JPH03225623A - 垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置 - Google Patents
垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置Info
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- JPH03225623A JPH03225623A JP2100390A JP2100390A JPH03225623A JP H03225623 A JPH03225623 A JP H03225623A JP 2100390 A JP2100390 A JP 2100390A JP 2100390 A JP2100390 A JP 2100390A JP H03225623 A JPH03225623 A JP H03225623A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 48
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 39
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 52
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 abstract description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- IUWCPXJTIPQGTE-UHFFFAOYSA-N chromium cobalt Chemical compound [Cr].[Co].[Co].[Co] IUWCPXJTIPQGTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ6発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は、複数の組成の材料を積層して形成する垂直磁
気記録媒体を、スパッタにより積層し形成する垂直磁気
記録媒体の製造方法並びにその装置に関する。
気記録媒体を、スパッタにより積層し形成する垂直磁気
記録媒体の製造方法並びにその装置に関する。
従来の磁気記録媒体は磁気記録用磁性粉を有機媒体と混
合し、有機フィルム上に薄く塗布し作られていたが、最
近、磁気記録の高密度化をはかるため、磁性層が磁性材
のみによって形成されるいわゆる連続磁気記録媒体の研
究が盛んに行われている。
合し、有機フィルム上に薄く塗布し作られていたが、最
近、磁気記録の高密度化をはかるため、磁性層が磁性材
のみによって形成されるいわゆる連続磁気記録媒体の研
究が盛んに行われている。
真空蒸着法、スパッタ法、あるいはメツキ法によって作
製される連続磁気記録媒体は、磁性層が連続薄膜である
ため磁気記録の方向が磁気ヘッドの移動方向に沿って磁
気記録を行う長手記録方式はもちろんのこと、磁気記録
層の厚さ方向に磁気記録を行う垂直磁気記録方式におい
ても高い記録密度が期待されており、連続磁気記録媒体
を用いた垂直磁気記録は、各種磁気テープ、あるいは磁
気ディスク等の様々な製品形態への応用開発が進められ
ている。
製される連続磁気記録媒体は、磁性層が連続薄膜である
ため磁気記録の方向が磁気ヘッドの移動方向に沿って磁
気記録を行う長手記録方式はもちろんのこと、磁気記録
層の厚さ方向に磁気記録を行う垂直磁気記録方式におい
ても高い記録密度が期待されており、連続磁気記録媒体
を用いた垂直磁気記録は、各種磁気テープ、あるいは磁
気ディスク等の様々な製品形態への応用開発が進められ
ている。
第6図の断面図で示す垂直磁気記録方式に用いる垂直磁
気記録媒体は、現在樹脂から成るフィルム1等の非磁性
の基板上に、記録再生感度を向上させる役目をする78
パーマロイからなる軟磁性層2を厚さ約0.5μmに形
成し、その上に膜面に対して垂直に磁化する、通常クロ
ム(Cr)を重量比で18.5%含有するクロム・コバ
ルト(Cr−Co)合金からなる画室磁化層3を厚さ約
0.2μ■に、更に磁性層を保護するため二酸化硅素(
Sin2)又は炭素(C)等から成る保護層4を厚さ約
200オングストロームに積層したものである。垂直磁
気記録方式により磁気記録再生を行う時、単位長さ当た
りの記録密度が高いため、磁気記録媒体は湾曲が大きい
と磁気記録再生を行う時に磁気ヘッドと磁気記録媒体と
