 、
l mgr/grS no eの硫酸イオンでイソプロ
パツールと同等の感度が得られ、IBr/grSnO4
以上で感度が激増し、I Omgr/ gr S no
2以上で飽和Jこ近付く。
硫酸イオンによる増感作用は、特定の温度に限られるし
のではない。第2図に6 mgrs O4’−/grS
nOyのセンサの加熱温度依存性を、第3図に硫酸イオ
ン無添加のセンサの加熱温度依存性を示す。
のではない。第2図に6 mgrs O4’−/grS
nOyのセンサの加熱温度依存性を、第3図に硫酸イオ
ン無添加のセンサの加熱温度依存性を示す。
抵抗値は、280℃の空気中での抵抗値を基準として示
す。またフレオンとしては、各toooppmのフロン
113とフロン22とを用いた。比較例では、フロン1
13への感度は全ての温度で小さく、実施例では低温か
ら高温までの広い温度範囲でフロン113への増感が見
られる。またフロン22への感度も、実施例の方がやや
高い。フロン113に対しては70℃を中心に特に高い
感度か得られる領域が有り、例えばセンサを高温(例え
ば200〜500℃)で間欠的にヒートクリーニングし
ながら、70℃付近(例えば室温〜150℃)で検出す
るようにしても良い。
す。またフレオンとしては、各toooppmのフロン
113とフロン22とを用いた。比較例では、フロン1
13への感度は全ての温度で小さく、実施例では低温か
ら高温までの広い温度範囲でフロン113への増感が見
られる。またフロン22への感度も、実施例の方がやや
高い。フロン113に対しては70℃を中心に特に高い
感度か得られる領域が有り、例えばセンサを高温(例え
ば200〜500℃)で間欠的にヒートクリーニングし
ながら、70℃付近(例えば室温〜150℃)で検出す
るようにしても良い。
第1図に、6 mgrs O42−/ grS no
tの硫酸イオンを加えた実施例と、硫酸イオン無添加の
比較例に付いて、フロン113への応答波形(430℃
)を示す。応答速度はほぼ同等で、相違点は1或度の差
である。
tの硫酸イオンを加えた実施例と、硫酸イオン無添加の
比較例に付いて、フロン113への応答波形(430℃
)を示す。応答速度はほぼ同等で、相違点は1或度の差
である。
(imgrsOt’−/grsnotの硫酸イオンを加
え1こセンサと、硫酸イオン無添加の比較例に付いて、
140℃、280℃、420℃での結果を、表1に示す
。表中感度は、空気中の抵抗値とガス中の抵抗値の比で
示す。
え1こセンサと、硫酸イオン無添加の比較例に付いて、
140℃、280℃、420℃での結果を、表1に示す
。表中感度は、空気中の抵抗値とガス中の抵抗値の比で
示す。
表1
ガス(各101000pp 感
度とセンサ温度 実施例 比較例フ
ロンH3140℃ 93 3〃 28
0°C614 〃 420℃ 10 2.3エタノ
ール 140℃ 10 10〃 280
°C56 〃 420℃ 22 n−オクタン 140°C1,62,6〃 280
℃ 22 26〃 420°C22 工チレンオキシド140°C6,1、6〃 2
80°C2、42、fi〃 420°C1,5
1,5 表 1 続き メタン 140°Cなし なし 〃 280°C3,03,8 〃 、120’″C6,55,−1イソブタン 1
40°Cなし なし〃 280℃ I
4 15〃 420°C3,23,7 アセトン 140℃ 3.+ 5.
