JPH01224926A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体の製造方法に関し、特ｋ、連続走
行する帯状の非磁性支持体上に強磁性材料を蒸着、ス・
ぐツタ等の方法を用いて磁性層を成膜する磁気記録媒体
の製造方法に関するもの〒ある。

〔従来の技術〕

従来より磁気記録媒体としては、各種の強磁性金属粉末
を有機溶剤を用いて結合剤に分散させて、所望の支持体
に塗布する塗布型の磁気記録媒体が主流である。しかし
、近年の高密度記録への要求の高まりと共Ｋ例えば真空
蒸着、ス・ぐツタリング、イオンプレーテインダ等のぺ
一／セーデポジション法などｋよる強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体が実用化されて来ている。

上記金属薄膜を記録層とする磁気記録媒体は、例工ば、
ｄｅｌ）エステルフィルム等の如くフレキシプルな非磁
性支持体を、真空槽内に配設したガイ￥ロー２や円筒状
キャン等を介して適宜案内走行させ、円筒状キャンに接
触保持された部分において非磁性支持体上に強磁性材料
を真空蒸着、スパッタするなどして製造される。このと
き、一般に非磁性支持体の原反ロール送出（側）および
巻き取りロールの駆動トルクを調達したり、搬送糸内に
設けたダンサ−ロールにより、走行中の非磁性支持体の
張力（テンション）の安定化が図られている。この張力
安定化をする理由は、真空中もしくは真空に近い雰囲気
中！は非磁性支持体と円筒状キャンとの間に空気の巻込
み現象がないため、非磁性支持体と円筒状キャンとの密
着性が高く、非磁性支持体は円筒状キャンの前後の張力
差が発生し易くなり、この張力差に基づく非磁性支持体
の伸縮運動により、該支持体ならびに支持体上の成膜に
シワや擦り傷などが生じやすいため〒あった。

これまでに、上記の如き張力安定化に関する提案が、例
えば、特開昭６１−２７８０３２号、同６ｔ−２６４５
１４号各公報などに開示されているが、理論的な解明が
正確になされておらず、特に複数の円筒状キャンを有す
る構成の場合、各円筒状キャン間の張力調整が夫々独立
１行わねばならないだｆｒなく、非磁性支持体が異なっ
た場合・・Ｋは、その都度製造設備の調整を必要とする
など製造工程上不都合が多く、又作業者の熟練度に頼る
ことが多く正確な張力調整を行うことは非常に困難〒あ
った。さらに、上記のような製造工程を経て製造される
磁気記録媒体は、円筒状キャンを用いるいるためか、磁
性膜と非磁性支持体とは内部にそれぞれ異なったひずみ
を有しているために湾曲する所謂カールが生じるので実
用上カールバランスをとる必要がある。

しかしながら、熱損傷等の回避及びカールバランスをそ
れぞれ独立に調整しても全ての点ツー良好な結果を得る
ことは極めてむずかしかった。すなわち、各種の設定条
件（ｖｔ４Ｉｍ条件）が有機的に関係し合っているため
に、例えば、熱損傷防止の為張力を強くしていくと、支
持体及び前の円筒状キャン１形成された薄膜内に比較的
大きな内部応力としてこれらの張力が複雑に貯えられ、
この結果製品は大きなカールを生じやすい状態になる。

この為、支持体及び成膜させる膜の物性が異なる毎に搬
送条件として張力を再調整する必要があった。具体的に
は、支持体の種類が異なる場合、または支持体が同じで
も成膜させる膜の材質、膜厚が異なる場合、即ちハンド
リング物が異なる毎に各張力条件を調整する必要があっ
た。

また、ある装置を用いて確立した搬送条件を他の製造装
置に持ち込むことが１きす、このため装置が異なる毎に
最適条件を探る必要があり又カールの再現性も乏しかっ
た。さらに１本発明者らの鋭意研究、開発結果、とのよ
５に独立に張力を調節した条件下〒成膜された磁性膜は
、成膜工程中における張力変化量が大きくなる結果、膜
の内部応力が部分的に変化して耐摺動性に劣る膜が形成
され、その結果、磁気記録媒体の耐久性や走行性が低下
することが判明した。