の空隙が大きくなり、記録再生特性が劣化する。湾曲の
大きい記録媒体の磁気記録再生の時には、磁気ヘッドの
押し込み量を大きくして対策しているが、磁気ヘッドへ
の荷重が大きくなるため、磁気ヘッド、及び磁気記録媒
体の磨耗に対する耐久性が悪化する。垂直磁気記録媒体
の湾曲は、磁気ディスクを形成するフィルム、軟磁性層
、垂直磁化層、保護層の各層の内部応力が釣り合ったと
ころで湾曲の大きさが決まっている。バッチ式スパッタ
装置を用いた垂直磁気記録媒体(以下媒体と称す)の作
製では、各層の内部応力を、フィルム1に加わる張力、
スパッタ装置への入力電力、及びアルゴンガス圧力を調
整することによって制御し、湾曲の大きさを11111
以下にしている。湾曲の大きさは媒体を直径が3.5イ
ンチの磁気ディスクに加工し、磁気ディスクを定盤の上
に置いた時の反りの高さで定義している。現在、垂直磁
気記録媒体の3.5インチ磁気ディスクの従来の量産用
の製造装置を第7図に概略図で示す。即ち真空槽5内に
おいて、送り出しロール6に巻かれた長尺のフィルム1
は、ガイドロール7を経て巻取りロール8に巻かれるよ
うに構成されている。送り出しロール側と巻取りロール
間の2つのガイドロール7の間には、送り出しロール6
に近いほうから第6図に示す垂直磁気記録媒体を形成す
る軟磁性層2、垂直磁化層3、保護層4に対応して同じ
材料の軟磁性層用ターゲット9、垂直磁化層用ターゲッ
ト10、保護層用ターゲット11が配列され、フィルム
1を介して各ターゲットに対向して基板ホルダー12が
夫々設けられスパッタ装置が配置されている。各層を形
成する時のフィルム1に加わる張力は、押し込みリング
13をフィルム1を挟み込んで基板ホルダー12に押し
込むことによって設定される。媒体を作製する時にはフ
ィルム1を停止し、押し込みリング13によりフィルム
1を押し込み、基板ホルダー12に固定する。次に真空
槽5の壁面に取り付けである真空計14の指示が軟磁性
層2を形成する圧力に達するまで、バルブ16を調整し
てアルゴンガスボンベ18からアルゴンガスを真空槽5
内に導入する。軟磁性層用ターゲット9に電力を入れ、
フィルム1上に一軟磁性層2を形成した後スパッタを停
止し、押し込みリング13を戻す。フィルム1を搬送し
て軟磁性層2が垂直磁化層用ターゲット10の前面まで
移動した時に停止する。軟磁性層2を形成した時と同様
にして軟磁性層2の上に垂直磁化層3を形成し、更に同
様な手順により保護層4を形成する。
気記録媒体は、現在樹脂から成るフィルム1等の非磁性
の基板上に、記録再生感度を向上させる役目をする78
パーマロイからなる軟磁性層2を厚さ約0.5μmに形
成し、その上に膜面に対して垂直に磁化する、通常クロ
ム(Cr)を重量比で18.5%含有するクロム・コバ
ルト(Cr−Co)合金からなる画室磁化層3を厚さ約
0.2μ■に、更に磁性層を保護するため二酸化硅素(
Sin2)又は炭素(C)等から成る保護層4を厚さ約
200オングストロームに積層したものである。垂直磁
気記録方式により磁気記録再生を行う時、単位長さ当た
りの記録密度が高いため、磁気記録媒体は湾曲が大きい
と磁気記録再生を行う時に磁気ヘッドと磁気記録媒体と
の空隙が大きくなり、記録再生特性が劣化する。湾曲の
大きい記録媒体の磁気記録再生の時には、磁気ヘッドの
押し込み量を大きくして対策しているが、磁気ヘッドへ
の荷重が大きくなるため、磁気ヘッド、及び磁気記録媒
体の磨耗に対する耐久性が悪化する。垂直磁気記録媒体
の湾曲は、磁気ディスクを形成するフィルム、軟磁性層
、垂直磁化層、保護層の各層の内部応力が釣り合ったと
ころで湾曲の大きさが決まっている。バッチ式スパッタ
装置を用いた垂直磁気記録媒体(以下媒体と称す)の作
製では、各層の内部応力を、フィルム1に加わる張力、
スパッタ装置への入力電力、及びアルゴンガス圧力を調
整することによって制御し、湾曲の大きさを11111
以下にしている。湾曲の大きさは媒体を直径が3.5イ
ンチの磁気ディスクに加工し、磁気ディスクを定盤の上
に置いた時の反りの高さで定義している。現在、垂直磁
気記録媒体の3.5インチ磁気ディスクの従来の量産用
の製造装置を第7図に概略図で示す。即ち真空槽5内に
おいて、送り出しロール6に巻かれた長尺のフィルム1
は、ガイドロール7を経て巻取りロール8に巻かれるよ
うに構成されている。送り出しロール側と巻取りロール
間の2つのガイドロール7の間には、送り出しロール6
に近いほうから第6図に示す垂直磁気記録媒体を形成す
る軟磁性層2、垂直磁化層3、保護層4に対応して同じ
材料の軟磁性層用ターゲット9、垂直磁化層用ターゲッ
ト10、保護層用ターゲット11が配列され、フィルム
1を介して各ターゲットに対向して基板ホルダー12が
夫々設けられスパッタ装置が配置されている。各層を形
成する時のフィルム1に加わる張力は、押し込みリング
13をフィルム1を挟み込んで基板ホルダー12に押し
込むことによって設定される。媒体を作製する時にはフ
ィルム1を停止し、押し込みリング13によりフィルム
1を押し込み、基板ホルダー12に固定する。次に真空
槽5の壁面に取り付けである真空計14の指示が軟磁性
層2を形成する圧力に達するまで、バルブ16を調整し
てアルゴンガスボンベ18からアルゴンガスを真空槽5
内に導入する。軟磁性層用ターゲット9に電力を入れ、
フィルム1上に一軟磁性層2を形成した後スパッタを停
止し、押し込みリング13を戻す。フィルム1を搬送し
て軟磁性層2が垂直磁化層用ターゲット10の前面まで
移動した時に停止する。軟磁性層2を形成した時と同様
にして軟磁性層2の上に垂直磁化層3を形成し、更に同
様な手順により保護層4を形成する。
以上のように、フィルム1の搬送と停止を繰り返し、停
止した時に張力、投入電力、アルゴンガス圧力を調整し
てスパッタを行い、各層を積層して垂直磁気記録媒体を
作製している。スパッタを行う時には、張力、投入電力
、アルゴンガス圧力をバッチ式スパッタ装置で湾曲の大
きさが前記の1m−以下の媒体が作製できた条件と同様
に設定して垂直磁気記録媒体を作製していた。しかし、
第7図に示す量産用の製造方法、並びに製造装置で作製
した垂直磁気記録媒体は湾曲の大きさが41■以上であ
るという問題が起こった。
止した時に張力、投入電力、アルゴンガス圧力を調整し
てスパッタを行い、各層を積層して垂直磁気記録媒体を
作製している。スパッタを行う時には、張力、投入電力
、アルゴンガス圧力をバッチ式スパッタ装置で湾曲の大
きさが前記の1m−以下の媒体が作製できた条件と同様
に設定して垂直磁気記録媒体を作製していた。しかし、
第7図に示す量産用の製造方法、並びに製造装置で作製
した垂直磁気記録媒体は湾曲の大きさが41■以上であ
るという問題が起こった。
本発明者らは、この原因を調査するため、軟磁性層用タ
ーゲット9、垂直磁化層用ターゲット10、保護層用タ
ーゲット11の近傍のアルゴンガス圧力を評価した。
ーゲット9、垂直磁化層用ターゲット10、保護層用タ
ーゲット11の近傍のアルゴンガス圧力を評価した。
第3図に示すように各層のスパッタ装置にはスパッタさ
れる各層の形成材が広く飛散しないように防着板23が
設けであるが、第4図に示すように各層のスパッタ装置
の側面に真空計19a、 19b、 19cを設置して
、従来の第7図に示す真空槽壁面に取り付けた真空計1
4が示す圧力の値と量産時の圧力とを比較したところ、
第5図のように各ターゲット近傍のアルゴンガス圧力と
真空計14の指示した圧力が全く異なった値であること
が分かった。従つて、従来の量産用の垂直磁気記録媒体
の製造方法並びにその装置で作製した垂直磁気記録媒体
を用いたディスクのの湾曲が4間層以上になった原因は
、バッチ式スパッタ装置で湾曲の大きさがl■醜以下の
媒体が作製出来たアルゴンガス圧力と異なった圧力でス
パッタしていたことにあった。第4図においては図示し
ていないが、軟磁性層用ターゲット9、垂直磁化層用タ
ーゲット10、保護層用ターゲット11の周りには夫々
押し込みリング13.及びこれを駆動させる機構が設置
されており、これらに膜が付着することを防ぐために軟
磁性層用ターゲット9、垂直磁化層用ターゲット10、
保護層用ターゲット11とフィルム1の間に筒形の防着
板23が取り付けられており、真空槽5の内部は場所に
よってアルゴンガスが流れるコンダクタンスが異なって
いるため、夫々のターゲットの近傍と真空槽壁面の真空
計14の圧力が異なった値を示すものと考えられた。
れる各層の形成材が広く飛散しないように防着板23が
設けであるが、第4図に示すように各層のスパッタ装置
の側面に真空計19a、 19b、 19cを設置して
、従来の第7図に示す真空槽壁面に取り付けた真空計1
4が示す圧力の値と量産時の圧力とを比較したところ、
第5図のように各ターゲット近傍のアルゴンガス圧力と
真空計14の指示した圧力が全く異なった値であること
が分かった。従つて、従来の量産用の垂直磁気記録媒体
の製造方法並びにその装置で作製した垂直磁気記録媒体
を用いたディスクのの湾曲が4間層以上になった原因は
、バッチ式スパッタ装置で湾曲の大きさがl■醜以下の
媒体が作製出来たアルゴンガス圧力と異なった圧力でス
パッタしていたことにあった。第4図においては図示し
ていないが、軟磁性層用ターゲット9、垂直磁化層用タ
ーゲット10、保護層用ターゲット11の周りには夫々
押し込みリング13.及びこれを駆動させる機構が設置
されており、これらに膜が付着することを防ぐために軟
磁性層用ターゲット9、垂直磁化層用ターゲット10、
保護層用ターゲット11とフィルム1の間に筒形の防着
板23が取り付けられており、真空槽5の内部は場所に
よってアルゴンガスが流れるコンダクタンスが異なって
いるため、夫々のターゲットの近傍と真空槽壁面の真空
計14の圧力が異なった値を示すものと考えられた。
本発明は、同一の真空層内で、スパッタによす複数の積
層多層膜から成る垂直磁気記録媒体の製造方法並びにそ
の装置において、湾曲の少ない磁気ディスクを得るのに
、磁気ディスクの磁気記録媒体の各層のスパッタを行う
のに、スパッタ膜を形成する近傍のアルゴンガス圧力を
各層毎に夫々別個に制御して湾曲の少ない磁気ディスク
を得るための垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装
置を提供することを目的とする。
層多層膜から成る垂直磁気記録媒体の製造方法並びにそ
の装置において、湾曲の少ない磁気ディスクを得るのに
、磁気ディスクの磁気記録媒体の各層のスパッタを行う
のに、スパッタ膜を形成する近傍のアルゴンガス圧力を
各層毎に夫々別個に制御して湾曲の少ない磁気ディスク
を得るための垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装
置を提供することを目的とする。
口0発明の構成
〔課題を解決するための手段〕
本発明は湾曲の小さい磁気記録ディスクを得るよう前記
課題を解決するために軟磁性層用ターゲット、垂直磁化
層用ターゲット、保護層用ターゲットの近傍においてア
ルゴンガスの圧力制御を行う垂直磁気記録媒体の製造方
法並びにその装置を構成した。以下にその構成を述べる
。
課題を解決するために軟磁性層用ターゲット、垂直磁化
層用ターゲット、保護層用ターゲットの近傍においてア
ルゴンガスの圧力制御を行う垂直磁気記録媒体の製造方
法並びにその装置を構成した。以下にその構成を述べる
。
(1)圧力検出
軟磁性層用ターゲット、垂直磁化層用ターゲット、保護
層用ターゲットの近傍のアルゴンガス圧力を検出するた
めに筒状の防着板の内側に夫々のターゲット毎に真空計
を設置した。
層用ターゲットの近傍のアルゴンガス圧力を検出するた
めに筒状の防着板の内側に夫々のターゲット毎に真空計
を設置した。
(2)アルボガス導入
軟磁性層用ターゲット、垂直磁化層用ターゲット、保護
層用ターゲットにアルゴンガスを供給するため、それぞ
れの防着板にスパッタガス導入口を設置した。
層用ターゲットにアルゴンガスを供給するため、それぞ
れの防着板にスパッタガス導入口を設置した。
(3)圧力制御
各スパッタ面の圧力を正確に制御するために、夫々のス
パッタガス導入口に流量制御バルブを設け、又それぞれ
の流量制御バルブに自動圧力制御装置を取り付けた。
パッタガス導入口に流量制御バルブを設け、又それぞれ
の流量制御バルブに自動圧力制御装置を取り付けた。
自動圧力制御装置は真空計からの情報によって夫々制御
するよう構成した。
するよう構成した。
即ち本発明は、
1、同一真空槽内に複数の組成の異なるターゲットを配
列し、基板のフィルムを移動させつつスパッタ法を用い
て前記フィルム上に磁気記録媒体用薄膜を積層する磁気
記録媒体の製造方法において、前記ターゲット近傍の各
々に真空計とスパッタガス導入口を設置し、自動圧力制
御装置を具備した流量制御バルブを前記各スパッタガス
導入口に設置して、前記複数の組成の異なる各ターゲッ
ト近傍の真空計が示すスパッタガス圧力を自動圧力制御
装置を具備した流量制御バルブより夫々制御しながらス
パッタを行い、フィルム上に磁気記録媒体を積層するこ
とを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法である。
列し、基板のフィルムを移動させつつスパッタ法を用い
て前記フィルム上に磁気記録媒体用薄膜を積層する磁気
記録媒体の製造方法において、前記ターゲット近傍の各
々に真空計とスパッタガス導入口を設置し、自動圧力制
御装置を具備した流量制御バルブを前記各スパッタガス
導入口に設置して、前記複数の組成の異なる各ターゲッ
