JPH01227453A - ウエーハ搬送具 - Google Patents
ウエーハ搬送具Info
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- JPH01227453A JPH01227453A JP63054359A JP5435988A JPH01227453A JP H01227453 A JPH01227453 A JP H01227453A JP 63054359 A JP63054359 A JP 63054359A JP 5435988 A JP5435988 A JP 5435988A JP H01227453 A JPH01227453 A JP H01227453A
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- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[目次]
概要
産業上の利用分野
従来の技術
発明が解決しようとする問題点
問題点を解決するための手段(第1図)作用
実施例
一実施例
拡張
発明の効果
[概要]
ウェーハを保持し搬送するウェーハ搬送具に関し、
確実にウェーハを保持でき、かつ、太き(加減速し高速
搬送してもウェーハが位置ずれしたり、ウェーハが損傷
したりすることがなく、さらに、真空中でもウェーハを
確実に保持できるようにすることを目的とし、 ウェーハ搬送アームと、該ウェーハ搬送アームに固定さ
れた半導体板と、該半導体板のウェーハ搬送アー云側の
面に接する、互いに離れた2つ以上の電極と、を備えて
構成する。
搬送してもウェーハが位置ずれしたり、ウェーハが損傷
したりすることがなく、さらに、真空中でもウェーハを
確実に保持できるようにすることを目的とし、 ウェーハ搬送アームと、該ウェーハ搬送アームに固定さ
れた半導体板と、該半導体板のウェーハ搬送アー云側の
面に接する、互いに離れた2つ以上の電極と、を備えて
構成する。
[産業上の利用分野]
本発明は、ウェーハを保持し搬送するウェーハ搬送”具
iこ関する。
iこ関する。
[従来の技術]
作業時間の短縮化するために、ウェーハの高速搬送化が
強く要請されている。
強く要請されている。
従来のウェーハ搬送具は、第4図に示す如く、ウェーハ
搬送アームlの先端部に、凹状のトレイlOが設けられ
て構成されており、これにウェーハ6を載せて保持し搬
送していた。
搬送アームlの先端部に、凹状のトレイlOが設けられ
て構成されており、これにウェーハ6を載せて保持し搬
送していた。
また、他のウェーハ搬送具は、第5図に示す如く、ウェ
ーハ搬送アームlの先端部に、吸気口11.11が設け
られて構成されており、ウェーハ6を負圧吸引して保持
し搬送していた。
ーハ搬送アームlの先端部に、吸気口11.11が設け
られて構成されており、ウェーハ6を負圧吸引して保持
し搬送していた。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、第4図に示すウェーハ搬送具8は、トレイ10
の凹状部内径がウェーハ外径よりやや大きいため、高速
搬送する場合には、加減速時、ウェーハが位置ずれした
り、凹部内壁に衝突してウェーハが欠けたり、ウェーハ
がトレイから飛び出して落下することもあった。
の凹状部内径がウェーハ外径よりやや大きいため、高速
搬送する場合には、加減速時、ウェーハが位置ずれした
り、凹部内壁に衝突してウェーハが欠けたり、ウェーハ
がトレイから飛び出して落下することもあった。
また、第5図に示すウェーハ搬送具9の場合は、大気中
で使用する場合は有効であるが、真空中内では使用でき
ない。
で使用する場合は有効であるが、真空中内では使用でき
ない。
本発明の目的は、上記問題点に鑑み、ウェーハを確実に
保持でき、太き(加減速して高速搬送する場合でもウェ
ーハが位置ずれしたり、損傷したりすることがなく、か
つ、真空中でもウェーハを確実に保持、搬送できるウェ
ーハ搬送具を提供することにある。
保持でき、太き(加減速して高速搬送する場合でもウェ
ーハが位置ずれしたり、損傷したりすることがなく、か
つ、真空中でもウェーハを確実に保持、搬送できるウェ
ーハ搬送具を提供することにある。
E問題点を解決するための手段]
第1図は本発明の原理構成図である。
図中、■はウェーハ搬送アームであり、図示しない駆動
装置により移動される。
装置により移動される。
2は半導体板であり、ウェーハ搬送アームlに固定され
ている。
ている。
3.3は互いに離れた1対以上の電圧印加用電極であり
、半導体板2のウェーハ搬送アーム側の面に接している
。
、半導体板2のウェーハ搬送アーム側の面に接している
。
[作用コ
電極3.3間に電圧を印加すると、半導体板2の電極3
.3と反対面に電荷が分布する。静電誘導により、半導
体板2に接するウェーハには、該電荷と反対極性の電荷
が分布する。
.3と反対面に電荷が分布する。静電誘導により、半導
体板2に接するウェーハには、該電荷と反対極性の電荷
が分布する。
したがって、半導体板2とウェーハとの間には、ジョン
セン−ラーベック(Johnsen−rahbeck)
効果による静電吸収力が発生し、ウェーハが搬送アーム
に保持される。
セン−ラーベック(Johnsen−rahbeck)
効果による静電吸収力が発生し、ウェーハが搬送アーム
に保持される。
[実施例]
(1)−実施例
第2図は本発明の一実施例に係るウェーハ搬送具の要部
斜視図である。
斜視図である。
図中、IAはウェーハ搬送アームであり、例えばアルミ