6〃 280℃ 15 20〃 4
20°C221 硫化水X(100ppm) I 40°Cなし
1,8〃 280℃ なし なし〃
420°Cなし なしN +(s(1
00ppm) ! 40℃ 2.2 5
.4〃 280°C2,22,4〃
420℃ 1.2 1.3表1から明ら
かなように、硫酸イオンの効果はフレオンへの増感に限
られ、他のガスへの感度は硫酸イオンによりほとんど変
化しない、あるいはわずかに減少ずろのである。
度とセンサ温度 実施例 比較例フ
ロンH3140℃ 93 3〃 28
0°C614 〃 420℃ 10 2.3エタノ
ール 140℃ 10 10〃 280
°C56 〃 420℃ 22 n−オクタン 140°C1,62,6〃 280
℃ 22 26〃 420°C22 工チレンオキシド140°C6,1、6〃 2
80°C2、42、fi〃 420°C1,5
1,5 表 1 続き メタン 140°Cなし なし 〃 280°C3,03,8 〃 、120’″C6,55,−1イソブタン 1
40°Cなし なし〃 280℃ I
4 15〃 420°C3,23,7 アセトン 140℃ 3.+ 5.
6〃 280℃ 15 20〃 4
20°C221 硫化水X(100ppm) I 40°Cなし
1,8〃 280℃ なし なし〃
420°Cなし なしN +(s(1
00ppm) ! 40℃ 2.2 5
.4〃 280°C2,22,4〃
420℃ 1.2 1.3表1から明ら
かなように、硫酸イオンの効果はフレオンへの増感に限
られ、他のガスへの感度は硫酸イオンによりほとんど変
化しない、あるいはわずかに減少ずろのである。
次ぎに、フレオンへの増感は硫酸イオンに持合の現象で
ある。希硫酸に代えオルトリン酸を用い、6 mgrP
Oa’7’ grS no tのリン酸イオンを添加
した比較例の特性を表2に示す。
ある。希硫酸に代えオルトリン酸を用い、6 mgrP
Oa’7’ grS no tのリン酸イオンを添加
した比較例の特性を表2に示す。
表2*
感 度
ガ ス (I00呻リ P04′添加 so、”
−添加フロン113 70°C5140 〃280°C1,7G 7420℃ 2.2 10 フロン22 70°CI6 7〃28
0℃412 〃420°C614 * 試料はいずれも6 mgr/grS no 、のリ
ン酸イオンまたは硫酸イオン添加、感度はいずれら空気
中の抵抗値とガス中の抵抗値の比。
−添加フロン113 70°C5140 〃280°C1,7G 7420℃ 2.2 10 フロン22 70°CI6 7〃28
0℃412 〃420°C614 * 試料はいずれも6 mgr/grS no 、のリ
ン酸イオンまたは硫酸イオン添加、感度はいずれら空気
中の抵抗値とガス中の抵抗値の比。
表2から明らかなように、硫黄の隣接元素であるリンに
は、フレオンへの増感作用は見られず、フレオン増感作
用は硫黄に特有のものである。発明者は、ここで示した
もの以外の元素に付いても、はぼ全ての典型元素と遷移
金属元素とに付いてスクリーニングを行った。しかし硫
黄化合物への増感作用が見られるのは、硫黄の他にはゲ
ルマニウムのみであった。しかもゲルマニウムの効果は
低温でしか発現せず、硫黄に劣るものであった。
は、フレオンへの増感作用は見られず、フレオン増感作
用は硫黄に特有のものである。発明者は、ここで示した
もの以外の元素に付いても、はぼ全ての典型元素と遷移
金属元素とに付いてスクリーニングを行った。しかし硫
黄化合物への増感作用が見られるのは、硫黄の他にはゲ
ルマニウムのみであった。しかもゲルマニウムの効果は
低温でしか発現せず、硫黄に劣るものであった。
なお実施例では、ハロゲン化炭化水素の代表例であるフ
レオンに付いて説明した。しかしフレオンの類似物質、
例えば消火剤に用いられるCF3Br等のハロゲン化炭
化水素ら同様に検出し得ることはいうまで乙ない。なお
この明細書においてハロゲン化炭化水素とは、炭素と水
素及びハロゲンからなる化合物を指す乙のとする。
レオンに付いて説明した。しかしフレオンの類似物質、
例えば消火剤に用いられるCF3Br等のハロゲン化炭
化水素ら同様に検出し得ることはいうまで乙ない。なお
この明細書においてハロゲン化炭化水素とは、炭素と水
素及びハロゲンからなる化合物を指す乙のとする。
[発明の効果1
この発明では、ハロゲン化炭化水素へのセンサ感度を向
トさせる。特に硫黄化合物の添Bl団1を1mgrS
O4’−/ gr金属酸化物半導体以上とすれば、フレ
オンへの感度を充分大きくすることができ、他のガスに
よる影響を避けることができる。
トさせる。特に硫黄化合物の添Bl団1を1mgrS
O4’−/ gr金属酸化物半導体以上とすれば、フレ
オンへの感度を充分大きくすることができ、他のガスに