ト近傍の真空計が示すスパッタガス圧力を自動圧力制御
装置を具備した流量制御バルブより夫々制御しながらス
パッタを行い、フィルム上に磁気記録媒体を積層するこ
とを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法である。
2、同一真空槽内に複数の組成の異なるターゲットを配
列し、基板を移動させつつスパッタ法を用いて前記基板
上に磁気記録媒体用薄膜を積層する磁気記録媒体の製造
装置において、各ターゲットと基板となるフィルムの間
を包む防着板内部に、各ターゲット毎に真空計とスパッ
タガス導入口を設け、自動圧力制御装置を具備した流量
制御バルブを前記スパッタガス導入口に取り付け、自動
圧力制御装置は夫々の真空計による圧力により制御され
るように構成したことを特徴とする垂直磁気記録媒体の
製造装置である。
列し、基板を移動させつつスパッタ法を用いて前記基板
上に磁気記録媒体用薄膜を積層する磁気記録媒体の製造
装置において、各ターゲットと基板となるフィルムの間
を包む防着板内部に、各ターゲット毎に真空計とスパッ
タガス導入口を設け、自動圧力制御装置を具備した流量
制御バルブを前記スパッタガス導入口に取り付け、自動
圧力制御装置は夫々の真空計による圧力により制御され
るように構成したことを特徴とする垂直磁気記録媒体の
製造装置である。
真空計が夫々軟磁性層用ターゲット、垂直磁化層用ター
ゲット、保護層用ターゲット近傍の圧力を検出すると自
動圧力制御装置は真空槽5内の圧力が自動圧力制御装置
に設定した圧力に達するまで、流量制御バルブを制御す
る。スパッタガス導入口から設定圧力に比例した流量の
アルゴンガスが防着板内に導入されるので、正確なアル
ゴンガスの圧力でスパッタを行うことができる。
ゲット、保護層用ターゲット近傍の圧力を検出すると自
動圧力制御装置は真空槽5内の圧力が自動圧力制御装置
に設定した圧力に達するまで、流量制御バルブを制御す
る。スパッタガス導入口から設定圧力に比例した流量の
アルゴンガスが防着板内に導入されるので、正確なアル
ゴンガスの圧力でスパッタを行うことができる。
第1図は本発明による量産用スパッタ装置であり、軟磁
性層用ターゲット9、垂直磁化層用ターゲット10、保
護層用ターゲット11の近傍のアルゴンガス圧力を検出
するために筒状の防着板23の内側に夫々のターゲット
毎に真空計19a、 19b、 19cを設置し、アル
ゴンガス導入のため夫々のターゲットとフィルムとの間
の防着板23内にスパッタガス導入口20a、 20b
、 20cを設置し、アルゴンガス圧力を各ターゲット
毎に正確に制御するために、夫々のスパッタガス導入口
20a、 20b、 20cに流量制御バルブ21a、
21b、 21cを設け、夫々の流量制御バルブに自
動圧力制御装置22a、 22b、 22cを取り付け
た。自動圧力制御装置22a、 22b、22cは真空
計19a、 19b、 19cによって夫々制御するさ
れ、従って真空計の設定圧力により流量制御バルブが開
閉される構成されている。
性層用ターゲット9、垂直磁化層用ターゲット10、保
護層用ターゲット11の近傍のアルゴンガス圧力を検出
するために筒状の防着板23の内側に夫々のターゲット
毎に真空計19a、 19b、 19cを設置し、アル
ゴンガス導入のため夫々のターゲットとフィルムとの間
の防着板23内にスパッタガス導入口20a、 20b
、 20cを設置し、アルゴンガス圧力を各ターゲット
毎に正確に制御するために、夫々のスパッタガス導入口
20a、 20b、 20cに流量制御バルブ21a、
21b、 21cを設け、夫々の流量制御バルブに自
動圧力制御装置22a、 22b、 22cを取り付け
た。自動圧力制御装置22a、 22b、22cは真空
計19a、 19b、 19cによって夫々制御するさ
れ、従って真空計の設定圧力により流量制御バルブが開
閉される構成されている。
(実施例1)
第1図に示す本発明による量産用スパッタ装置により第
1表の作製条件に基づいて垂直磁気記録媒体による3、
5インチ磁気ディスクを20枚作製した。
1表の作製条件に基づいて垂直磁気記録媒体による3、
5インチ磁気ディスクを20枚作製した。
(比較例1)
従来の技術であるバッチ式スパッタ装置で第1表に基づ
く垂直磁気記録媒体による3、5インチ磁気ディスクを
20枚作製した。
く垂直磁気記録媒体による3、5インチ磁気ディスクを
20枚作製した。
(比較例2)
第7図に示す従来の量産用スパッタ装置で第1表に基づ
いて垂直磁気記録媒体による3、5インチ磁気ディスク
を20枚作製した。
いて垂直磁気記録媒体による3、5インチ磁気ディスク
を20枚作製した。
第2図に実施例、及び比較例1、比較例2により作製し
た垂直磁気記録媒体を用いた3、5インチ磁気ディスク
の湾曲の大きさの平均値を示す。従来の量産用スパッタ
装置で作製した垂直磁気記録媒体を用いた磁気ディスク
のの湾曲の大きさは41■以上であったが、本発明によ
る垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置による磁
気ディスクは湾曲の値は1ml以下になり、バッチ式ス
パッタ装置で作製した垂直磁気記録媒体と同程度の磁気
ディスクが作製できるようになった。
た垂直磁気記録媒体を用いた3、5インチ磁気ディスク
の湾曲の大きさの平均値を示す。従来の量産用スパッタ
装置で作製した垂直磁気記録媒体を用いた磁気ディスク
のの湾曲の大きさは41■以上であったが、本発明によ
る垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置による磁
気ディスクは湾曲の値は1ml以下になり、バッチ式ス
パッタ装置で作製した垂直磁気記録媒体と同程度の磁気
ディスクが作製できるようになった。
第1表
ハ9発明の効果
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明により湾曲の大きさが1■以
下である垂直磁気記録媒体をによる磁気ディスク製造す
る方法並びにその装置が提供できるようになった。
下である垂直磁気記録媒体をによる磁気ディスク製造す
る方法並びにその装置が提供できるようになった。
尚、本発明は磁気記録媒体に限らず、基板上に薄膜を積
層する他の製造装置においても同様な効果が得られるこ
とは当然であり、本発明の実施のみに限定されるもので
はない。
層する他の製造装置においても同様な効果が得られるこ
とは当然であり、本発明の実施のみに限定されるもので
はない。
第1図は、本発明による量産用垂直磁気記録媒体の製造
方法並びにその装置の概略図。 第2図は、バッチ式スパッタ装置、従来、及び本発明に
よる垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置で作製
した磁気ディスクの湾曲の大きさを示す特性図。 第3図は、本発明の垂直磁気記録媒体の製造装置の一部
を示す図で、各ターゲットとフィルムの間の防着板内に
スパッタ導入口を配置した断面図。 第4図は、本発明の垂直磁気記録媒体の製造装置の一部
を示す図で、防着板の内側に真空計を設置した正面図。 第5図は、従来の真空槽壁面に取り付けた真空計のアル
ゴンガス圧力と従来の量産用装置における各ターゲット
近傍のアルゴンガス圧力を比較した特性図。 第6図は、垂直磁気記録媒体の断面図。 第7図は、従来の垂直磁気記録媒体の量産用製造装置の
概略図。 1・・・フィルム、2・・・軟磁性層、3・・・垂直磁
化層、4・・・保護層、5・・・真空槽、6・・・送り
出しロール、7・・・ガイドロール、8・・・巻取りロ
ール、9・・・軟磁性層用ターゲット、10・・・垂直
磁化層用ターゲット、11・・・保護層用ターゲット、
12・・・基板ホルダー、13・・・押し込みリング、
16・・・バルブ、17・・・排気口、18・・・アル
ゴンガスボンベ、 14,19a、19b、19c・・
・真空計、20a、 20b、 20c・・・スパッタ
ガス導入口、21a、 21b、 21cm・・流量制
御用バルブ、22a、 22b、 22c・・・自動圧
力制御装置、23・・・防着板。
方法並びにその装置の概略図。 第2図は、バッチ式スパッタ装置、従来、及び本発明に
よる垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置で作製
した磁気ディスクの湾曲の大きさを示す特性図。 第3図は、本発明の垂直磁気記録媒体の製造装置の一部
を示す図で、各ターゲットとフィルムの間の防着板内に
スパッタ導入口を配置した断面図。 第4図は、本発明の垂直磁気記録媒体の製造装置の一部
を示す図で、防着板の内側に真空計を設置した正面図。 第5図は、従来の真空槽壁面に取り付けた真空計のアル
ゴンガス圧力と従来の量産用装置における各ターゲット
近傍のアルゴンガス圧力を比較した特性図。 第6図は、垂直磁気記録媒体の断面図。 第7図は、従来の垂直磁気記録媒体の量産用製造装置の
概略図。 1・・・フィルム、2・・・軟磁性層、3・・・垂直磁
化層、4・・・保護層、5・・・真空槽、6・・・送り
出しロール、7・・・ガイドロール、8・・・巻取りロ
ール、9・・・軟磁性層用ターゲット、10・・・垂直
磁化層用ターゲット、11・・・保護層用ターゲット、
12・・・基板ホルダー、13・・・押し込みリング、
16・・・バルブ、17・・・排気口、18・・・アル
ゴンガスボンベ、 14,19a、19b、19c・・
・真空計、20a、 20b、 20c・・・スパッタ
ガス導入口、21a、 21b、 21cm・・流量制
御用バルブ、22a、 22b、 22c・・・自動圧
力制御装置、23・・・防着板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、同一真空槽内に複数の組成の異なるターゲットを配
列し、基板のフィルムを移動させつつスパッタ法を用い
て前記フィルム上に磁気記録媒体用薄膜を積層する磁気
記録媒体の製造方法において、前記ターゲット近傍の各
々に真空計とスパッタガス導入口を設置し、自動圧力制
御装置を具備した流量制御バルブを前記各スパッタガス
導入口に設置して、前記複数の組成の異なる各ターゲッ
ト近傍の真空計が示すスパッタガス圧力を自動圧力制御
装置を具備した流量制御バルブにより夫々制御しながら
スパッタを行い、フィルム上に磁気記録媒体を積層する
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 2、同一真空槽内に複数の組成の異なるターゲットを配
列し、基板を移動させつつスパッタ法を用いて前記基板
上に磁気記録媒体用薄膜を積層する磁気記録媒体の製造
装置において、各ターゲットと基板となるフィルムの間
を包む防着板内部に各ターゲット毎に真空計とスパッタ
ガス導入口を設け、自動圧力制御装置を具備した流量制
御バルブを前記スパッタガス導入口に取り付け、自動圧
力制御装置は夫々の真空計による圧力により制御される
ように構成したことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製
造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2100390A JPH03225623A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2100390A JPH03225623A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03225623A true JPH03225623A (ja) | 1991-10-04 |
Family
ID=12042912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2100390A Pending JPH03225623A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 垂直磁気記録媒体の製造方法並びにその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03225623A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0837491A2 (en) * | 1996-10-21 | 1998-04-22 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Composite sputtering cathode assembly and sputtering apparatus with such composite sputtering cathode assembly |
-
1990
- 1990-01-30 JP JP2100390A patent/JPH03225623A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0837491A2 (en) * | 1996-10-21 | 1998-04-22 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Composite sputtering cathode assembly and sputtering apparatus with such composite sputtering cathode assembly |
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