ニウム製である。
ニウム製である。
2Aは半導体板であり、例えば比抵抗to”−”Ω”a
m、幅30m5.奥行30■、厚さ1 amのStC板
である。
m、幅30m5.奥行30■、厚さ1 amのStC板
である。
5は絶縁板であり、幅及び奥行は半導体板5と同一であ
って、ウェーハ搬送アームlaの先端上面に接着されて
いる。
って、ウェーハ搬送アームlaの先端上面に接着されて
いる。
また、3A、3Aは電極板であり、例えば幅10m5、
奥行20m−の金属膜で形成され、半導体板2Aの一側
面に無電解メツキ等の手法によってパターン形成される
。電極膜3A、3A間の距離dは、例えば5會霞である
。
奥行20m−の金属膜で形成され、半導体板2Aの一側
面に無電解メツキ等の手法によってパターン形成される
。電極膜3A、3A間の距離dは、例えば5會霞である
。
4.4は電気リード線であり、図示しない電圧供給源と
電極板3A、3A間を接続する。
電極板3A、3A間を接続する。
上記の如く構成されたウェーハ搬送具13において、電
圧供給源より電極3A、3A間に電圧を印加し、第3図
に示す如く、ウェーハ6を静電吸着して保持する。上記
具体的数値の構成で、電極板3A、3A間に直流電圧4
00■を印加し、直径6インチ、厚さ0.6amウェー
ハ6の吸着力を測定したところ、400 gr/c@”
もあった。またこのときの電流値は、数十μAしがなか
った。
圧供給源より電極3A、3A間に電圧を印加し、第3図
に示す如く、ウェーハ6を静電吸着して保持する。上記
具体的数値の構成で、電極板3A、3A間に直流電圧4
00■を印加し、直径6インチ、厚さ0.6amウェー
ハ6の吸着力を測定したところ、400 gr/c@”
もあった。またこのときの電流値は、数十μAしがなか
った。
このような半導体板の代わりに誘電体板を用いることも
考えられるが、この場合の静電吸着力は数10 g/a
m”程度しか得られず、ジョンセンラーベック効果を利
用した本実施例のものと比べると格段の差異があり、効
果が著しい。
考えられるが、この場合の静電吸着力は数10 g/a
m”程度しか得られず、ジョンセンラーベック効果を利
用した本実施例のものと比べると格段の差異があり、効
果が著しい。
(2)拡張
なお、本発明は他にも種々の変形例が含まれる。
例えば、上記実施例では搬送アームをアルミニウムで構
成した場合を説明したが、搬送アームを絶縁材料で構成
すれば、絶縁板5が不要になる。
成した場合を説明したが、搬送アームを絶縁材料で構成
すれば、絶縁板5が不要になる。
また、第5図に示す如く、ウェーハ位置決め用の円弧上
段差部を搬送アームに形成してもよい。
段差部を搬送アームに形成してもよい。
さらに、電極板に印加する電圧は吸引力の点で直流の方
が好ましいが、商用周波数程度の低周波数であれば、交
流であってもよい。
が好ましいが、商用周波数程度の低周波数であれば、交
流であってもよい。
また、電極板は2枚以上あればよく、その形状も任意で
あり、例えば円板電極と、この円板に同心で内径が該円
板の外形より大きいリング板状の電極(1枚以上)とを
用いてもよい。
あり、例えば円板電極と、この円板に同心で内径が該円
板の外形より大きいリング板状の電極(1枚以上)とを
用いてもよい。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明に係るウェーハ搬送具では
、ウェーハ搬送アームに半導体板を固定し、半導体板の
ウェーハ搬送アーム側の面に、互いに離れた2つ以上の
電極を接しており、電極間に電圧を印加すると、電極と
反対側の半導体面と、これにに接したウェーハとの間に
ジジンセンーラーベツク効果による強い静電吸引力が生
じ、したがって、確実にウェーハを保持でき、大きく加
減速し高速搬送してもウェーハが位置ずれしたりウェー
ハが損傷したりすることがないという優れた効果を奏し
、高速搬送による作業時間の短縮化に寄与するところが
大きい。
、ウェーハ搬送アームに半導体板を固定し、半導体板の
ウェーハ搬送アーム側の面に、互いに離れた2つ以上の
電極を接しており、電極間に電圧を印加すると、電極と
反対側の半導体面と、これにに接したウェーハとの間に
ジジンセンーラーベツク効果による強い静電吸引力が生
じ、したがって、確実にウェーハを保持でき、大きく加
減速し高速搬送してもウェーハが位置ずれしたりウェー
ハが損傷したりすることがないという優れた効果を奏し
、高速搬送による作業時間の短縮化に寄与するところが
大きい。
また、本発明のウェーハ搬送具は大気中のみならず真空
中であっても確実にウェーハを保持できるという優れた
効果も奏する。
中であっても確実にウェーハを保持できるという優れた
効果も奏する。
さらに、電圧印加のオン・オフにより着脱を制御できる
ので、制御装置の構成が簡単になるという優れた効果も
ある。
ので、制御装置の構成が簡単になるという優れた効果も
ある。
第1図は本発明に係るウェーハ搬送具の原理構成図
第2図は本発明に係るウェーハ搬送具の一実施例要部斜
視図、 第3図は第2図に示すつ・エーハ搬送具の使用状況を示
す要部斜視図、 第4図は及び第5図は従来のウェーハ搬送具の構成を示
す要部斜視図である。 図中、 1、IAはウェーハ搬送アーム 2.2Aは半導体板 3.3Aは電極 5は絶縁板 発明の原理後に図 一実静IIに図 第2図
視図、 第3図は第2図に示すつ・エーハ搬送具の使用状況を示
す要部斜視図、 第4図は及び第5図は従来のウェーハ搬送具の構成を示
