JPH01228976A - ナフトキノンメチド系化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光学記録媒体に有用なナフトキノンメチド系
化合物に関する。

（従来の技術） レーザーを用いた光学記録は、高密度の情報記録保存お
よび再生を可能とするため、近年、特にその開発がとり
すすめられている。

光学記録の一例である、光ディスクは、円形の基体に設
けられた薄い記録層に、ｌＩｊｍ程度に集束したレーザ
ー光を照射し、高密度の情報記録を行うものである。そ
の記録は、照射されたレーザー光エネルギーの吸収によ
って、その個所の記録層に、分解、蒸発、溶解等の熱的
変形を生成させることにより行われる。また、記録され
た情報の再生は、レーザー光により変形が起きている部
分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることによ
り行われる。

したがって、光学記録媒体としては、レーザー光のエネ
ルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用
する特定の波長のレーザー光に対する吸収が大きいこと
、情報の再生を正確に行うため、再生に使用する特定波
長のレーザー光に対する反射率が高いことが必要となる
。

この種の光学的記録媒体としては、種々の構成のものが
知られている。

例えば、特開昭５５−９７０３３号公報には、基板上に
フタロシアニン系色素の単層を設けたちのが開示されて
いる。しかしながらフタロシアニン系色素は感度が低く
、また分解点が高（蒸着しにくい等の問題点を有し、さ
らに有機溶媒に対する溶解性が著しく低く、塗布による
コーティングに使用することができないという問題点も
をしている。

また、特開昭５８−８３３４４号公報にはフェナレン系
色素を、特開昭５８−２２４７９３号公報にはナフトキ
ノン系色素を記録層に設けたものが開示されている。し
かし、このような色素は蒸着しやすいという利点がある
反面、反射率が低いという問題点を有している。反射率
が低いとレーザー光により記録された部分と未記録部分
との反射率の差が小さく、コントラストが充分に得られ
ないので、記録された情報の再生が困難となる。更に、
一般に有機系色素は保存安定性が劣るという問題点を有
している。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は、有機溶媒に対する溶解性が高（、塗布による
コーティングが可能で、しかも、分子吸光係数が大きい
ために記録感度に優れ、コントラストが良好で保存性に
優れている光記録用として有用なナフトキノンメチド系
化合物を提供することを目的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明は、レーザー光線によって状態変化を生ぜしめる
ことによって記録再生を行うための光学記録媒体の色素
として適した下記−殺伐［１］で表される新規なナフト
キノンメチド系化合物をその要旨とするものである。

（式中、Ｒ’、Ｒ”は低級アルキル基を表す。）−殺伐
［１］中、Ｒ１及びＲ３で表される低級アルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基等のアルキル基が挙げられ、これ
らのアルキル基は、直鎖状でも分枝状でもよい。

前記−殺伐［１コで示されるナフトキノンメチド系化合
物は、６００〜７００ｎ　ｍの波長帯域で吸収を有する
。

本発明の一般式［１コで示されるナフトキノンメチド系
化合物の一般的合成は、例えば、構造で示される化合物
をアルカリ性水溶液に溶解しておき、次に、下記−殺伐
［Ｉ［１］ （式中、Ｒ’、Ｒ”は、前記定義に同じ。）で示される
化合物を加え、加熱還流することによって得ることがで
きる。

本発明のナフトキノンメチド系化合物は、光学記録媒体
の色素として用いられるが、光学記録媒体は、基本的に
は基板とナフトキノンメチド系化合物を含む記録層とか
ら構成され、さらに必要に応じて基板上に下引き層を、
また記録層上に保護層が設けられる。

ここで用いる基板としては、使用するレーザー光に対し
て透明または不透明のいずれでもよい。基板材料の材質
としては、ガラス、プラスチック、紙、板状または箔状
の金属等、一般の記録材料支持体が挙げられるが、プラ
スチックが種々の点から好適である。プラスチックとし
ては、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、酢酸ヒニル樹
脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエチレン
樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹脂等が挙
げられる。

光学記録媒体において情報記録層として本発明のナフト
キノンメチド系化合物を使用する際、膜厚は１００人〜
５μｍ、好ましくは１０００人〜３μｍである。成膜法
としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブ
レード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法など一般に
行われている薄膜形成法で成膜することができる。また
、必要に応じてバインダーを使用することもできる。

バインダーとしては、ＰＶＡ、ＰＶＰ、ニトロセルロー
ス、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカー
ボネートなど既知のものが用いられ、樹脂のナフトキノ
ンメチド系化合物に対するｍは、１０ｖｔ％以上とする
ことが望ましい。

スピナー法により成膜する場合、回転数は５００〜５０
００ｒｐｍが好ましく、スピンコードの後、必要に応じ
て加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行ってもよ
い。また、記録体の安定性や耐光性向上のために、−単
項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例
えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフエニルジ
チオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−
α−ジケトン等）を含有していてもよい。

更に、必要に応じて他の色素を併用することができる。

他の色素としては別の種類の同系統の化合物でもよいし
、トリアリールメタン系色素、アゾ染料、シアニン系色
素、スクワリリウム系色素など他系統の色素でもよい。

ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法
、特に、スピナー法等の塗布方法により記録層を形成す
る場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエタン、ブロ
モホルム、ジブロモエタン、エチル七ロソルア、キシレ
ン、クロロベンゼン、シクロへキサノン等の沸点１２０
〜１６０゛Ｃのものが好適に使用される。

光学記録媒体の記録層は、基板の両面に設けてもよいし
、片面だけに設けてもよい。

上記の様にして得られた記録媒体への記録は、基体の両
面または、片面に設けた記録層に１μｍ程度に集束した
レーザー光、好ましくは、半導体レーザー光をあてるこ
とにより行う。レーザー光の照射された部分には、レー
ザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等の記
録層の熱的変形が起こる。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取ることにより行う。

光学記録媒体に使用されるレーザー光は、Ｎ１、Ｈｅ　
ＣＬ　Ａ　ｒｓ　Ｈｅ−Ｎ　ｅｓルビー、半導体、色素
レーザーなどがあげられるが、特に、軽量性、取り扱い
の容易さ、コンパクト性などの点から半導体レーザーが
好適である。

（実施例） 以下、実施例により、この発明を具体的に説明するが、
かかる実施例は本発明を限定するものではない。

実施例１ （ａ）製造例 下記構造式 で示される１−ナフチル−マロノニトリル３８４■（２
ｍ　ｍｏｌ）とＮ　ａｏ　Ｈ３６０ｍｇ　（９＋＊　ｍ
ａｔ）を４０ｍ１の水に溶かした溶液に、下記構造式 で示される２−アミノ−５−ジメチルアニリンチオ硫酸
９９２＋ａｇ（４ｍ　ｍｏｆ）を粉末のままゆっくりと
添加し、その後１０分間撹拌し、次に１０分間加熱還流
した後、冷却してクロロホルムで抽出した。

そして、クロロホルムを移動相としたシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより分Ｍｆｆ＆！し、シクロヘキ
サンで洗浄した後、ピリジンでＦ［晶したところ、下記
構造式で示されるナフトキノンメチド系化合物のこげ茶
色の細かい針状結晶を得た。その収率は４．２％であっ
た。

本化合物のλｗａｘ（ＣＨＣｆ５）は６５２ｎ−であり
、分子吸光係数８は５Ｘ　１０’であった。

（ｂ）記録媒体例 前記（ａ）で製造したナフトキノンメチド系化合物０．
１ｇをテトラクロロエタン１０．に溶解し、０．２２μ
ｍのフィルターで濾過して溶解液を得た。

この溶液１ｍ？をポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ
）樹脂基板（直径５２＋ｓｍ）の上に滴下し、スピナー
法により８００ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６
０℃で１０分間乾燥した。膜厚は約７００人であった。

（ｃ）光記録法 上記（ｂ）で得られた塗布膜に、中心波長６３３ｎｍの
Ｈｅ−Ｎ　ｅレーザー光を出力４ｍｌで照射したところ
、輪郭の極めて明瞭なビットが形成された。

また、この塗布膜に、中心波長６５０ｎｍの半導体レー
ザー光を出力６ｍｌで照射したところ、輪郭の極めて明
瞭なビットが形成された。

この塗布膜は６０℃、８０％ＲＨという高温高湿下での
促進テストで２０日以上安定であった。

実施例２ 下記構造式 で示されるｌ−ナフチル−マロノニトリル３８４■（４
ｔａ　ｓ＋ｏｊ）とＮ　ａｏ　Ｈ３６０■（９＋ｅ　ｇ
＋ｏＪ）を４０ｍ１の水に溶解した溶液に下記構造式 で示される２−アミノ−５−ジエチルアニリンチオ硫酸
１１０４■（４＋ｅ　ｍｏｌ）を粉末でゆっくり添加し
、次に、過硫酸アンモニウム９１２＋ａｇ（４ａ　ｍｏ
ｆ）を４０ｍ１の水に溶かしたものを滴下し、１０分間
撹拌した。

その後、クロロホルムで抽出し、さらに、クロロホルム
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より分離精製し、シクロヘキサンで洗浄した後、ベンゼ
ンで再結晶したところ、下記構造式で示されるナフトキ
ノンメチド系化合物のこげ茶色の細かい板状結晶を得た
。

その収率は１１％であった。

本化合物のλｗａｘ（ＣＨＣｆ５）は６５９ｎｍであり
、分子吸光係数８は６．１３Ｘ　１０’であった。

実施例１と同様の条件で記録媒体を作製し、同様の光記
録法でＨｅ−Ｎ　ｅレーザー光並びに半導体レーザー光
を照射したところ、いずれも輪郭の極めて明瞭なビット
が形成された。また、塗布膜についての高温高湿下の促
進テストでも、同様な安定性を示した。

実施例３ 実施例１に準じた方法により、下記の表に示したナフト
キノンメチド系化合物を合成した。

（発明の効果） 本発明の新規なナフトキノンメチド系化合物は、有機溶
媒に対する溶解性が高（、塗布によるコーティングが可
能であり、しかも、反射率が高く、コントラストが良好
であり、かつ、保存安定性に優れているので、光学記録
媒体用色素としては極めて有用なものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・［ I ］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は低級アルキル基を表す。）で
   示されるナフトキノンメチド系化合物。