JPH01217026A - 放射線硬化性ポリウレタンの製造方法 - Google Patents
放射線硬化性ポリウレタンの製造方法Info
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- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
- C08G18/671—Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
- C08G18/672—Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/83—Chemically modified polymers
- C08G18/831—Chemically modified polymers by oxygen-containing compounds inclusive of carbonic acid halogenides, carboxylic acid halogenides and epoxy halides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
CeL業上の利用分野〕
本発明は、放射線硬化性ポリウレタンの製造方法に関し
、特に磁性粉を混合して、磁気テープ、磁気ディスク等
の磁気記録媒体を製造する際に使用される磁性塗料とし
て好適に用いられる放射線硬化性ポリウレタンの製造方
法に関するものである。
、特に磁性粉を混合して、磁気テープ、磁気ディスク等
の磁気記録媒体を製造する際に使用される磁性塗料とし
て好適に用いられる放射線硬化性ポリウレタンの製造方
法に関するものである。
一般に、磁気記録媒体は、ポリエステルフィルムなどの
支持体上に、磁性粉、重合体、溶剤および各種の添加剤
からなる磁性塗料を塗布して磁性層を形成したものであ
る。
支持体上に、磁性粉、重合体、溶剤および各種の添加剤
からなる磁性塗料を塗布して磁性層を形成したものであ
る。
近年、上記磁性塗料の調製に用いる重合体としてアクリ
ル系二ffi結合を有する放射線硬化性重合体を用い、
これを磁性粉、溶剤等と共に混合した放射線硬化性磁性
塗料の塗膜を放射線照射によって硬化する方法が知られ
ている。
ル系二ffi結合を有する放射線硬化性重合体を用い、
これを磁性粉、溶剤等と共に混合した放射線硬化性磁性
塗料の塗膜を放射線照射によって硬化する方法が知られ
ている。
このような磁性塗料における磁性粉の分散性能を高める
ために、カルボン酸基を含有するポリウレタンを用いる
こと(特開昭60−15473号公報、特開昭62−4
31170号公報、特開昭62−1:1472号公(j
Fl)、活性光線またはTL−【放射線硬化性のカルボ
ン酸基を含有するポリウレタンを用いること(特開昭4
8−43729号公報、特開昭57−92421号公報
)等が開示されている。
ために、カルボン酸基を含有するポリウレタンを用いる
こと(特開昭60−15473号公報、特開昭62−4
31170号公報、特開昭62−1:1472号公(j
Fl)、活性光線またはTL−【放射線硬化性のカルボ
ン酸基を含有するポリウレタンを用いること(特開昭4
8−43729号公報、特開昭57−92421号公報
)等が開示されている。
しかし、一般にカルボン酸基存在下の酸性条件下ではウ
レタン化反応が、著しく抑制されることが知られている
。
レタン化反応が、著しく抑制されることが知られている
。
このため、特開昭48−43729号公報、特開昭6O
−15473号公報、特開昭62−43470号公報お
よび特開昭62−13472号公報に記載のカルボン酸
基を有するポリウレタン樹脂を用いて製造した磁気記録
媒体はカルボン酸基含有のポリウレタンと架橋剤との反
応が抑制されるために、組成物の硬化が不充分であり、
特に高温高湿度(50℃、90%相対湿度)下および低
温度(−10℃)下、さらには、温度サイクル(−10
℃〜40℃)下での実走行耐久性に劣るという欠点を有
していた。
−15473号公報、特開昭62−43470号公報お
よび特開昭62−13472号公報に記載のカルボン酸
基を有するポリウレタン樹脂を用いて製造した磁気記録
媒体はカルボン酸基含有のポリウレタンと架橋剤との反
応が抑制されるために、組成物の硬化が不充分であり、
特に高温高湿度(50℃、90%相対湿度)下および低
温度(−10℃)下、さらには、温度サイクル(−10
℃〜40℃)下での実走行耐久性に劣るという欠点を有
していた。
一方、(メタ)アクリル系二重結合を有する放射線硬化
性ポリウレタンを用いて製造した磁気記録媒体は、より
均一で優れた硬化性を得ることが期待できる。しかし、
特開昭48−43729号公報第3ページ右上欄〜左下
欄の記載にあるとおりポリウレタン鎖中のカルボン酸基
は、ウレタン結合基に近接して位置しており、このため
カルボン酸基とウレタン結合基間での水素結合が生起し
易く、また特開昭57−92421号公報第5ページ右
下欄の記故にあるとおりポリマー鎖中のカルボン酸基は
ポリマー鎮に近接して位置しており、ポリウレタン鎖中
でのカルボン酸基の運動の自由度が著しく制限を受は易
く、この為に磁性粉に対して必要にしてかつ十分なる分
散性能を発揮し得ないという問題点を有していた。
性ポリウレタンを用いて製造した磁気記録媒体は、より
均一で優れた硬化性を得ることが期待できる。しかし、
特開昭48−43729号公報第3ページ右上欄〜左下
欄の記載にあるとおりポリウレタン鎖中のカルボン酸基
は、ウレタン結合基に近接して位置しており、このため
カルボン酸基とウレタン結合基間での水素結合が生起し
易く、また特開昭57−92421号公報第5ページ右
下欄の記故にあるとおりポリマー鎖中のカルボン酸基は
ポリマー鎮に近接して位置しており、ポリウレタン鎖中
でのカルボン酸基の運動の自由度が著しく制限を受は易