す要部斜視図である。 図中、 1、IAはウェーハ搬送アーム 2.2Aは半導体板 3.3Aは電極 5は絶縁板 発明の原理後に図 一実静IIに図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェーハ搬送アーム(1)と、 該ウェーハ搬送アームに固定された半導体板(2)と、 該半導体板(2)のウェーハ搬送アーム側の面に接する
、互いに離れた2つ以上の電極(3)と、を有すること
を特徴とするウェーハ搬送具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63054359A JP2919837B2 (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | ウエーハ搬送具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63054359A JP2919837B2 (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | ウエーハ搬送具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01227453A true JPH01227453A (ja) | 1989-09-11 |
JP2919837B2 JP2919837B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=12968442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63054359A Expired - Fee Related JP2919837B2 (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | ウエーハ搬送具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2919837B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH043956A (ja) * | 1990-04-20 | 1992-01-08 | Fujitsu Ltd | 静電吸着装置 |
US5382803A (en) * | 1991-05-28 | 1995-01-17 | Tokyo Electron Limited | Ion injection device |
KR100316535B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2001-12-12 | 박종섭 | 웨이퍼 정전 리프팅 장치 |
WO2003028065A3 (en) * | 2001-09-24 | 2004-05-27 | Fei Co | Electrostatic manipulating apparatus |
JP2007329506A (ja) * | 2003-03-31 | 2007-12-20 | Asml Netherlands Bv | 支持構造体、リソグラフィ投影装置、およびデバイス製造方法 |
WO2012014442A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 株式会社アルバック | 基板搬送装置及び保持装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS61273441A (ja) * | 1985-05-23 | 1986-12-03 | Canon Inc | ウエハ搬送装置 |
JPS62264128A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-17 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ真空処理装置 |
JPS62277234A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-12-02 | Canon Inc | 静電チヤツク装置 |
-
1988
- 1988-03-08 JP JP63054359A patent/JP2919837B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP4625059B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2011-02-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 支持構造体、リソグラフィ投影装置、ロボットおよびデバイス製造方法 |
WO2012014442A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 株式会社アルバック | 基板搬送装置及び保持装置 |
JP5574553B2 (ja) * | 2010-07-28 | 2014-08-20 | 株式会社アルバック | 基板搬送装置及び保持装置 |
Also Published As
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---|---|
JP2919837B2 (ja) | 1999-07-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |