JPS62219218A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62219218A JPS62219218A JP5947986A JP5947986A JPS62219218A JP S62219218 A JPS62219218 A JP S62219218A JP 5947986 A JP5947986 A JP 5947986A JP 5947986 A JP5947986 A JP 5947986A JP S62219218 A JPS62219218 A JP S62219218A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明による薄膜磁気ヘッドの製造方法は、基板上にス
ライダの空気流入端側となる第1磁極を形成してその上
に無機ギャップ層を形成した後、第1磁極の先端部上の
無機ギャップ層の両側に該無機ギャップ層の上面と等し
い高さの平滑部を有する平滑化用有機絶縁層を形成し、
その後、第2磁極の先端部が第1磁極の先端部上の無機
ギャップ層の上面及びその両側の平滑化用有機絶縁層の
平滑部上面を被覆するように、第1磁極の先端部よりも
広い幅の先端部を有する第2磁極を形成することにより
、第2磁極の先端部下面を第1磁極の先端部上面に対し
平行に形成するものである。
ライダの空気流入端側となる第1磁極を形成してその上
に無機ギャップ層を形成した後、第1磁極の先端部上の
無機ギャップ層の両側に該無機ギャップ層の上面と等し
い高さの平滑部を有する平滑化用有機絶縁層を形成し、
その後、第2磁極の先端部が第1磁極の先端部上の無機
ギャップ層の上面及びその両側の平滑化用有機絶縁層の
平滑部上面を被覆するように、第1磁極の先端部よりも
広い幅の先端部を有する第2磁極を形成することにより
、第2磁極の先端部下面を第1磁極の先端部上面に対し
平行に形成するものである。
本発明は、磁気記録媒体に対する浮揚面を有するスライ
ダに設置される一対の磁極のうちスライダの空気流出端
側に配置される磁極の幅がスライダの空気流入端側に配
置される磁極の幅よりも広い薄膜磁気ヘッドの製造方法
に関する。
ダに設置される一対の磁極のうちスライダの空気流出端
側に配置される磁極の幅がスライダの空気流入端側に配
置される磁極の幅よりも広い薄膜磁気ヘッドの製造方法
に関する。
近年、磁気記録の高密度化に伴い、小型で高精度の薄膜
磁気ヘッドが要望されているが、特に、トラック密度を
向上させるためには、隣接するトラックからの雑音の混
入(サイドクロストーク)が少なく、且つ、薄膜磁気ヘ
ッドがオフトラックした場合の再生信号出力の低下が少
ないことが必要となる。
磁気ヘッドが要望されているが、特に、トラック密度を
向上させるためには、隣接するトラックからの雑音の混
入(サイドクロストーク)が少なく、且つ、薄膜磁気ヘ
ッドがオフトラックした場合の再生信号出力の低下が少
ないことが必要となる。
第5図は一般の磁気ディスク装置における磁気記録媒体
とスライダとの関係を示している。図において、1は磁
気記録媒体(例えば磁気ディスク)、2はスライダ、2
aはスライダの浮揚面である。
とスライダとの関係を示している。図において、1は磁
気記録媒体(例えば磁気ディスク)、2はスライダ、2
aはスライダの浮揚面である。
Pは磁気記録媒体1の走行方向を示しており、3は磁気
記録媒体lの走行に伴うスライダ2の空気流入端、4は
同じく空気流出端である。5はスライダ2に装着された
薄膜磁気ヘッドである。薄膜磁気ヘッド5は一対の磁極
6.7を有している。
記録媒体lの走行に伴うスライダ2の空気流入端、4は
同じく空気流出端である。5はスライダ2に装着された
薄膜磁気ヘッドである。薄膜磁気ヘッド5は一対の磁極
6.7を有している。
磁極6,7は磁気記録媒体lに対向する端部を有してお
り、磁極6.7の端部間には無機ギャップ層8が設けら
れている。9は絶縁層、10は薄膜コイルである。
り、磁極6.7の端部間には無機ギャップ層8が設けら
れている。9は絶縁層、10は薄膜コイルである。
第6図は従来の薄膜磁気ヘッドにおける第1磁極の先端
部と第2磁極の先端部との配置関係を示すものである。
部と第2磁極の先端部との配置関係を示すものである。
この図から判るように、従来の薄膜磁気ヘッドでは、ス
ライダの空気流入端側の磁極6の先端部幅W1がスライ
ダの空気流出端側の磁極7の先端部幅W2よりも広くな
っている。
ライダの空気流入端側の磁極6の先端部幅W1がスライ
ダの空気流出端側の磁極7の先端部幅W2よりも広くな
っている。
このような従来構造の薄膜磁気ヘッドを用いて磁気記録
媒体1への信号の記録を行うと、空気流出端側の磁極7
の先端部の幅方向両端部から漏れる漏洩磁束Bの影響に
より、磁気記録媒体1には、第6図に示すように、記録
ビン)la、lbに対し、磁極6,7の先端部間のギャ
ップを垂直に横断しない斜め方向の磁化が記録される。
媒体1への信号の記録を行うと、空気流出端側の磁極7
の先端部の幅方向両端部から漏れる漏洩磁束Bの影響に
より、磁気記録媒体1には、第6図に示すように、記録
ビン)la、lbに対し、磁極6,7の先端部間のギャ
ップを垂直に横断しない斜め方向の磁化が記録される。
このため、信号再生の際に磁極7の先端部の幅方向両端
はアジマス角を持つこととなり、薄膜磁気ヘッド5にオ
フトラックが発生した場合に再生出力の低下及び雑音の
混入等を招くこととなる。
はアジマス角を持つこととなり、薄膜磁気ヘッド5にオ
フトラックが発生した場合に再生出力の低下及び雑音の
混入等を招くこととなる。
上述した欠点を解決するための改良型薄膜磁気ヘッドが
本出願人による特願昭60−233856号明細書に開
示されている。この改良型薄膜磁気ヘッドにおいては、
スライダに設置される一対の磁極のうちスライダの空気
流出端側に配置される磁極の先端部幅がスライダの空気
流入端側に配置される磁極の先端部幅よりも広く設定さ
れている。
本出願人による特願昭60−233856号明細書に開
示されている。この改良型薄膜磁気ヘッドにおいては、
スライダに設置される一対の磁極のうちスライダの空気
流出端側に配置される磁極の先端部幅がスライダの空気
流入端側に配置される磁極の先端部幅よりも広く設定さ
れている。
このような磁極構造の改良型薄膜磁気ヘッドで磁気記録
媒体への記録を行なった場合、空気流出端側の磁極の先
端部の幅方向両端部から漏れる漏洩(8束の影響により
、磁気記録媒体には磁極の先端部間のギャップに対して
垂直に横断する方向の磁化が記録される。何故なら、磁
気記録媒体に記録される残留磁化の方向は1ビツトごと
に磁化過程の終了時点での磁束の方向、すなわち、空気
流出端側磁極近傍の磁束の方向に記録されるからである
。この結果、磁気記録媒体には空気流出端側磁極の先端
部幅に対応した領域全体にわたって磁極間のギャップに
対し垂直に横断する方向の磁化が記録される。一方、信
号の再生幅は空気流入端側磁極の幅に対応するので、ワ
イドライト/ナローリードが実現され、薄膜磁気ヘッド
のオフトラックが発生した場合であっても、再生出力の
低下や雑音の混入を防止できることとなる。
媒体への記録を行なった場合、空気流出端側の磁極の先
端部の幅方向両端部から漏れる漏洩(8束の影響により
、磁気記録媒体には磁極の先端部間のギャップに対して
垂直に横断する方向の磁化が記録される。何故なら、磁
気記録媒体に記録される残留磁化の方向は1ビツトごと
に磁化過程の終了時点での磁束の方向、すなわち、空気
流出端側磁極近傍の磁束の方向に記録されるからである
。この結果、磁気記録媒体には空気流出端側磁極の先端
部幅に対応した領域全体にわたって磁極間のギャップに
対し垂直に横断する方向の磁化が記録される。一方、信
号の再生幅は空気流入端側磁極の幅に対応するので、ワ
イドライト/ナローリードが実現され、薄膜磁気ヘッド
のオフトラックが発生した場合であっても、再生出力の
低下や雑音の混入を防止できることとなる。
上記改良型薄膜磁気ヘッドにおいては、空気流出端側の
磁極の幅が空気流入端例の磁極の幅よりも広いので、基
板上に形成した空気流入端側磁極層の表面に無機ギャッ
プ層を形成した後、無機ギャップ層の表面上に空気流出
端側の上記層を蒸着等の手段で形成する場合に、空気流
出端側の磁極層の両端がだれないように空気流出端側磁
極層を形成することが困難であった。
磁極の幅が空気流入端例の磁極の幅よりも広いので、基
板上に形成した空気流入端側磁極層の表面に無機ギャッ
プ層を形成した後、無機ギャップ層の表面上に空気流出
端側の上記層を蒸着等の手段で形成する場合に、空気流
出端側の磁極層の両端がだれないように空気流出端側磁
極層を形成することが困難であった。
このため、空気流入端側磁極層よりも幅の広い空気流出
端側磁極層が空気流入端側磁極層に対して平行度を保つ
ように空気流出端側磁極層を形成することができる薄膜
磁気ヘッドの製造方法が要望されていた。
端側磁極層が空気流入端側磁極層に対して平行度を保つ
ように空気流出端側磁極層を形成することができる薄膜
磁気ヘッドの製造方法が要望されていた。
上記要望に鑑み、本発明は、スライダの空気流入端側に
配置されるべき第1磁極の先端部の幅よりもスライダの
空気流出端側に配置されるべき第2磁極の先端部の幅が
広い薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、基板上に第1
磁極を形成する工程と、第1ift極の後部の一部が露
出するように第1磁極の表面に無機ギャップ層を形成す
る工程と、第1磁極の先端部上の無機ギャップ層の上面
と等しい高さの平滑部を有する平滑化用有機絶縁層を第
1磁極の先端部上の無機ギャップ層の両側に形成する工
程と、第1 +ff極の後部の一部が露出するように第
1磁極の後部上に絶縁層で絶縁されたコイル層を形成す
る工程と、第1磁極の先端部の幅よりも広い所定幅の先
端部を有する第2磁極を該第2磁極の先端部が第1磁極
の先端部上の無機ギャップ層の上面及び平滑化用有機絶
縁層の平滑部の上面を被覆し且つ第2磁極の一部が第1
磁極の露出部を被覆するようにコイル層上に絶縁層を介
して形成する工程とを有していることを特徴とする薄膜
磁気ヘッドの製造方法を提供する。
配置されるべき第1磁極の先端部の幅よりもスライダの
空気流出端側に配置されるべき第2磁極の先端部の幅が
広い薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、基板上に第1
磁極を形成する工程と、第1ift極の後部の一部が露
出するように第1磁極の表面に無機ギャップ層を形成す
る工程と、第1磁極の先端部上の無機ギャップ層の上面
と等しい高さの平滑部を有する平滑化用有機絶縁層を第
1磁極の先端部上の無機ギャップ層の両側に形成する工
程と、第1 +ff極の後部の一部が露出するように第
1磁極の後部上に絶縁層で絶縁されたコイル層を形成す
る工程と、第1磁極の先端部の幅よりも広い所定幅の先
端部を有する第2磁極を該第2磁極の先端部が第1磁極
の先端部上の無機ギャップ層の上面及び平滑化用有機絶
縁層の平滑部の上面を被覆し且つ第2磁極の一部が第1
磁極の露出部を被覆するようにコイル層上に絶縁層を介
して形成する工程とを有していることを特徴とする薄膜
磁気ヘッドの製造方法を提供する。
本発明による上記手段によれば、第1磁極の先端部上の
無機ギャップ層の両側に該無機ギャップ層の上面と等し
い高さの平滑部を有する平滑化用有機絶縁層が形成され
た後、第2磁極の先端部が第1磁極の先端部上の無機ギ
ャップ層の上面及びその両側の平滑化用有機絶縁層の平
滑部上面を被覆するように形成されるので、第1磁極の
先端部よりも広い幅の先端部を有する第2 rJi1極
を容易に形成することができるとともに、第2磁極の先
端部下面が第1磁極の先端部上面に対し平行度を保つよ
うに第2磁極を形成できることとなる。
無機ギャップ層の両側に該無機ギャップ層の上面と等し
い高さの平滑部を有する平滑化用有機絶縁層が形成され
た後、第2磁極の先端部が第1磁極の先端部上の無機ギ
ャップ層の上面及びその両側の平滑化用有機絶縁層の平
滑部上面を被覆するように形成されるので、第1磁極の
先端部よりも広い幅の先端部を有する第2 rJi1極
を容易に形成することができるとともに、第2磁極の先
端部下面が第1磁極の先端部上面に対し平行度を保つよ
うに第2磁極を形成できることとなる。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図(al〜(h)及び第2図(al〜(f)は本発
明による薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実施例を示すも
のである。第1図(al〜(hlはそれぞれ製造中の薄
膜磁気ヘッドの先端部断面図であり、第2図(a)〜i
f)はそれぞれ製造中の薄膜磁気ヘッドを基板の上方か
ら見た図である。これらの図を参照すると、本発明によ
る薄膜磁気ヘッドの製造方法においては、まず、基板z
l上にスライダの空気流入端側に配置されるべき第1磁
極22が磁性金属のスパッタリング、真空蒸着、メッキ
等のような手段により所定厚さに形成される(第1図(
a)、第2図(a))。
明による薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実施例を示すも
のである。第1図(al〜(hlはそれぞれ製造中の薄
膜磁気ヘッドの先端部断面図であり、第2図(a)〜i
f)はそれぞれ製造中の薄膜磁気ヘッドを基板の上方か
ら見た図である。これらの図を参照すると、本発明によ
る薄膜磁気ヘッドの製造方法においては、まず、基板z
l上にスライダの空気流入端側に配置されるべき第1磁
極22が磁性金属のスパッタリング、真空蒸着、メッキ
等のような手段により所定厚さに形成される(第1図(
a)、第2図(a))。
第1磁極22は磁気記録媒体の記録面に対向すべき先端
部22aと先端部22aの後方に拡がった後部22bと
からなっている。先端部22aは所定幅W、を有してい
る。
部22aと先端部22aの後方に拡がった後部22bと
からなっている。先端部22aは所定幅W、を有してい
る。
次に、第1磁極22の後部22bの一部22cが露出す
るように、第1磁極22の表面にS i 02 。
るように、第1磁極22の表面にS i 02 。
AI!203等のような無機ギャップ層23がスパッタ
リング、真空蒸着等の手段によって所定厚さに形成され
る(第1図(b)、第2図(b))。
リング、真空蒸着等の手段によって所定厚さに形成され
る(第1図(b)、第2図(b))。
次に、この実施例では、第1磁極22の一部22cが露
出するように、第1磁極22の後部22b上に層間絶縁
層24及びコイル層25が交互に積層形成される(第2
図(C))。これにより、コイル層25は層間絶縁層2
4により被覆される。
出するように、第1磁極22の後部22b上に層間絶縁
層24及びコイル層25が交互に積層形成される(第2
図(C))。これにより、コイル層25は層間絶縁層2
4により被覆される。
次に、感光性樹脂等のような平滑化用有機絶縁層26が
スピンコード法等により第1磁極22の先端部22a上
の無機ギャップ層23の上面を覆うように第1磁極22
の周りに塗布される(第1図(C)、第2図(C))。
スピンコード法等により第1磁極22の先端部22a上
の無機ギャップ層23の上面を覆うように第1磁極22
の周りに塗布される(第1図(C)、第2図(C))。
このとき、平滑化用有機絶縁層26は第16fi極22
の先端部22a上で僅かな厚みを有し、第1磁極22の
先端部22a上からその両側に向かうに従って徐々に薄
肉となるように調整される。
の先端部22a上で僅かな厚みを有し、第1磁極22の
先端部22a上からその両側に向かうに従って徐々に薄
肉となるように調整される。
次に、第1磁極22の先端部22aの両側に平滑化用を
機絶縁層26が残存するように、例えば、紫外線露光法
により、選択的に平滑化用有機絶縁層26の残りの部分
を除去する(第1図(d)、第2図(d))。このとき
、第1図(d)に示すように、第1磁極22先端部22
a上の無機ギャップ層23の両側で平滑化用有機絶縁層
26が上方に僅かに突出するように無機ギャップ層23
上の平滑化用有機絶縁層26を除去することが重要であ
る。
機絶縁層26が残存するように、例えば、紫外線露光法
により、選択的に平滑化用有機絶縁層26の残りの部分
を除去する(第1図(d)、第2図(d))。このとき
、第1図(d)に示すように、第1磁極22先端部22
a上の無機ギャップ層23の両側で平滑化用有機絶縁層
26が上方に僅かに突出するように無機ギャップ層23
上の平滑化用有機絶縁層26を除去することが重要であ
る。
次に、平滑化用有機絶縁層26を例えば200℃でアニ
ールすることにより熱変形させ、第1磁極22の先端部
22aの両側の平滑化用有機絶縁層26の突出部分を平
滑化させて第16ff極22の先端部22a上の無機ギ
ャップ層23の上面と同じ高さの平滑部26aを形成す
る(第1図(e))。
ールすることにより熱変形させ、第1磁極22の先端部
22aの両側の平滑化用有機絶縁層26の突出部分を平
滑化させて第16ff極22の先端部22a上の無機ギ
ャップ層23の上面と同じ高さの平滑部26aを形成す
る(第1図(e))。
次に、眉間絶縁層24で被覆されたコイル層25の上に
第2磁極27が磁性金属のスパッタリング、真空蒸着、
メッキ等の手段により所定厚さに形成される(第1図(
f)、第2図(e))。このとき、第2磁極27の先端
部27aは第1磁極22の先端部22a上の無機ギャッ
プ層23の上面及びその両側の平滑化用有機絶縁層26
の平滑部26aの上面を覆うように所定幅W2 (W2
〉Wl)に形成される。また、第2磁極27の後部27
bは第1磁極の露出部22cを介して第1磁極22と接
続される。
第2磁極27が磁性金属のスパッタリング、真空蒸着、
メッキ等の手段により所定厚さに形成される(第1図(
f)、第2図(e))。このとき、第2磁極27の先端
部27aは第1磁極22の先端部22a上の無機ギャッ
プ層23の上面及びその両側の平滑化用有機絶縁層26
の平滑部26aの上面を覆うように所定幅W2 (W2
〉Wl)に形成される。また、第2磁極27の後部27
bは第1磁極の露出部22cを介して第1磁極22と接
続される。
次に、この実施例では、平滑化用有機絶縁層26以外の
部分が金属膜等のマスク材料で保護され、平滑化用有機
絶縁層26のみが酸素プラズマ処理等により除去される
(第1図(g)、第2図(f))。
部分が金属膜等のマスク材料で保護され、平滑化用有機
絶縁層26のみが酸素プラズマ処理等により除去される
(第1図(g)、第2図(f))。
マスク材料は、その後、イオンエツチング等により除去
される。そして、その後、第1磁極22及び第2磁極2
7の周りを5i02.A2203等のような無機絶縁層
28で被覆する(第1図(h))。
される。そして、その後、第1磁極22及び第2磁極2
7の周りを5i02.A2203等のような無機絶縁層
28で被覆する(第1図(h))。
これにより、強固な絶縁保護構造を得ることができる。
その後、基板21を加工してスライダとするか、或いは
スライダ材に基板21を接着する等の処理を行う。なお
、薄膜磁気ヘッドの先端面、すなわち、磁気記録媒体に
対向する端面ば平滑に仕上げ加工される。
スライダ材に基板21を接着する等の処理を行う。なお
、薄膜磁気ヘッドの先端面、すなわち、磁気記録媒体に
対向する端面ば平滑に仕上げ加工される。
第3図は上記方法により製造された薄膜磁気ヘッドの基
板21をスライダ29に取り付けた状態を示している。
板21をスライダ29に取り付けた状態を示している。
この図において、矢印Pは磁気記録媒体30の走行方向
を示している。薄膜磁気ヘッドの第1磁極22はスライ
ダ29の空気流入端側に位置しており、第2磁極27は
スライダ29の空気流出端側に位置している。
を示している。薄膜磁気ヘッドの第1磁極22はスライ
ダ29の空気流入端側に位置しており、第2磁極27は
スライダ29の空気流出端側に位置している。
第4図は上記方法により製造された薄膜磁気ヘッドの第
1磁極22の先端部22aと第2磁極27の先端部27
aとの配置関係を示すものである。
1磁極22の先端部22aと第2磁極27の先端部27
aとの配置関係を示すものである。
この図から判るように、この薄膜磁気ヘッドでは、スラ
イダ29の空気流入端側に位置する第1磁極22の先端
部22aの幅W1がスライダ29の空気流出端側に位置
する第2磁極27の先端部27aのW2よりも狭くなっ
ている。
イダ29の空気流入端側に位置する第1磁極22の先端
部22aの幅W1がスライダ29の空気流出端側に位置
する第2磁極27の先端部27aのW2よりも狭くなっ
ている。
このような構造の薄膜磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体
30への信号の記録を行うと、第2磁極27の先端部2
7aの幅方向両端部から漏れる漏洩磁束Bの影響により
、磁気記録媒体30には、記録ビット30a、30bに
対し、磁極22゜27の先端部22a、27a間のギヤ
・ノブ(無機ギャップ層23の厚みに相当する)を垂直
に横断する方向の磁化が記録される。何故なら、磁気記
録媒体30に記録される残留磁化の方向は1ビ・ノドご
とに磁化過程の終了時点での磁束の方向、すなわち、空
気流出端側の第2磁極27の先端部27a近傍の磁束の
方向に記録されるからである。
30への信号の記録を行うと、第2磁極27の先端部2
7aの幅方向両端部から漏れる漏洩磁束Bの影響により
、磁気記録媒体30には、記録ビット30a、30bに
対し、磁極22゜27の先端部22a、27a間のギヤ
・ノブ(無機ギャップ層23の厚みに相当する)を垂直
に横断する方向の磁化が記録される。何故なら、磁気記
録媒体30に記録される残留磁化の方向は1ビ・ノドご
とに磁化過程の終了時点での磁束の方向、すなわち、空
気流出端側の第2磁極27の先端部27a近傍の磁束の
方向に記録されるからである。
この結果、磁気記録媒体30には空気流出端側の第2[
極27の先端部27aの幅W2に対応した領域全体にわ
たって磁極22.27の先端部22a、27a間のギャ
ップに対し垂直に横断する方向の磁化が記録される。一
方、信号の再生幅は空気流入端側に配置される第16f
f極22の先端部22aの幅W1に対応するので、ワイ
ドライト/ナローリードが実現され、薄膜磁気へ・ノド
のオフトラックが発生した場合であっても、再生出力の
低下や雑音の混入を防止できることとなる。
極27の先端部27aの幅W2に対応した領域全体にわ
たって磁極22.27の先端部22a、27a間のギャ
ップに対し垂直に横断する方向の磁化が記録される。一
方、信号の再生幅は空気流入端側に配置される第16f
f極22の先端部22aの幅W1に対応するので、ワイ
ドライト/ナローリードが実現され、薄膜磁気へ・ノド
のオフトラックが発生した場合であっても、再生出力の
低下や雑音の混入を防止できることとなる。
以上、図示実施例につき説明したが、本発明は上記実施
例の態様のみに限定されるものではない。
例の態様のみに限定されるものではない。
例えば、層間絶縁Ji24は平滑化用有機絶縁層26と
同一材料で形成してもよく、この場合、眉間絶縁層を形
成する際にその一部を利用して第1磁極22の先端部2
2aの周りに平滑化用有機絶縁層26を同時に形成し、
次いでコイル層25を形成することができる。
同一材料で形成してもよく、この場合、眉間絶縁層を形
成する際にその一部を利用して第1磁極22の先端部2
2aの周りに平滑化用有機絶縁層26を同時に形成し、
次いでコイル層25を形成することができる。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、第1
磁極の先端部上の無機ギャップ層の両側に該無機ギャッ
プ層の上面と等しい高さの平滑部を有する平滑化用有機
絶縁層が形成された後、第2磁極の先端部が第1磁極の
先端部上の無機ギャップ層の上面及びその両側の平滑化
用有機絶縁層の平滑部上面を被覆するように形成される
ので、第1磁極の先端部よりも広い幅の先端部を有する
第2磁極を容易に形成することができるとともに、第2
磁極の先端部下面が第1磁極の先端部上面に対し平行度
を保つように第2磁極を形成できることとなる。したが
って、隣接するトラックからの雑音の混入(サイドクロ
ストーク)やオフトラック時における再生信号出力の低
下を防止できる薄膜磁気ヘッドを容易に製造できること
となる。
磁極の先端部上の無機ギャップ層の両側に該無機ギャッ
プ層の上面と等しい高さの平滑部を有する平滑化用有機
絶縁層が形成された後、第2磁極の先端部が第1磁極の
先端部上の無機ギャップ層の上面及びその両側の平滑化
用有機絶縁層の平滑部上面を被覆するように形成される
ので、第1磁極の先端部よりも広い幅の先端部を有する
第2磁極を容易に形成することができるとともに、第2
磁極の先端部下面が第1磁極の先端部上面に対し平行度
を保つように第2磁極を形成できることとなる。したが
って、隣接するトラックからの雑音の混入(サイドクロ
ストーク)やオフトラック時における再生信号出力の低
下を防止できる薄膜磁気ヘッドを容易に製造できること
となる。
第1図(a)〜(h)は本発明による薄膜磁気へ・ノド
の製造方法の一実施例を示す製造途中の薄膜磁気ヘッド
の先端部断面図、 第2図(al〜(f)は第1図に示す製造方法の途中工
程を示す平面図、 第3図は第1図に示す方法で製造した薄膜磁気ヘッドの
縦断面図、 第4図は第1図に示す方法で製造した薄膜磁気ヘッドの
磁極先端部の配置構造を示す図、第5図は従来のPt1
l!磁気ヘツドをスライダに装着した状態を示す断面図
、 第6図は第5図に示す薄膜磁気ヘッドの磁極先端部の配
置構造を示す図である。 図において、21は基板、22は第1磁極、22aは第
1磁極の先端部、22bは第1磁極の後部、22cは第
1磁極の露出部、23は無機ギャップ層、24は層間絶
縁層、25はコイル層、26は平滑化用有機絶縁層、2
7は第2磁極、27aは第2磁極の先端部、28は無機
絶縁層、29はスライダ、30は磁気記録媒体である。
の製造方法の一実施例を示す製造途中の薄膜磁気ヘッド
の先端部断面図、 第2図(al〜(f)は第1図に示す製造方法の途中工
程を示す平面図、 第3図は第1図に示す方法で製造した薄膜磁気ヘッドの
縦断面図、 第4図は第1図に示す方法で製造した薄膜磁気ヘッドの
磁極先端部の配置構造を示す図、第5図は従来のPt1
l!磁気ヘツドをスライダに装着した状態を示す断面図
、 第6図は第5図に示す薄膜磁気ヘッドの磁極先端部の配
置構造を示す図である。 図において、21は基板、22は第1磁極、22aは第
1磁極の先端部、22bは第1磁極の後部、22cは第
1磁極の露出部、23は無機ギャップ層、24は層間絶
縁層、25はコイル層、26は平滑化用有機絶縁層、2
7は第2磁極、27aは第2磁極の先端部、28は無機
絶縁層、29はスライダ、30は磁気記録媒体である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、スライダ(29)の空気流入端側に配置されるべき
第1磁極(22)の先端部(22a)の幅よりもスライ
ダの空気流出端側に配置されるべき第2磁極(27)の
先端部(27a)の幅が広い薄膜磁気ヘッドの製造方法
であって、 基板(21)上に第1磁極(22)を形成する工程と、
第1磁極(22)の後部(22b)の一部が露出するよ
うに第1磁極(22)の表面に無機ギャップ層(23)
を形成する工程と、 第1磁極(22)の先端部(22a)上の無機ギャップ
層(23)の両側に該無機ギャップ層の上面と等しい高
さの平滑部(26a)を有する平滑化用有機絶縁層(2
6)を形成する工程と、 第1磁極(22)の後部(22b)の一部が露出するよ
うに第1磁極(22)の後部(22b)上に絶縁層(2
4)で絶縁されたコイル層(25)を形成する工程と、
第1磁極(22)の先端部(22a)の幅よりも広い所
定幅の先端部(27a)を有する第2磁極(27)を該
第2磁極の先端部(27a)が第1磁極の先端部(22
a)上の無機ギャップ層(23)の上面及び平滑化用有
機絶縁層(26)の平滑部(26a)の上面を被覆し且
つ第2磁極の一部が第1磁極(22)の露出部(22c
)を被覆するようにコイル層(25)の上に絶縁層(2
4)を介して形成する工程と、 を有していることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 2、第2磁極(27)の形成後、第1磁極(22)の先
端部(22a)の周辺の平滑化用有機絶縁層(26)を
除去して第1磁極(22)及び第[2]」磁極(27)
の周りを無機絶縁層(28)で被覆することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 3、平滑化用有機絶縁層(26)が第1磁極(22)の
先端部(22a)上の無機ギャップ層(23)の上面を
僅かに被覆し且つ該無機ギャップ層の上面からその両側
に向かって徐々に薄肉となるように平滑化用有機絶縁層
(26)を形成した後、第1磁極の先端部上の無機ギャ
ップ層(23)の上に位置する平滑化用有機絶縁層(2
6)を除去し、その後、第1磁極の先端部上の無機ギャ
ップ層(23)の両側の平滑化用有機絶縁層(26)を
加熱により平滑化して第1磁極の先端部上の無機ギャッ
プ層(23)の上面と等しい高さの平滑部(26a)を
無機ギャップ層(23)の両側に形成することを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載の薄膜磁気ヘッドの製
造方法。 4、平滑化用有機絶縁層(26)を感光性樹脂により形
成することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5947986A JPS62219218A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5947986A JPS62219218A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62219218A true JPS62219218A (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=13114479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5947986A Pending JPS62219218A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62219218A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0351048A2 (en) * | 1988-07-11 | 1990-01-17 | Digital Equipment Corporation | Recording head to optimize high density recording |
EP0390347A2 (en) * | 1989-03-28 | 1990-10-03 | Quantum Corporation | Recording head to optimize high density recording |
US5068959A (en) * | 1988-07-11 | 1991-12-03 | Digital Equipment Corporation | Method of manufacturing a thin film head |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP5947986A patent/JPS62219218A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0351048A2 (en) * | 1988-07-11 | 1990-01-17 | Digital Equipment Corporation | Recording head to optimize high density recording |
US5068959A (en) * | 1988-07-11 | 1991-12-03 | Digital Equipment Corporation | Method of manufacturing a thin film head |
EP0390347A2 (en) * | 1989-03-28 | 1990-10-03 | Quantum Corporation | Recording head to optimize high density recording |
JPH02285503A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-11-22 | Digital Equip Corp <Dec> | 薄膜ヘッド形成方法 |
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