く、この為に磁性粉に対して必要にしてかつ十分なる分
散性能を発揮し得ないという問題点を有していた。
本発明の目的は、磁性体に対する優れた分散性能を有す
ることに加え、常温下での優れた実走行耐久性はいうに
及ばず、高温高湿度(50℃、90%相対湿度)下およ
び低温度(−10℃)下、更には温度サイクル条件(−
10℃〜40℃)下といった幅広い使用環境下での優れ
た実走行耐久性を有する磁気記録媒体を与える放射線硬
化性磁性塗料に好適な放射線硬化性ポリウレタンを提供
することにある。
ることに加え、常温下での優れた実走行耐久性はいうに
及ばず、高温高湿度(50℃、90%相対湿度)下およ
び低温度(−10℃)下、更には温度サイクル条件(−
10℃〜40℃)下といった幅広い使用環境下での優れ
た実走行耐久性を有する磁気記録媒体を与える放射線硬
化性磁性塗料に好適な放射線硬化性ポリウレタンを提供
することにある。
また、本発明の更に他の目的は、磁気テープ、フロッピ
ーディスクといった磁気記録媒体の基板フィルムとして
汎用されているポリエステルフィルムに対する優れた密
着性を持ち、かつ機械的強度に優れた磁性塗膜を有する
磁気記録媒体を与える放射線硬化性ポリウレタンを提供
することにある。
ーディスクといった磁気記録媒体の基板フィルムとして
汎用されているポリエステルフィルムに対する優れた密
着性を持ち、かつ機械的強度に優れた磁性塗膜を有する
磁気記録媒体を与える放射線硬化性ポリウレタンを提供
することにある。
本発明は前記の問題点を解決するものとして、
(A)有機ジイソシアネート化合物と、(B)ジオール
化合物と、 (C)トリオール化合物ならびに分子内に水酸基を1個
以上有しかつ第1級および/または第2級アミノ基を2
個以上有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合
物と、 (D)分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレート化
合物とを反応させ、分子鎮中に放射線重合性(メタ)ア
クリロイル基を有し、かつ少なくとも1個の水酸基が残
存しているポリウレタンとなし、次いで該残存水酸基の
一部もしくは全部にジカルボン酸無水物を付加反応させ
ることを特徴とする放射線硬化性ポリウレタン(以下、
単に「ポリウレタン」という)の製造方法を提供するも
のである。
化合物と、 (C)トリオール化合物ならびに分子内に水酸基を1個
以上有しかつ第1級および/または第2級アミノ基を2
個以上有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合
物と、 (D)分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレート化
合物とを反応させ、分子鎮中に放射線重合性(メタ)ア
クリロイル基を有し、かつ少なくとも1個の水酸基が残
存しているポリウレタンとなし、次いで該残存水酸基の
一部もしくは全部にジカルボン酸無水物を付加反応させ
ることを特徴とする放射線硬化性ポリウレタン(以下、
単に「ポリウレタン」という)の製造方法を提供するも
のである。
このポリウレタンは、カルボキシル基をポリウレタン1
グラム当たり、通常、lXl0−’〜5X10−’グラ
ム当量、好ましくは、lX10−6〜5X10−3グラ
ム当量有する。カルボキシル基の含有量がポリウレタン
1グラム当たりlXl0−3グラム当量を越えるとポリ
ウレタンを磁性塗料として用いる際に通常使用される汎
用゛溶剤に対する溶解度が低下する傾向が有り、カルボ
キシル基の含有量がポリウレタン1グラム当たりlXl
0−’ダラム当量未満であるとl1fi性体に対する分
散性能が不十分となり、磁気記録特性の低下を招き易く
成る。
グラム当たり、通常、lXl0−’〜5X10−’グラ
ム当量、好ましくは、lX10−6〜5X10−3グラ
ム当量有する。カルボキシル基の含有量がポリウレタン
1グラム当たりlXl0−3グラム当量を越えるとポリ
ウレタンを磁性塗料として用いる際に通常使用される汎
用゛溶剤に対する溶解度が低下する傾向が有り、カルボ
キシル基の含有量がポリウレタン1グラム当たりlXl
0−’ダラム当量未満であるとl1fi性体に対する分
散性能が不十分となり、磁気記録特性の低下を招き易く
成る。
以下に、本発明の製造方法の各工程を説明する。
第一段階の工程として、分子鎖中および/または分子鎖
末【j1Δに水酸基を有するプレポリマーを製造する場
合の典型的な態様を以下に示す。
末【j1Δに水酸基を有するプレポリマーを製造する場
合の典型的な態様を以下に示す。
第1段階の工程において、
(A)下記−能代(a);
0CN−R’−NGO−−−−・−(a)〔式中、R1
は −(C1h) a−等の06〜C2゜の2価の炭化水素
基である。〕 で表わされるジイソシアネート化合物(以下、(A)成
分という)と、 (B)下記−能代(b−1)〜(b−4) :・・・
・・・ (b−1) 〔式中、12は、エチレン基、プロピレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等の6
2〜C6、好ましくは62〜C4のアルキレン基であり
、R3は、 C112C8= [:ll CL 、 CI =
Cl1−C113C=C1l 。
は −(C1h) a−等の06〜C2゜の2価の炭化水素
基である。〕 で表わされるジイソシアネート化合物(以下、(A)成
分という)と、 (B)下記−能代(b−1)〜(b−4) :・・・
・・・ (b−1) 〔式中、12は、エチレン基、プロピレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等の6
2〜C6、好ましくは62〜C4のアルキレン基であり
、R3は、 C112C8= [:ll CL 、 CI =
Cl1−C113C=C1l 。
■
([:L?r−、(C112h−、−((:Ihh−。
(Clhh−、(Clhh−2−〇二〇−等のC7〜C
8の2価の脂肪族基、脂環式基または芳香族であり、q
は、1〜50の数である。) +10(1120+T−It2−011 ・
・・・・・ (b−2)〔式中、R2は、−能代(b−
1) と同じであり、Sは1〜50の数である。〕 Cト13 〔式中、R2は、−能代(b−1) と同じであり、
tおよびUは同一でも異なってもよく、よれぞれ1〜2
0の数である。〕 (式中、R4は、 CI(3 CH3。
8の2価の脂肪族基、脂環式基または芳香族であり、q
は、1〜50の数である。) +10(1120+T−It2−011 ・
・・・・・ (b−2)〔式中、R2は、−能代(b−
1) と同じであり、Sは1〜50の数である。〕 Cト13 〔式中、R2は、−能代(b−1) と同じであり、
tおよびUは同一でも異なってもよく、よれぞれ1〜2
0の数である。〕 (式中、R4は、 CI(3 CH3。
−CHζ0→CH,C藺0→i CHζ−CR2−0−
C−CI = CH−C−0−CR2−1(式中、aは
O〜20、好ましくは1〜1oの整数であり、Xはフッ
素原子、塩素原子または臭素原子を意味する)等の置換
基を有していてもよい62〜cao s好ましくはc4
〜C4Sの2価の脂肪族基、脂環式基はまたは芳香族基
を意味し、前記例示のようにこれらの脂肪族基、脂環式
基および芳香族基は、その構造中に。
C−CI = CH−C−0−CR2−1(式中、aは
O〜20、好ましくは1〜1oの整数であり、Xはフッ
素原子、塩素原子または臭素原子を意味する)等の置換
基を有していてもよい62〜cao s好ましくはc4
〜C4Sの2価の脂肪族基、脂環式基はまたは芳香族基
を意味し、前記例示のようにこれらの脂肪族基、脂環式
基および芳香族基は、その構造中に。
−〇−1−C−〇−または−N−
Q R5
(R5は水素原子、水酸基または、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、アシル基、フェニル基、ベン
ジル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等の置換
基を有していてもよいC3〜Caの脂肪族基、脂環式基
もしくは芳香族基を意味する)等の置換基を有していて
もよい脂肪族基、脂環式基または芳香族基であり、ペテ
ロ原子を含んでいてもよく、■およびWは同一でも異な
フてもよい。それぞれ1〜20の数である。〕 で表わされる化合物から選ばれる少なくとも1稲の化合
物である、分子ff1200以上4000以下のジオー
ル化合物(以下、(B)成分という)と、 (C)分子ff190以上800以下のトリオール化合
物ならびに分子内に水酸基を1個以上有しかつ第1級お
よび/または第2級アミノ基を2個以上有する化合物か
ら選ばれる少なくとも1種の化合物(以下、(C)成分
という)と、(D)下記−能代(d−1)〜(d−3)
:C1l、 = CCOR’O)l ・
・・・・−・−(d−1)■ (式中、R6は水素原子またはメチル基であり、R7は
エチレン基、プロピレン基、ヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基などのC2〜Caのアルキレン基を示す、〕 (式中、R6は、式(d−1) と同じである。〕!
I (式中、R6は、式(d−1)と同じである。〕で表わ
される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物であ
る、(D)分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレー
ト化合物(以下、(D)成分という)と、 必要に応じて(E)下記−能代(e):〔式中、R6は
−(CHzCHzO)−−1H3 または、 CH3 で表わされる基であり、Xは1〜20の数であり、R8
は一般式(d−1)のR6と同様である。〕で表わされ
る、分子内に水酸基を2個以上有し、かつ(メタ)アク
リロイルを2個以上有する化合物(以下、(E)成分と
いう)とを、(A)成分のイソシアネート基の総量に対
して、(B)成分、(C)成分、(D)成分および必要
に応じて使用する(E)成分の水酸基、′AS1級アミ
ン基および第2級アミノ基の総量が化学ユ論的に過剰に
なる様に各成分を使用し、ウレタン結合および/または
ウレア結合を介して結合させることにより、分子内およ
び/または分子鎖末端に前記水酸基を有し、かつ放射線
硬化性(メタ)アクリロイル基を有するプレポリマーを
製造する。
、プロピル基、ブチル基、アシル基、フェニル基、ベン
ジル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等の置換
基を有していてもよいC3〜Caの脂肪族基、脂環式基
もしくは芳香族基を意味する)等の置換基を有していて
もよい脂肪族基、脂環式基または芳香族基であり、ペテ
ロ原子を含んでいてもよく、■およびWは同一でも異な
フてもよい。それぞれ1〜20の数である。〕 で表わされる化合物から選ばれる少なくとも1稲の化合
物である、分子ff1200以上4000以下のジオー
ル化合物(以下、(B)成分という)と、 (C)分子ff190以上800以下のトリオール化合
物ならびに分子内に水酸基を1個以上有しかつ第1級お
よび/または第2級アミノ基を2個以上有する化合物か
ら選ばれる少なくとも1種の化合物(以下、(C)成分
という)と、(D)下記−能代(d−1)〜(d−3)
:C1l、 = CCOR’O)l ・
・・・・−・−(d−1)■ (式中、R6は水素原子またはメチル基であり、R7は
エチレン基、プロピレン基、ヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基などのC2〜Caのアルキレン基を示す、〕 (式中、R6は、式(d−1) と同じである。〕!
I (式中、R6は、式(d−1)と同じである。〕で表わ
される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物であ
る、(D)分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレー
ト化合物(以下、(D)成分という)と、 必要に応じて(E)下記−能代(e):〔式中、R6は
−(CHzCHzO)−−1H3 または、 CH3 で表わされる基であり、Xは1〜20の数であり、R8
は一般式(d−1)のR6と同様である。〕で表わされ
る、分子内に水酸基を2個以上有し、かつ(メタ)アク
リロイルを2個以上有する化合物(以下、(E)成分と
いう)とを、(A)成分のイソシアネート基の総量に対
して、(B)成分、(C)成分、(D)成分および必要
に応じて使用する(E)成分の水酸基、′AS1級アミ
ン基および第2級アミノ基の総量が化学ユ論的に過剰に
なる様に各成分を使用し、ウレタン結合および/または
ウレア結合を介して結合させることにより、分子内およ
び/または分子鎖末端に前記水酸基を有し、かつ放射線
硬化性(メタ)アクリロイル基を有するプレポリマーを
製造する。
また、上記のプレポリマーの製法において用いられる(
D)成分の使用割合は、得られるプレポリマーに対して
、好ましくは0.2〜50重量%、特に好ましくは0.
5〜30重量%である。(D)成分の使用割合が50i
量%を越えると放射線によって硬化した塗膜の柔軟性が
失われ、塗膜の機械的特性が損なわれる。一方、(D)
成分がプレポリマーに対して0.2 li%未満である
と放射線による塗膜の硬化が不十分となり、磁性塗料と
して使用した場合、その実走行耐久性が低下する。
D)成分の使用割合は、得られるプレポリマーに対して
、好ましくは0.2〜50重量%、特に好ましくは0.
5〜30重量%である。(D)成分の使用割合が50i
量%を越えると放射線によって硬化した塗膜の柔軟性が
失われ、塗膜の機械的特性が損なわれる。一方、(D)
成分がプレポリマーに対して0.2 li%未満である
と放射線による塗膜の硬化が不十分となり、磁性塗料と
して使用した場合、その実走行耐久性が低下する。
また、上記の製法において、(B)成分の使用割合は、
得られるプレポリマーに対して、好ましくは30〜95
重量%、特に好ましくは45〜90瓜二%であり、その
使用割合が30重量%未満であると放射線によって硬化
した塗膜の柔軟性が失われ、塗膜の機械的特性が損なわ
れる。一方、(B)成分がプレポリマーに対して95重
量%を超えると(D)成分の含量が少なくなるため放射
線による硬化が不十分となる。
得られるプレポリマーに対して、好ましくは30〜95
重量%、特に好ましくは45〜90瓜二%であり、その
使用割合が30重量%未満であると放射線によって硬化
した塗膜の柔軟性が失われ、塗膜の機械的特性が損なわ
れる。一方、(B)成分がプレポリマーに対して95重
量%を超えると(D)成分の含量が少なくなるため放射
線による硬化が不十分となる。
このようにして得られるプレポリマー中の水酸基の含量
は、プレポリマー1g当り1×10−2〜lXl0−’
ダラム当量であるのが好ましい。
は、プレポリマー1g当り1×10−2〜lXl0−’
ダラム当量であるのが好ましい。
この第1段階の工程は、公知の方法に従って反応させれ
ば良く、ワンショット法、プレポリマー法等のいずれの
反応形態をとっても良い。
ば良く、ワンショット法、プレポリマー法等のいずれの
反応形態をとっても良い。
またこの第1工程において、(B)成分としては、前記
−能代(b−1)〜(b−4)で表わされる化合物以外
の、分子内にスルホン酸基、スルホン酸金属塩基、スル
ホン酸アルキルアンモニウム塩基、リン酸アルキルエス
テル基等を有するジオール化合物を用いることもできる
。
−能代(b−1)〜(b−4)で表わされる化合物以外
の、分子内にスルホン酸基、スルホン酸金属塩基、スル
ホン酸アルキルアンモニウム塩基、リン酸アルキルエス
テル基等を有するジオール化合物を用いることもできる
。
また、この第1工程おいて、鎖延長剤として、脂肪族ジ
アミン、脂環式ジアミン、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等の置換基を有するまたは有さない芳香族ジアミン
、ポリエーテルジアミン等を用いてもよい。これらの鎖
延長剤の具体例としては、エチレンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、シクロへキ
シルジアミン、パラフェニレンジアミン、ポリオキシエ
チレンジアミン、ポリプロとレンジアミン等を挙げるこ
とができる。
アミン、脂環式ジアミン、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等の置換基を有するまたは有さない芳香族ジアミン
、ポリエーテルジアミン等を用いてもよい。これらの鎖
延長剤の具体例としては、エチレンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、シクロへキ
シルジアミン、パラフェニレンジアミン、ポリオキシエ
チレンジアミン、ポリプロとレンジアミン等を挙げるこ
とができる。
上記第1工程の反応は、通常、ナフテン酸銅、ナフテン
酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸n−ブチルス
ズ、トリエチルアミン等の触媒を用いて実施される。こ
れらの触媒は、第1工程に用いる出発原料の総量100
重二重量対して0.01〜1瓜量部程度用いるのが好ま
しい。
酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸n−ブチルス
ズ、トリエチルアミン等の触媒を用いて実施される。こ
れらの触媒は、第1工程に用いる出発原料の総量100
重二重量対して0.01〜1瓜量部程度用いるのが好ま
しい。
ついで、第2段階の工程として、第1段階の工程で得ら
れたプレポリマーの水酸基の1部もしくは全部に後述す
るジカルボン酸無水物を付加反応させて、分子鎮中およ
び/または分子鎖末端にエステル結合を介してカルボン
酸を導入する。 ゛ この第2段階の工程において、加えるジカルボン酸無水
物の量は、プレポリマー中の水酸基の総量に対してモル
比で20〜100%であることが好ましい。
れたプレポリマーの水酸基の1部もしくは全部に後述す
るジカルボン酸無水物を付加反応させて、分子鎮中およ
び/または分子鎖末端にエステル結合を介してカルボン
酸を導入する。 ゛ この第2段階の工程において、加えるジカルボン酸無水
物の量は、プレポリマー中の水酸基の総量に対してモル
比で20〜100%であることが好ましい。
上記第2工程の反応は、水酸化ナトリウム等の無機塩類
、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基性化合物を
触媒として用いて実施することがでざる。触媒は第1工
程で得られたプレポリマー100重量部に対して好まし
くは0.001〜10重量部用いられる。
、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基性化合物を
触媒として用いて実施することがでざる。触媒は第1工
程で得られたプレポリマー100重量部に対して好まし
くは0.001〜10重量部用いられる。
上記第1、第2工程の反応は各工程の生成物を単離せず
に、逐次的に実施することができ、いずれの工程におい
ても、反応温度は30〜70℃とするのが好ましい。
に、逐次的に実施することができ、いずれの工程におい
ても、反応温度は30〜70℃とするのが好ましい。
上記各工程の反応においては溶媒を用いることができ、
該溶媒は、上記反応を阻害しないものであれば特に制限
されず、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイソブチル
ケトン、ジオキサン等が挙げられる。
該溶媒は、上記反応を阻害しないものであれば特に制限
されず、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイソブチル
ケトン、ジオキサン等が挙げられる。
次に、上述したポリウレタンの製法に用いられる各反応
成分化合物の具体例を示す。
成分化合物の具体例を示す。
−能代(a)で表わされる化合物としては、例えば、2
.4−トルエンジイソシアネート、2.B−トルエンジ
イソシアネート ソシアネート、1.4−キシレンジイソシアネー)−1
1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレン
ジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、
3.3′ −ジメチル−4,4’ −ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、 4.4’ −ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、3.3’ −ジメチルフェニレン
ジイソシアネート、 4.4’−ビフェニレンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフ
ォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネート、等が挙げられる。
.4−トルエンジイソシアネート、2.B−トルエンジ
イソシアネート ソシアネート、1.4−キシレンジイソシアネー)−1
1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレン
ジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、
3.3′ −ジメチル−4,4’ −ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、 4.4’ −ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、3.3’ −ジメチルフェニレン
ジイソシアネート、 4.4’−ビフェニレンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフ
ォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネート、等が挙げられる。
一般式(b−1)で表わされる化合物としては、例えば
、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラ
メチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、
1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、
1.4−シクロヘキサンジメタツールのような多価アル
コールとフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、フマール酸、アジピン酸、セパチン酸のような
多塩基酸とを反応して得られるポリエステルジオールが
挙げられる。
、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラ
メチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、
1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、
1.4−シクロヘキサンジメタツールのような多価アル
コールとフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、フマール酸、アジピン酸、セパチン酸のような
多塩基酸とを反応して得られるポリエステルジオールが
挙げられる。
−能代(b−2)で表わされる化合物としては、例えば
、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルジオ
ールが挙げられる。
、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルジオ
ールが挙げられる。
−能代(b−3)で表わされる化合物としては、例えば
、ビスフェノールAのエチレンオキサイドまたはプロピ
レンオキサイドのアルキレンオキサイド付加物等のポリ
エーテルジオールが挙げられる。
、ビスフェノールAのエチレンオキサイドまたはプロピ
レンオキサイドのアルキレンオキサイド付加物等のポリ
エーテルジオールが挙げられる。
一般式(b−4)で表わされる化合物としては、カプロ
ラクトンの開環反応等によって得られるポリカプロラク
トンジオールを挙げることができる。
ラクトンの開環反応等によって得られるポリカプロラク
トンジオールを挙げることができる。
(C)成分のうち、分子量90以上aOO以下のトリオ
ール化合物としては、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、グリセリンのエチレンオキサイド付加体、グリセ
リンのエチレンオキサイド付加体、2−メチルプロパン
−1,2,3−トリオール、4−(ビス(2−ヒドロキ
シエチル))−2−ヒドロキシペンタン、3−メチルペ
ンタン−1,3,5−)−リオール、1,2.6−ヘキ
サンジオール、1−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミ
ノ−2−プロパツール(N−イソプロパツールジェタノ
ールアミン)、ジェタノールアミンのプロピレンオキサ
イド付加物、N−イソプロパツールジェタノールアミン
のエチレンオキサイド付加物等があげられる。
ール化合物としては、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、グリセリンのエチレンオキサイド付加体、グリセ
リンのエチレンオキサイド付加体、2−メチルプロパン
−1,2,3−トリオール、4−(ビス(2−ヒドロキ
シエチル))−2−ヒドロキシペンタン、3−メチルペ
ンタン−1,3,5−)−リオール、1,2.6−ヘキ
サンジオール、1−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミ
ノ−2−プロパツール(N−イソプロパツールジェタノ
ールアミン)、ジェタノールアミンのプロピレンオキサ
イド付加物、N−イソプロパツールジェタノールアミン
のエチレンオキサイド付加物等があげられる。
これらのトリオールはいずれもイソシアネート基との反
応性がほぼ等しい2個の第1級水酸基とそれより反応性
の低い1個の第2級水酸基を有しているものが好ましい
。この第2級水酸基は上記の第1級水酸基と比較してイ
ソシアネート基との反応性が低いために、第1級水酸基
の方がジイソシアネート基と選択的に反応することから
、ポリウレタン樹脂の分子鎖に側鎖として水酸基を残存
させることができる。
応性がほぼ等しい2個の第1級水酸基とそれより反応性
の低い1個の第2級水酸基を有しているものが好ましい
。この第2級水酸基は上記の第1級水酸基と比較してイ
ソシアネート基との反応性が低いために、第1級水酸基
の方がジイソシアネート基と選択的に反応することから
、ポリウレタン樹脂の分子鎖に側鎖として水酸基を残存
させることができる。
どの水酸基にする必要がある。
また、(C)成分のうち分子内に水酸基を1個以上有し
かつ第1級および/または第2級アミン基を2個以上有
する化合物としては。
かつ第1級および/または第2級アミン基を2個以上有
する化合物としては。
例えば分子中にエポキシ基を2個以上含む化合物と、エ
ポキシ基と当量以上のアンモニアまたは第一級アミンと
を反応させて得ることができる。
ポキシ基と当量以上のアンモニアまたは第一級アミンと
を反応させて得ることができる。
上記分子中にエポキシ基を2個以上含む化合物としては
、ビスフェノールA1ハロゲン化ビスフエノール、水添
ビスフェノールA1ビスフエノールF、カテコール、レ
ゾルシノール等の多価フェノールとエピクロルヒドリン
とを反応させて得られる多価フェノールのグリシジルエ
ーテル:エチレングリコール、ポリエチレングリコール
、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンを反応さ
せて得られる多価アルコールのグリシジルエーテル、フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、ア
ジピン酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンを反応して
得られる多塩基酸のグリシジルエステル、ノボラック型
フェノール樹脂とエピクロルヒドリンを反応して得られ
るエポキシノボラック:アニリン、4.4’ −ジア
ミノジフェニルメタンのようなポリアミンとエピクロル
ヒドリンを反応して得られるグリシジルアミン:ビニル
シクロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジェンジオ
キシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)フタレート等
の脂環式エポキシ化合物:エポキシ化されたポリブタジ
ェン類等が挙げらねる。
、ビスフェノールA1ハロゲン化ビスフエノール、水添
ビスフェノールA1ビスフエノールF、カテコール、レ
ゾルシノール等の多価フェノールとエピクロルヒドリン
とを反応させて得られる多価フェノールのグリシジルエ
ーテル:エチレングリコール、ポリエチレングリコール
、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンを反応さ
せて得られる多価アルコールのグリシジルエーテル、フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、ア
ジピン酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンを反応して
得られる多塩基酸のグリシジルエステル、ノボラック型
フェノール樹脂とエピクロルヒドリンを反応して得られ
るエポキシノボラック:アニリン、4.4’ −ジア
ミノジフェニルメタンのようなポリアミンとエピクロル
ヒドリンを反応して得られるグリシジルアミン:ビニル
シクロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジェンジオ
キシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)フタレート等
の脂環式エポキシ化合物:エポキシ化されたポリブタジ
ェン類等が挙げらねる。
上記第一級アミンとしてはエチルアミン、プロピルアミ
ン、ブチルアミン、アミルアミン等のJlj族アジアミ
ンニリン、ベンジルアミン等の芳香族アミン:シクロペ
ンチルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂環式アミン
:モノエタノールアミン、モノイソプロパツールアミン
等のアミノアルコール等が挙げられ、N−(β−アミノ
エチル)エタノールアミン、N、N’ −ジメチル−2
−ヒドロキシ−プロパン−1,3−ジアミン、ヒドロキ
シエチルジアミノプロパン、N−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピペラジン、N−2−オキシプロピルエチレンシア
ミン等も用いることができる。
ン、ブチルアミン、アミルアミン等のJlj族アジアミ
ンニリン、ベンジルアミン等の芳香族アミン:シクロペ
ンチルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂環式アミン
:モノエタノールアミン、モノイソプロパツールアミン
等のアミノアルコール等が挙げられ、N−(β−アミノ
エチル)エタノールアミン、N、N’ −ジメチル−2
−ヒドロキシ−プロパン−1,3−ジアミン、ヒドロキ
シエチルジアミノプロパン、N−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピペラジン、N−2−オキシプロピルエチレンシア
ミン等も用いることができる。
これらの化合物は、水rt7.基も第一級アミノ基およ
び/または第二級アミン基もイソシアネート基と反応す
るが、第一級アミノ基および/または第二級アミノ基の
方がイソシアネート基に対し反応性が高いため第一級ア
ミノ基および/または第二級アミノ基が選択的にイソシ
アネート基と反応することから、ポリウレタンの分子鎖
に側鎖として水酸基を残存させることができる。
び/または第二級アミン基もイソシアネート基と反応す
るが、第一級アミノ基および/または第二級アミノ基の
方がイソシアネート基に対し反応性が高いため第一級ア
ミノ基および/または第二級アミノ基が選択的にイソシ
アネート基と反応することから、ポリウレタンの分子鎖
に側鎖として水酸基を残存させることができる。
−e式(d−1)で表わされる化合物としては、例えば
、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シオクチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シオクチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また−能代(d−2)で表わされる化合物としては、例
えばグリセリンジ(メタ)アクリレートが挙げられ、−
能代(d−3)で表わされる化合物としては、例えばペ
ンタエリスルトールトリ(メタ)アクリレートが挙げら
れる。
えばグリセリンジ(メタ)アクリレートが挙げられ、−
能代(d−3)で表わされる化合物としては、例えばペ
ンタエリスルトールトリ(メタ)アクリレートが挙げら
れる。
−能代(81で表わされる化合物としては、1分子中に
エポキシ基を2個含むジェポキシ化合物1モルに対して
、カルボキシル基を有するアクリル系およびメタクリル
系化合物ならびに水酸基を有するアクリル系およびメタ
クリル系化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物
1モル以上を反応させ、反応系全体のエポキシ基が消失
するまで、付加重合することによって合成されるジオー
ル化合物を挙げることができる。ここにおけるジェポキ
シ化合物としては、例えばビスフェノールAとエピクロ
ルヒドリンとを反応させて得られる多価フェノールのグ
リシジルエーテル;エチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ボリプロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール等の多価アルコールとエピクロルヒドリ
ンとを反応させて得られる多価アルコールのグリシジル
エーテル等を挙げることができる。
エポキシ基を2個含むジェポキシ化合物1モルに対して
、カルボキシル基を有するアクリル系およびメタクリル
系化合物ならびに水酸基を有するアクリル系およびメタ
クリル系化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物
1モル以上を反応させ、反応系全体のエポキシ基が消失
するまで、付加重合することによって合成されるジオー
ル化合物を挙げることができる。ここにおけるジェポキ
シ化合物としては、例えばビスフェノールAとエピクロ
ルヒドリンとを反応させて得られる多価フェノールのグ
リシジルエーテル;エチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ボリプロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール等の多価アルコールとエピクロルヒドリ
ンとを反応させて得られる多価アルコールのグリシジル
エーテル等を挙げることができる。
本発明で用いられるジカルボン酸無水物としては、
無水イサト酸、無水イタコン酸、無水グルタル酸、無水
2−クロロマレイン酸、無水こはく酸、無水ジクロロマ
レイン酸、無水ジグリコール酸、無水1.2−シクロヘ
キサンジカルボン酸、無水シトラコン酸、無水ジフェン
酸、無水2.2−ジメチルゲルタン酸、無水2.3−ジ
メチルマレイン酸、無水テトラクロロフタル酸、無水c
is−Δ4−テトラヒドロフタル酸、無水テトラブロモ
フタル酸、無水1−ドデセニルこはく酸、無水1.8−
ナフタリンジカルボン酸、無水1.8−ナフタル酸、無
水3−ニトロフタル酸、無水5−ノルボルネン−2,3
−ジカルボン酸、無水2.3−とリジンジカルボン酸、
無水フタル酸、無水マレイン酸等が挙げられ、特に無水
マレイン酸、無水イタコン酸、無水1.2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、無水フタル酸、無水5−ノルボルネ
ン−2,3−ジカルボン酸等が好ましい。
2−クロロマレイン酸、無水こはく酸、無水ジクロロマ
レイン酸、無水ジグリコール酸、無水1.2−シクロヘ
キサンジカルボン酸、無水シトラコン酸、無水ジフェン
酸、無水2.2−ジメチルゲルタン酸、無水2.3−ジ
メチルマレイン酸、無水テトラクロロフタル酸、無水c
is−Δ4−テトラヒドロフタル酸、無水テトラブロモ
フタル酸、無水1−ドデセニルこはく酸、無水1.8−
ナフタリンジカルボン酸、無水1.8−ナフタル酸、無
水3−ニトロフタル酸、無水5−ノルボルネン−2,3
−ジカルボン酸、無水2.3−とリジンジカルボン酸、
無水フタル酸、無水マレイン酸等が挙げられ、特に無水
マレイン酸、無水イタコン酸、無水1.2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、無水フタル酸、無水5−ノルボルネ
ン−2,3−ジカルボン酸等が好ましい。
本発明により得られるポリウレタンの分子量は、通常、
2,000〜100,000、好ましくは4,000〜
60,000である。この分子量が2,000未満の場
合は、放射線によって硬化した塗膜の強度が低下し、分
子量が100,000を超えると塗料を調製する際、溶
液の粘度が高くなりその取り扱いが困難となるだけでな
く、特に磁性塗料として調製する際には粘度低減のため
に必要な溶剤が多量となり経済的でない。
2,000〜100,000、好ましくは4,000〜
60,000である。この分子量が2,000未満の場
合は、放射線によって硬化した塗膜の強度が低下し、分
子量が100,000を超えると塗料を調製する際、溶
液の粘度が高くなりその取り扱いが困難となるだけでな
く、特に磁性塗料として調製する際には粘度低減のため
に必要な溶剤が多量となり経済的でない。
本発明により得られるポリウレタンは、他の配合成分と
ともに適当な有機溶媒を媒体と混合することにより放射
線硬化性塗料をすることができる。ここで用いられる有
機溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイ
ソブチルケトン、ジオキサン等が挙げられる。
ともに適当な有機溶媒を媒体と混合することにより放射
線硬化性塗料をすることができる。ここで用いられる有
機溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイ
ソブチルケトン、ジオキサン等が挙げられる。
この放射線硬化性塗料の調製においては、必要に応じて