よる影響を避けることができる。
そして増感作用は、消費量が大きく代替物質がないにも
かかわらすセンサ感度が低い、フロン113に対して特
に著しい。
かかわらすセンサ感度が低い、フロン113に対して特
に著しい。
加えた硫黄化合物の効果は、ハロゲン化炭化水素に特有
のものであり、他のガスへの感度にはほとんど影響せず
、あるいは他のガスへの感度をわずかに減少させるに過
ぎない。
のものであり、他のガスへの感度にはほとんど影響せず
、あるいは他のガスへの感度をわずかに減少させるに過
ぎない。
更に、ハロゲン化炭化水素への増感作用が生じるのは硫
黄化合物に限られ、類似物質であるリン酸イオンを加え
てし増感作用は生じない。
黄化合物に限られ、類似物質であるリン酸イオンを加え
てし増感作用は生じない。
第1図は、硫黄化合物の添加量とハロゲン化炭化水素感
度との関係を現4−1実施例の特性図である。 第2図は、実施例の温度特性を現す特性図であ第3図は
、従来例の温度特性を現4゛特性図である。 第4図は、実施例でのハロゲン化炭化水素への応答特性
を現す特性図である。
度との関係を現4−1実施例の特性図である。 第2図は、実施例の温度特性を現す特性図であ第3図は
、従来例の温度特性を現4゛特性図である。 第4図は、実施例でのハロゲン化炭化水素への応答特性
を現す特性図である。
Claims (4)
- (1)金属酸化物半導体の抵抗値の変化を利用したガス
センサにおいて、 前記金属酸化物半導体には、硫酸イオン換算で、金属酸
化物半導体1gr当たり0.1〜100mgrの硫黄化
合物を添加したことを特徴とする、ハロゲン化炭化水素
ガスセンサ。 - (2)硫黄化合物の添加量を、金属酸化物半導体1gr
当たり1〜100mgrとしたことを特徴とする、請求
項1に記載のハロゲン化炭化水素ガスセンサ。 - (3)金属酸化物半導体をSnO_2としたことを特徴
とする、請求項1または2に記載のハロゲン化炭化水素
ガスセンサ。 - (4)硫黄化合物の添加量を、1〜70mgrSO_4
^2^−/grSnO_2としたことを特徴とする、請
求項3に記載のハロゲン化炭化水素ガスセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7121388A JP2645568B2 (ja) | 1988-03-24 | 1988-03-24 | ハロゲン化炭化水素ガスセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7121388A JP2645568B2 (ja) | 1988-03-24 | 1988-03-24 | ハロゲン化炭化水素ガスセンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01242951A true JPH01242951A (ja) | 1989-09-27 |
JP2645568B2 JP2645568B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=13454177
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7121388A Expired - Lifetime JP2645568B2 (ja) | 1988-03-24 | 1988-03-24 | ハロゲン化炭化水素ガスセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2645568B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020056643A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 国立大学法人九州大学 | ガスセンサ用部材、ガスセンサ、及びガスセンサ用部材の製造方法 |
-
1988
- 1988-03-24 JP JP7121388A patent/JP2645568B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020056643A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 国立大学法人九州大学 | ガスセンサ用部材、ガスセンサ、及びガスセンサ用部材の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2645568B2 (ja) | 1997-08-25 |
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