〔発明の目的〕

本発明は上記の問題に鑑みてなされたものであり、熱損
傷の発生を抑え、カールバランスが良好にとれ、かつ耐
久性に優れた成膜を保証することのマきる磁気記録媒体
の製造方法を提供することを目的とするものである。

〔発明の構成〕

本発明の上記目的は、プラスチック樹脂から成る可撓性
の支持体を、複数個の円筒状キャンに接触保持させなが
ら連続走行させ、該円筒状キャンとの各接触保持部位に
おいて支持体上に相次いで金属薄膜を真空成膜する磁気
記録媒体の製造方法において、前記円筒状キャンによっ
て区画された各支持体搬送区間の支持体の張力をヤング
率に対して下記条件式（１）及び（２）を満たすように
調節することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によ
り達成することが〒きる。

但し Ｔｉ：支持体搬送方向に順じてｉ番目の支持体搬送区間
における単位断面積轟りの 張力 Ｙｉ　：　Ｔｉが作用する支持体搬送区間における支持
体のヤング率 本発明における支持体のヤング率ηとは、成膜前におい
ては支持体固有のヤング率で示すことがｆきるが、成膜
工程中においては前工程フ成膜した薄膜層の種類及び膜
厚によってそのつど変化するもの１あり、支持体搬送区
間ととに異なるものである。

本発明における張力Ｔｉは、支持体が送り出されてから
巻取られるまｆにおいて、円筒状キャンによって区画さ
れた支持体搬送区間で送出し側から順をおってｉ番目の
搬送区間における張力（Ｔｉ）を表わしている。なお、
張力（’ｒＭ）が上記区間内のどの位置の値１あるかは
特に限定するもの１はないが、望ましくは各区間におい
て対応関係にあって、且つ成膜位置の近傍の張力がよい
。従って、シフは、支持体の搬送方向に順じてｉ番目の
支持体搬送区間における支持体の成膜位置近傍の歪みを
表わすことができる。

このことから、本発明における条件式（１）はプラスチ
ック樹脂から成る支持体の歪み量を規定した条件！ある
。すなわち、歪み量がコントロールされた支持体上に金
属薄膜層を形成することにより、薄膜層内に蓄積される
内部応力の大きさを制限してカールバランスを良好に保
つための条件〒ある。

また、条件式（２）は、支持体搬送区間の隣り合う区間
における支持体の歪みの変化量を規定した式〒ある。す
なわち、支持体の歪みの変化量をコントロールすること
により、薄膜層内に蓄積される内部応力の変化量を制御
して均一化をはかるこ−とＫよって、薄膜層の内部応力
安定化に伴う機械的強度を向上させるための条件〒ある
。

以下、図面に例示する本発明の実施態様について詳細に
説明する。

第１図においては、プラスチック樹脂から成る支持体１
０が送出機６より送り出されており、複数個の円筒状キ
ャン１，２モ１上において支持体両面側に金属薄膜な相
つい〒成膜され巻取機５にて巻き取られる一連の製造工
程を示している。この成膜工程においては、適宜張力を
前記支持体１０に加えるが、この方法としては、前記巻
取機５より巻き取り力ならびに必要に応じて前記送出機
６に反転力を付加することにより、成膜工程における基
本的な張力を決めることが１き、又、支持体搬送路の適
所に配置した複数個のダンク−ロー２Ｉｔ、１２，１５
Ｔ＃″により前記支持体１０の張力が所定の値に保たれ
るよ５に構成されている。

なお、本態様の第１図においてはス／＃ツタ法による成
膜方法を示し、複数個の成膜源２１．２２が前記円筒状
キャン１，２に対応して適所に設けられている。又、周
知のように、前記円筒状キャン１．２は成膜時に発生す
る熱から前記支持体１゜を保護すべく適宜冷姉〒きるよ
うな構成となっている。

前記ダンサ−ローラ１１，１２，１３は図示の如くそれ
ぞれ１番目、２番目、３番目の支持体搬送区間に配置さ
れており、その構造は、前記支持体１゜が適宜角度１巻
き付くロー２を有し、このローラを回転自在に保持した
各アームｌｌｂ、１２ｂ、１３ｂが支軸１１ａ、１２ａ
、１３ａを支点にして適宜揺動（図中の矢印Ａ）するこ
とにより、前記支持体１゜の弛みをなくすように動作し
て支持体張力の安定化をすることができる。又、前記各
ダンサ−ロー２１１．１２．１３には、セルフシンクロ
モータが接続されており、前記各アーム１１ｂ、１２ｂ
、１３ｂの振り角を検出することが１き、張力調整のた
めの信号を出力することが〒きる。

また、各支持体搬送区間（ｉ：１〜！＞ＩＣは各区間の
支持体張力を検出するダンサ−ロー２１１゜１２．１３
が設けられている。前記ダンサ−ロー２１１．１２，１
３はロー２支軸端部に歪計から成るセンサを設けた周知
のもの１、上記各ローラが配置された個々の位置におけ
る支持体張力を電気的に測定することが１き、搬送系の
張力が適切かどぅかも確認することが１きる。前記巻取
機５の巻き取り力は、巻き径が大きくなるのに伴って弱
くなるようＫしたテープＲテンション方式を用いること
により、前記巻取機５に巻き取られる支持体ロールの硬
巻き等を防止されている。

上記製造装置の製造工程において、支持体搬送方向に順
じて１番目の支持体搬送圧間（ｉ＝１　）における張力
Ｔ１は厳密には測定箇所により僅かに異なるが、前記ダ
ンサ−ローラ１１の位置検出による測定値で便宜的に表
わすことが！きる。又、２番目の支持体搬送区間（ｉ＝
２）における張力Ｔ２は、前記ダンサ−ローラ１１に対
応位置関係にある前記ダンサ−ローラ１２の測定値で表
わすことができる。他の支持体搬送圧間（ｉ＝３）につ
いても同様に張力を表わすことができる。

１番目の支持体搬送区間（ｉ＝１）におけるヤング率Ｙ
１は、プラスチック樹脂からなる前記支持体１０の固有
のヤング率Ｙ１″Ｔ！ある。そして、円筒状キャン１に
接触保持された部分において、前記支持体１０上に第１
の薄膜層を前記成膜源２１により形成する。次に、２番
目の支持体搬送区間（ｉ＝２　）において、前記成膜源
２２を用いて第２の薄膜層を、上記第１の薄膜層とは反
対側に形成するが、このときのヤング率Ｙ２は、前記支
持体１０のヤング率に加え前工程においてスパッタされ
た第１の薄り層のヤング率を加えた値となる。

又、３番目の支持体搬送区間（ｉ＝３）において、支持
体のヤング率Ｙ３は前工程まマに形成された２つの薄膜
層と前記支持体１０とを総合した値となる。

前記支持体１０としては、ポリエチレンプレ７タレート
、三酢酸セルロース、ポリエチレンナフタレート、ポリ
アミド、ポリイシＰなどプラスチック樹脂としてはヤン
グ率が４００〜７００　ＫＰ／ｍｘ　２程度の比較的大
きいものが望ましい。又、成膜する薄膜層としては、鉄
、コバルト、ニッケルなどの周知の強磁性金属あるいは
これらの磁性合金を成膜し、その膜厚は、磁気テープや
磁気ディスクなどの場合には、０．０５μｍ〜２μｍの
範囲フあり、好ましくは０．１μｍ〜０．４μｍがよい
。

い場合、その上限はカール量の大きさを基準属した値で
示すことが１きる。第２図は、ポリエチレンテレフタレ
ートから成る前記支持体１０の上下両面（先に成膜する
面を工面とし反対側を０面とルの状態と前記支持体１０
に生じた歪み（６１）との関係をグラフに示した。なお
、工面に成膜する支持体搬送区間と０面に成膜す−る支
持体搬送圧間いて支持体幅１００ｍ”’Ｉ’カール量が
１５關以内にら見て好ましいことを示している。

（上下両面に成膜するときの支持体の歪み（εｉ）の量
が同じ）のとき同材質の薄膜を成膜してカーＱ　　− ルｉをゼロにするには膜厚比は通常／、　−１１ｒｅは
ならない。これは、表裏両面に成膜した場合、カール量
への影響度合は最終成膜面ｆｌＩＩ（第２図では０面ｆ
ＩｉＩ）の内部応力の影響が出やすいことにより、一般
に第２図に示す如＜　％、中０．９程度の値となる。し
かし、フロッピーディスク等の如く両面の膜物性を等し
くするために、可能な限り両面の膜厚をそろえることが
好ましい場合には、をゼロにすることは可能である。

がゼａになることが理想ではあるが、現実的には不可能
であり、実際には前記支持体１０と冷却作用を有する前
記円筒状キャン１．２との密着度合（密着性）により規
定することができる。すなわち、前記支持体１０の歪み
（εｉ）を小さくするように張力（Ｔｉ）を小さくする
と、前記支持体１０と円筒状キャンとの密着性低下に伴
って、成膜源の発生する熱フ前記支持体１０が熱変形し
、伸び、キｉ ズさらには切断等の熱損傷を生じるため盾−の値の下限
はこの熱損傷を回避するために必要とする最低限度の張
力（Ｔｉ）により表わすことが１きる。

そして、研究の結果、厚味５０μｍのポリエチレンｉ テレフタレート（ＰＥＴ）の支持体の場合、盾−が＆０
Ｘ１０−４以下の場合は支持体切断が発生し。

損傷が生じ　Ｔｉが５．０Ｘ１０−４以上で熱損傷をＴ
ｉ 回避することができた。又、支持体としてポリイミド（
ＰＩ）を用いて、厚味２５＃ｍ、６０／ｊｍ、７５ｉ μｍのそれぞれの場合について、ＹＴと熱損傷との関ｉ 係について調べた結果、上記各厚味において百が２、Ｏ
Ｘ　１　ｕ−’以下ｆはほとんどの場合切断を伴う熱損
傷が生じ、＆０Ｘ１０−４の場合には、切断まで−・か
ない熱損傷がそれぞれ生じ、　４．ＯＸ　１０−’にお
〜・ては、厚味２５μｍの場合のみ僅かな熱損傷が生じ
。

５．０ＸＩＱ−４以上においてすべての場合において熱
損傷を回避することがｆきに６ Ｔｉ このようなことから熱損傷を回避受きる一省一は５、口
Ｘ　１０＝以上が好ましいことが判った。

尚、前記成膜源２１．２２から膜形成時に支持体上に供
給される単位時間当りの熱量は支持体上に形成される薄
膜の成長速度に比例する。我々は支持体上の膜成長速度
が５００から６００００　Ｘ／ｍｉｎの範囲になるよう
に蒸発源の種類と、蒸発量と、支持体との距離、キャン
周辺に位置するマスクの開口幅を設定しＬ　ａ また、キャン自体の冷却能力はその保持温度と支持体と
接触する表面の面粗さで決まる。我々が用いたキャンは
、温度を２０から２５０℃の間〒保持可能ｆあり、キャ
ンの表面はＲａ　？０．００２かＱ、９０ミクロンのも
のヲ用いた。

又、蒸発源と支持体との距離５０〜１５０瓢の範囲とな
っている。

以上のことから、カール、Ｚランスな良好に保つことが
１き、且つ支持体１０の熱損傷を回避することの１きる
総合的な条件は。

５、ＯＸ　１０−’　＜Ｔｉ今ｉ＜ｔｏｘｉｏ−’・・
・・・・（１）ｔあることが明らかとなる。

また１本発明者は鋭意研究開発の結果、隣り合う支持体
搬送区間における支持体の歪み格差（変ｉ 化）Δ−によって薄膜層の耐久性の境界値を求めＴｉ ることかできた。第６図は、隣接する支持体搬送区間の
張力変化Δ−（Ｔｉ／Ｙｉ　）と繰り返し摺動テストに
より膜に傷が生じる繰り返しノｅス数との関係を示す。

繰り返し摺動テストは、１７４吋球面ダミーヘッド、材
質；チタン酸カルシウムを用いて。

荷重ＳＯＩにて行つπ。この結果より、−７，０Ｘ１０
＝＜Δ（Ｔｉ　／Ｙｉ　）　＜　７．０Ｘ　１０−’の
範囲ｆ成膜されｋものは、１０００ノにス程度まｆキズ
カス生じｒｚいのに対しΔ（Ｔｉ／Ｙｉ）＞７．Ｏｘ１
０−’、及びΔ（Ｔｉ／Ｙｉ）＜−７，０Ｘ１０　　の
範囲では、繰り返し摺動による膜の傷つきが５００パス
以下ｆ生じ易く、この範囲の条件！成膜されたものは、
各層に複雑に内部歪が貯えられる為、密着性及び膜強度
が劣ると推定される。

の範囲にて成膜することにより、　１０００ノぐス程度
まｆ薄膜層にキズが生じることもなく耐久性に優れ。

走行性にもすぐれた膜を得ることができる。

Ｙｉは前記支持体１０及び成膜材ならびにその厚み。

温度など各条件によって各支持体搬送区間ごとに数値を
出すことが１きる。従ってここ１調整するのは張力Ｔｉ
ｆｆ１あり、フリーローラ（６１〜５４）の測定し九検
出信号により、前記送出機６の回転軸に適宜反転力（負
荷）をかけるように制御したり、前記巻取機５の巻き取
り力を調節すべく駆動系の出力を制御したり、さらに、
各支持体搬送圧間ごとの張力Ｔｉを微妙に調節すべく前
記円筒状キヤン１，２０回転力を制御すべく駆動モータ
の出力をコントロールすることにより、支持体の歪みこ
のように張力Ｔｉを制御することフ、前記支持体１０の
上下両面に形成した薄膜層内の内部応力のバランスが取
れて艮好なカールバランスを示すことが１きると共に、
各薄膜層単位ｆ見ても全体として内部応力が小さいレベ
ルｆ均一化がはかられて該薄膜層の強度向上をはかるこ
とが１き、耐久性ならびに走行性に優れた薄膜層を形成
することが１きる。

第１図に示す実施態様においては１円筒状キャンを２個
設けて支持体搬送圧間を６つにしたが。

本発明はこれに限定されるもの１はなく１円筒状キャン
をさらに多く配置して多重層の薄膜層を形成する場合！
あってもよいことは勿論ｔある。

また、上記実施態様においてはスノＲツタ法を用いて成
膜したが１本発明はこれに限定するもの１はなく１例え
ば第４図に示すように蒸着法において成膜源２１．２２
が共に円筒状キャン１，２の下方罠配設されていても支
持体１０の上下両面に成膜することができる。又、イオ
ンプレーテング法、ＣＶＤ法等を用いることもフきる。

（発明の効果） 以上述べたように１本発明の如く成膜工程において、上
記条件式（１１と（２）を満足するように支持体張力を
調整することにより、冷却機能を有する円筒状キャンに
対して支持体の冷却に好ましい接触を保証し、また安定
した張力１走行させた支持体上に磁性金属の薄膜層を形
成フきるの１．支持体の熱損傷を防止し、薄膜層内に蓄
積される内部応力を小さくかつ安定に保つことができる
と共に。

薄膜層間における内部応力の格差を小さくすることが〒
きてカールバランスを極めて良好に保つことがｔきる。

又、各支持体搬送区間における張力格差を小さくするこ
とにより、成膜中ならびに走行中の支持体の歪みが太き
（ならないのｆ、この歪みに起因する支持体変形（シワ
）や薄膜層の傷の発生を抑えることがフきる。従って、
ドロップアウト等が少な（、耐久性、走行性に優れた薄
膜層を有する磁気記録媒体を提供することが）きる。

さらに、本発明は支持体張力の調整範囲を数値的ＫＥ！
Ａ確に表わしたことにより特定の製造装置だ！Ｉｆ″Ｉ
％なく、支持体を走行させながら円筒状キャン上で成膜
するような装置フあれば極めて容易に広く適用すること
が１きる。

以下、本発明をさらＫＢＡ確にするために実施例を用い
て説明する。

〔実　流側〕

（実施例−１） 非磁性支持体としてポリエチレンテレフタレー）（ＰＥ
Ｔ）フィルム５０μ鳳の上に製造装置としては第１図に
示す製造装置において支持体搬送区間を３区画（円筒状
キャンが２個）の場合の装置を用いノーマロイ（ＦｅＮ
ｉ　）をそれぞれ０．５μｍｉ’両面に連続して成膜し
た。各段階における支持体ヤング率および支持体と金楓
薄膜とを加えたヤング率は第４表に示すとおりに変化す
る。

なお、成膜速度は５００Ａ／ｍｉｎ、２０，０ＯＯＡ／
ｍｉｎ。

６０．０ＯＯＡ／ｍｉ　ｎの夫々の場合〒、円筒状キャ
ンの冷却能力はキャン表面の表面粗さＲａが０．０９０
μｍ。

温度が２５００の条件下において、本発明の条件式（１
１、（２）を満たすように各支持体搬送区間の張力（Ｔ
ｉ）を調整して磁気記録媒体の製造を行った。その結果
を第１表〜第３表に示すが、第１表〜第３表において、
張力（Ｔｉ　）を意図的に変えた数値は括弧内に示す。

なお、第１表〜第６表におけるサンプルＮ１１１９〜３
６については後述する実施例−２の結果を示す。従って
、サンプル宛１〜％５まフは第１支持体搬送区間の張力
（Ｔ１）を変化させた場合、サンプルＮｎ７〜Ｎ１１１
は第２支持体搬送区間の張力（Ｔ２）を変化させた場合
、サンプル宛１３〜Ｎ１１１７は第３支持体搬送区間の
張力（Ｔ３）を変えた場合における成膜状態を観察した
。なお、表中の括弧１くくらない数値は、本発明の条件
式（２）を満足するように括弧内の数値設定に基づいて
自動的に駆動系が制御されて設定される値フあり、０と
なるように設定したもの１、Ｔ、中０．７５Ｔ２゜Ｔ２
中０．８ＢＴ、となるような関係となっている。

又、サンプル−６は第１支持体搬送区間と第２サンプル
宛１２は全ての区間の間において条件式（２）を満足し
ない場合１あり、サンプル隘１８は第２支持体搬送区間
と第６支持体搬送区間との間において条件式（２）を満
足しない場合を示す。

第１表〜第６表における評価は、外観検査による総合評
価１あり、支持体の熱損傷に起因したと思われるキズ、
シワ、カールや、張力変化に起因したと思われるキズ、
シワ、カールを総合的に観察したもの１あり、○印は良
フあることを示し、Δ印は実用的に許容範囲自重あるこ
とを示し、ｘ印は不良を示すもの１ある。

第１表〜第３表において、サンプルｆ’ｈ　１．ｌ’ｈ
　７　ｔＮｌｌＬ１３においては各張力（Ｔ　）、（Ｔ
、）、（Ｔ、）が小さすぎて条件式（１）を満足しない
ためｋ、熱損傷に伴うものと思われるキズやシワが多く
生じた。サンプルＮ［１５にあっては張力（Ｔ、）が大
きいことに起因したと思われるカール量の増大が認めら
れ、サンプルｆｌ＆ｔｌｌにおいては張力（Ｔ　）及び
（Ｔ、）が大きすぎるためるためにカール量の増大が顕
著に現われ、サンプルＮａ１７に至っては張力　（Ｔ、
）。

（Ｔ２）及び（Ｔ６）の全て条件式（１）の範凹からは
大き過ぎるためカール蓋が大きいだけ１なく、歪み（＝
、）増大に伴ったシワ、キズなどが多く見られた。

サンプルＮａ６　、ｌ　２．１８においては条件式（１
）は満足するもの１あるが、上記の如く条件式（２）を
満足しないもの１あって、歪み（εｉ）の格差が大きい
ために薄膜層に内部応力が存在しているために、その後
の摺動テスト（第３図に示す）により他のものに比べて
耐久性が低いことが判った。

その他のＯ印あるいはへ印１示したサンプルについては
本発明の条件式（１）を充分満足するもの！あった。

第４表 （実施例−２） 非磁性支持体としてポリイミド（ＰＩ）を用い他の条件
は実施例−１と四じ条件フ成膜して磁気記録媒体を製造
し７Ｌ　、。

なお、支持体のヤング率および支持体プラス金属薄膜の
ヤング率は第５表に示″′ｆ′。

第５表 第１表〜第６表の隘１９〜６６に実施例１と同様に張力
（Ｔｉ）を適宜変化させた結果を示す。

この結果ρ・らも明らかなように１本発明の条件式（１
）、　（２）を共に満足する製造条件において高品質の
磁気記録媒体を得ることがｆきに０

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法を適用した装置の成膜工程を
示した概略図、第２図は支持体両面に成膜した膜厚比と
カール量との関係を示すグラフ、第６図は隣接する支持
体搬送区間における命本格差と繰り返し摺動テストによ
って形成膜にキズが生じＹｙ　７ξス数との関係を示し
たグラフ、第４図は本発明の製造方法を真空蒸着装置に
適用した場合の工程概略図１ある。 １．２・・・円筒状ドラム。 ５・・・巻取機、　　　　　６・・・送出機。 １０・・・支持体、　　　１１，１２．１３・・・ダン
サ−ローラ。 １１ａ、１２ａ、１６ａ・・・支軸。 １１ｂ、１２ｂ、１ａｂ・・・アーム。 ２１．２２・・・成膜源。 ６１．３２．３３．．５４・・・フリーローラ、第１図 第２図 箔３図 手続補正型 特３Ｔ庁Ｂ；宮　殿　　　　　　　　昭和６３年１０月
　４日１、　事件の表示 昭和６３年特許願第４９８１０号 ２、　発明の名称 磁気記録媒体の５！造方法 ３、　補正をする者 事例との関係：特許出願人 名称　　（５２０）“ｆ：ｉｔ写真ノイルム株式会社４
、代理人 住所　〒１００　東京都千代田区霞が関３丁目２番５号
　需が閏ビル２９階霞が関ビル内郵便局私内箱第４９号 ５、　補正命令の日付：　　（自　発）６、　補正によ
り増加する請求項の数二　〇７、　補正の対象：　明細
書の「発明の詳細な説明」の欄手続補正層 平成　１年　３月２日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 プラスチック樹脂から成る可撓性の支持体を、複数個の
   円筒状キヤンに接触保持させながら連続走行させ、該円
   筒状キヤンとの各接触保持部位において支持体上に相次
   いで金属薄膜を真空成膜する磁気記録媒体の製造方法に
   おいて、前記円筒状キヤンによつて区画された各支持体
   搬送区間の支持体の張力をヤング率に対して下記条件式
   （１）及び（２）を満たすように調節することを特徴と
   する磁気記録媒体の製造方法。 （１）５．０×１０＾−＾４＜Ｔ＿ｉ／Ｙ＿ｉ＜３．０
   ×１０＾−＾３ （２）−７．０×１０＾−＾４＜Δ（Ｔ＿ｉ／Ｙ＿ｉ）
   ＜７．０×１０＾−＾４但しΔ（Ｔ＿ｉ／Ｙ＿ｉ）＝（
   Ｔ＿ｉ／Ｙ＿ｉ）−（Ｔ＿ｉ＿−＿１／Ｙ＿ｉ＿−＿１
   ）Ｔ＿ｉ：支持体搬送方向に順じてｉ番目の支持体搬送
   区間における単位断面積当りの張力 Ｙ＿ｉ：Ｔ＿ｉが作用する支持体搬送区間における支持
   体のヤング率