JPH01220211A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体からデータを読み出したり、磁
気記録媒体にデータを書き込んだりする磁気記録再生装
置に用いられる薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。

従来の技術 第６図は従来の薄膜磁気ヘッドを示す側断面図である。

第６図において、１は保護絶縁層、２は保護絶縁層１の
上に形成され、メツキ法を用いて磁性材料で作成された
下部磁性層、３は下部磁性層２の上に形成され、非磁性
材料でできているギャップ絶縁層、４はギャップ絶縁層
３の上に形成された層間絶縁層、５は層間絶縁層４の上
に形成されたコイル層、６はコイル層５の上に形成され
た層間絶縁層、７は層間絶縁層６の上に形成されたコイ
ル層、８はコイル層７の上に形成された層間絶縁層、９
は層間絶縁層８の上に形成され、メツキ法を用いて磁性
材料で形成された上部磁性層で、上部磁性層９の先端部
ではギャップ絶縁層３を介して下部磁性層２が設けられ
ている。又後端部では上部磁性層９と下部磁性層２が接
合されている。下部磁性層２及び上部磁性層９は第２図
に示す先端領域では予め決まった厚さで形成し、又磁気
抵抗を少な（するために第３図で示す後方領域の下部磁
性層２及び上部磁性層９の膜厚を先端領域における膜厚
よりも厚（しである。１０は保護絶縁層である。

この様に構成された従来の薄膜磁気ヘッドについてその
下部磁性層２の形成方法について第７図から第９図を用
いて説明する。

先ずメツキ法で第一の磁性層１１を形成し、次に第７図
に示す様に第一の磁性層１１の上にフォトレジスト１２
を塗布して乾燥させた後にフォトマスク１３をフォトレ
ジスト１２の上に間隔を持たせて且つ第一の磁性層１１
に平行に被せ、紫外線をフォトマスク１３に垂直に当て
た後に、第８図に示す様にフォトレジスト１２の紫外線
が当たった可溶部分１２ａを現像液で溶かして現像し、
このフォトレジスト１２が溶けた部分にメツキ法で第二
の磁性層１４を形成し、下部磁性層２を形成していた。

その後に第９図に示すようにフォトマスク１３を取り除
き全体に紫外線を照射して現像液で残ったフォトレジス
ト１２を除去し、上部磁性層９も同様に形成していた。

発明が解決しようとする課題 しかしながら前記従来の構成では、第７図に示す様にフ
ォトマスク１３のエツジ部分では紫外線が回折を起こし
て、フォトマスク１３で覆っているフォトレジスト１２
の一部にも紫外線が当たり、しかも回折した紫外線は強
度が他より弱いため、第８図に示す様に現像した後の溶
けない部分のフォトレジスト１２の端部は傾斜した形状
となり、フォトレジスト１２が現像液で流し落とされた
部分にメツキ法で第二の磁性層１４を形成すると、第９
図に示す様に第二の磁性層１４の端部に鋭角な先端部を
持った突出部１４ａが形成されるので、この方法を用い
て下部磁性層２及び上部磁性層９を形成すると第６図に
示すように後方領域と先端領域の境目に突出部２ａが形
成され第二の磁性層１４を厚く形成すればする程、突出
部２ａの先端部と上部磁性層９の距離が近（なって行き
、突出部２ａの尖った先端部は磁気飽和に達し易くなる
ので、突出部２ａの先端部と上部磁性層９の間で磁束の
漏洩が発生し、磁気効率が低下する。又突出部２ａを後
方にずらして上部磁性層９との距離が近くならない様に
しようとすると、コイル層１９．２１の巻線を巻く面積
が減少してしまうという問題点を有していた。父上部磁
性層９の上に保護絶縁層２４を形成した時に、突出部２
ａが形成される事によって生じた凹部の部分に入り込ん
だ保護絶縁層２４にクラックやボイドが発生し絶縁不良
をきたすという問題点を有していた。

本発明は前記従来の問題点を解決するもので、上部磁性
層及び下部磁性層のコイル層に対応する後方領域の膜厚
を先端領域の膜厚よりもかなり厚（しても磁束の漏洩や
絶縁不良をきたさない薄膜磁気ヘッドを提供する事を目
的としている。

課題を解決するための手段 本発明は前記従来の問題を解決するために、下部磁性層
及び上部磁性層の少なくとも一方を複数の磁性膜で構成
し、上方に形成される磁性膜ほど端部が基板の磁気記録
媒体との対向面となるべき端部に近く、最上方に形成さ
れる磁性膜は基板の磁気記録媒体との対向面・となるべ
き端部まで達するように形成した。

作　　　用 この構成によって、下部磁性層の後方領域と、先端領域
の境目に尖った先端部を有した突出部が形成されるのを
防ぎ、又上部磁性層では後方領域と先端領域の境目に形
成される凹部が形成されるのを防止する事ができる。

実施例 第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドの製
造方法を用いて製造された薄膜磁気ヘッドを示す側断面
図である。以下第１図を用いて本発明の一実施例におけ
る薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する。先ず、基板（
図示せず）の上に保護絶縁層１５を形成する。次に保護
絶縁層１５の上に下部磁性層１６を形成する。下部磁性
層１６は第一の磁性層１６ａ、第二の磁性層１６ｂ及び
第三の磁性層１６ｃの三層から構成されている。

下部磁性層１６の形成方法は、初めに磁気記録媒体との
媒体対向面から一定の距離だけ離れた所に媒体対向面側
の端部がくる様に保護絶縁層１５の上に第一の磁性層１
６ａを形成する。次に第一の磁性層１６ａの上に第二の
磁性層１６ｂを形成する。この時第二の磁性層１６ｂの
媒体対向面側の端部が第一の磁性層１６ａの媒体対向面
側の端部よりも媒体対向面側に来る様にする。又第−の
磁性層１６ａの媒体対向面側の端部よりも媒体対向面の
方にはみだしている第二の磁性層１６ｂの部分は保護絶
縁層１５の上に形成されている。最後に第二の磁性層１
６ｂの上に第三の磁性層１６ｃを形成する。第三の磁性
層１６ｃは媒体対向面に達するまで形成されている。又
第二の磁性層１６ｂの媒体対向面側の端部よりも媒体対
向面側にはみだしている第三の磁性層１６ｃの部分は保
護絶縁層１５の上に形成されている。次にこの様に形成
された下部磁性層１６の上に磁気ギャップとなるギャッ
プ絶縁層１７を形成する。ギャップ絶縁層１７は下部磁
性層１６の媒体対向面と反対側の端部を除いて媒体対向
面まで形成されている。次にギャップ絶縁層１７の上に
層間絶縁層１８を形成する。この時、眉間絶縁層１８の
媒体対向面側の端部は第一の磁性層１６ａの媒体対向面
側の端部と媒体対向面の間に来る様にする。次に層間絶
縁層１８の上に磁束を発生させるコイル層１９を形成す
る。この時、コイル層１９の媒体対向面側の端部から媒
体対向面までの距離と、第一の磁性層１６ａの媒体対向
面側の端部から媒体対向面までの距離が等しくなる様に
する。次にコイル層１９の上に層間絶縁層２０を形成す
る。この時、層間絶縁層２０の媒体対向面側の端部は層
間絶縁層１８の媒体対向面側の端部よりも媒体対向面倒
には来ないようにする。次に眉間絶縁層２０の上にコイ
ル層２１を形成する。この時、コイル層２１の媒体対向
面側の端部から媒体対向面までの距離と、コイル層１９
の媒体対向面側の端部から媒体対向面までの距離が等し
くなる様にする。次にコイル層２１の上に層間絶縁層２
２を形成する。この時、層間絶縁層２２の媒体対向面側
の端部は、層間絶縁層２０の媒体対向面側の端部よりも
媒体対向面側には来ない様にする。次に眉間絶縁層２２
の上に上部磁性層２３を形成する。上部磁性層２３は第
一の磁性層２３ａ、第二の磁性層２３ｂ及び第三の磁性
層２３ｃの三層で構成されている。

上部磁性層２３の形成方法は初めに眉間絶縁層２２の上
に第一の磁性層２３ａを形成する。この時、第一の磁性
層２３ａの媒体対向面側の端部から媒体対向面までの距
離と、第一の磁性層１６ａの媒体対向面側の端部から媒
体対向面までの距離が同じになる様にする。次に第一の
磁性層２３ａの上に第二の磁性層２３ｂを形成する。こ
の時第二の磁性層２３ｂの媒体対向面側の端部は、第一
の磁性層２３ａの媒体対向面側の端部よりも媒体対向面
側に来る様にする。又第−の磁性層２３ａの媒体対向面
側の端部から媒体対向面側にはみだした第二の磁性層２
３ｂの部分は層間絶縁層２２の上に形成される。最後に
第二の磁性層２３ｂの上に第三の磁性層２３ｃを形成す
る。この時第三の磁性層２３ｃは媒体対向面に達するま
で形成されている。次にこの様に形成された上部磁性層
２３の上に保護絶縁層２４を形成する。

以上の様に構成された本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方
法について、下部磁性層１６及び上部磁性層２３の形成
方法を説明する。

先ず第２図に示す様に基板上に第一の磁性層２５を形成
した後に、第３図に示す様にフォトレジスト２６を第一
の磁性層２５の厚さよりも厚（塗布し第一の磁性層２５
の面積よりも大きい面積を持った貫通口を持ったフォト
マスクをフォトレジスト２６に被せて紫外線で露光して
、第４図に示す様に現像液で紫外線が照射されたフォト
レジスト２６を洗い流す。次にメツキ法によって第二の
磁性層２７を第５図に示す様に形成する。すると第二の
磁性層２７は第一の磁性層の上に等方的に成長していく
ので第二の磁性層２６の端部は鋭角な先端部を持つ突出
部は形成されず丸みを帯びた形状となる。この様な形成
方法を用いて上部磁性層２３及び下部磁性層１６を形成
すると第１図に示す様に後方領域と先端領域の境目には
突出部が形成されない。

以上の様に本実施例によれば、下部磁性層１６及び上部
磁性層２３を複数の層で形成し、しかも媒体対向面側の
端部が次第に媒体対向面に近くなる様に磁性層を債層す
る事により、下部磁性層においては後方領域と先端領域
の境目に尖った先端部を有した段差を生じさせず、又同
様に構成される上部磁性層においては後方領域と先端領
域の境目に突出部を形成しない様にできる。なおこの実
施例においては３層で磁性層を形成していたが２層や４
層以上で磁性層を形成してもよい。

発明の効果 本発明は、下部磁性層及び上部磁性層の少なくとも一方
を複数の磁性層で構成するとともに、上方に形成される
磁性膜ほど端部が基板の磁気記録媒体との対向面となる
べき端部に近（、最上方に形成される磁性膜は基板の磁
気記録媒体との対向面となるべき端部まで達するように
形成した事により、下部磁性層の後方領域と先端領域の
境目に尖った先端部を有した突出部を形成するのを防止
でき、又上部磁性層でも後方領域と先端領域の境目に凹
部が形成されるのを防止する事ができるので、上部磁性
層と下部磁性層の間で磁束を漏れにくくすることが出来
るとともに、保護絶縁層にクラックやボイドが生じるの
を防止する事ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドを示
す側断面図、第２図から第５図までは本発明の一実施例
における薄膜磁気ヘッドの磁性層の形成方法を示す側断
面図、第６図は従来の薄膜磁気ヘッドを示す側断面図、
第７図から第９図までは従来の薄膜磁気ヘッドの磁性層
の形成方法を示す側断面図である。 １６・・・・・・下部磁性層　　１７・・・・・・ギャ
ップ絶縁層１８．２０．２２・・・・・・層間絶縁層１
９．２１・・・・・・コイル層　　２３・・・・・・上
部磁性層代理人の氏名　弁理士　中尾敏男　ほか１名Ｌ
Ｏへ 綜　　　　　　　　　　　　　　　　城１・０ Ｑ〕 塚　　　　城　　　１ ５．７−−−コイル１ ７−　　上部１轍層 第６図 Ｈ・・−嶌−の鷹枚漕 第８図 Ｐ Ｉ 第９図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板の上に保護絶縁層を形成した後に、複数の磁
   性膜を積層して構成される下部磁性層を、上方に形成さ
   れる磁性膜ほど端部が前記基板の磁気記録媒体との対向
   面となるべき端部に近く、最上方に形成される前記磁性
   膜は前記対向面となるべき端部に達するように形成し、
   前記下部磁性層の上に磁気ギャップとなるギャップ絶縁
   層を形成するとともに、前記ギャップ絶縁層の上に絶縁
   層を介して磁束を発生させるコイル層を形成し、前記下
   部磁性層とともに前記磁気ギャップを含む磁気回路を構
   成する様に上部磁性層を形成する事を特徴とする薄膜磁
   気ヘッドの製造方法。
2. （２）基板の上に保護絶縁層を形成した後に、前記保護
   絶縁層の上に下部磁性層を形成し、前記下部磁性層の上
   に磁気ギャップとなるギャップ絶縁層を形成するととも
   に、前記ギャップ絶縁層の上に絶縁層を介して磁束を発
   生させるコイル層を形成し、複数の磁性膜を積層して構
   成され、前記下部磁性層とともに前記磁気ギャップを含
   む磁気回路を構成する上部磁性層を、上方に形成される
   磁性膜ほど端部が前記基板の磁気記録媒体との対向面と
   なるべき端部に近く、最上方に形成される前記磁性膜は
   前記対向面となるべき端部に達するように形成する事を
   特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
3. （３）基板の上に保護絶縁層を形成した後に、複数の磁
   性膜を積層して構成される下部磁性層を、上方に形成さ
   れる磁性膜ほど端部が前記基板の磁気記録媒体との対向
   面となるべき端部に近く、最上方に形成される前記磁性
   膜は前記対向面となるべき端部に達するように形成し、
   前記下部磁性層の上に磁気ギャップとなるギャップ絶縁
   層を形成するとともに前記ギャップ絶縁層の上に絶縁層
   を介して磁束を発生させるコイル層を形成し、複数の磁
   性膜を積層して構成され、前記下部磁性層とともに前記
   磁気ギャップを含む磁気回路を構成する上部磁性層を、
   上方に形成される磁性膜ほど端部が前記基板の磁気記録
   媒体との対向面となるべき端部に近く、最上方に形成さ
   れる前記磁性膜は前記対向面となるべき端部に達するよ
   うに形成する事を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法
   。