本発明に用いられるポリウレタン以外の放射線重合性二
重結合を有する重合体、放射線重合性二重結合を有する
単量体化合物、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセ
タール、ポリウレタン、ポリエステル、分子内にスルホ
ン酸および/またはスルホン酸金属塩基を有するポリエ
ステル、エポキシ樹脂、エポキシウレタン樹脂、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、水酸基含
有塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プロ
ピオン酸ビニル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−プロ
ピオン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−酢
酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニ
リデン、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン
−メタクリル酸エステル共重合体、フェノキシ樹脂、ニ
トロセルローズ、硝化綿、ケトン樹脂、(メタ)ア゛ク
リル酸重合体、(メタ)アクリル酸エステル瓜合体、ポ
リイミド樹脂、1.3−ペンタジェン樹脂、エポキシ化
1.3−ペンタジェン樹脂、ヒドロキシル化1,3−ペ
ンタジェン樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−アクリ
ロニトリル共重合体、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキ
ッド樹脂、アクリロニトリル−ブタジェンスチレン共重
合体等を配合してもよい。
本発明に用いられるポリウレタン以外の放射線重合性二
重結合を有する重合体、放射線重合性二重結合を有する
単量体化合物、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセ
タール、ポリウレタン、ポリエステル、分子内にスルホ
ン酸および/またはスルホン酸金属塩基を有するポリエ
ステル、エポキシ樹脂、エポキシウレタン樹脂、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、水酸基含
有塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プロ
ピオン酸ビニル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−プロ
ピオン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−酢
酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニ
リデン、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン
−メタクリル酸エステル共重合体、フェノキシ樹脂、ニ
トロセルローズ、硝化綿、ケトン樹脂、(メタ)ア゛ク
リル酸重合体、(メタ)アクリル酸エステル瓜合体、ポ
リイミド樹脂、1.3−ペンタジェン樹脂、エポキシ化
1.3−ペンタジェン樹脂、ヒドロキシル化1,3−ペ
ンタジェン樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−アクリ
ロニトリル共重合体、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキ
ッド樹脂、アクリロニトリル−ブタジェンスチレン共重
合体等を配合してもよい。
なお、本発明により得られるポリウレタンを用いた放射
線硬化性塗料の粘度は、通常、2.000〜40,00
0(cps) 、好ましくは4 、000〜20.00
0(cps)であり、固形分濃度は、通常、20〜80
重量%、好ましくは30〜60重量%である。
線硬化性塗料の粘度は、通常、2.000〜40,00
0(cps) 、好ましくは4 、000〜20.00
0(cps)であり、固形分濃度は、通常、20〜80
重量%、好ましくは30〜60重量%である。
本発明により得られるポリウレタンを用いた放射線硬化
性塗料を硬化させるために使用する放射線としては、例
えば、電子線、γ−線、中性子線、β−線、X線等が挙
げられる。これらのうちで放射線量の制御および放射線
照射装誼の設二の容易性の点から、電子線が好ましい。
性塗料を硬化させるために使用する放射線としては、例
えば、電子線、γ−線、中性子線、β−線、X線等が挙
げられる。これらのうちで放射線量の制御および放射線
照射装誼の設二の容易性の点から、電子線が好ましい。
電子線の加速電圧は、好ましくは100〜750kVで
あり、その照肘量は塗膜の吸収線量が0.5〜20メガ
ラツドになる様に制御するのが好ましい。
あり、その照肘量は塗膜の吸収線量が0.5〜20メガ
ラツドになる様に制御するのが好ましい。
本発明により得られるポリウレタンを用いた放射線硬化
性塗料を磁性塗料として使用する際には、y−Fe20
3、Fe3O4,7−Fe20sとFe3O4の中間の
酸化状態の酸化鉄、Co含含有−Fe、0.、C。
性塗料を磁性塗料として使用する際には、y−Fe20
3、Fe3O4,7−Fe20sとFe3O4の中間の
酸化状態の酸化鉄、Co含含有−Fe、0.、C。
含有Fe3O4,Go金含有y−Fe203とFe、0
4の中間の酸化状態の酸化鉄、前記酸化鉄をざらに還啓
金属元素等の金属元素を含有させたもの、前記酸化鉄に
CO酸化物または水酸化物を主体とした被覆層を形成し
たもの、CrO2、Cry、の表面を還元処理してCr
2O5層を形成したもの、Fe%C01Ni等の金属も
しくはこれらの合金またはこれらに金属元素もしくは還
啓金属元素等の金属元素を含有させたもの、バリウムフ
ェライト等の磁性粉を本発明により得られるポリウレタ
ンを用いた放射線硬化性塗料に対して、通常、75〜8
5重ユ%配合して用いる。
4の中間の酸化状態の酸化鉄、前記酸化鉄をざらに還啓
金属元素等の金属元素を含有させたもの、前記酸化鉄に
CO酸化物または水酸化物を主体とした被覆層を形成し
たもの、CrO2、Cry、の表面を還元処理してCr
2O5層を形成したもの、Fe%C01Ni等の金属も
しくはこれらの合金またはこれらに金属元素もしくは還
啓金属元素等の金属元素を含有させたもの、バリウムフ
ェライト等の磁性粉を本発明により得られるポリウレタ
ンを用いた放射線硬化性塗料に対して、通常、75〜8
5重ユ%配合して用いる。
さらに、上記磁性粉以外に大豆油レシチン、シリコーン
オイル等の潤滑剤などの添加剤を使用してもよい。
オイル等の潤滑剤などの添加剤を使用してもよい。
本発明により得られるポリウレタンを用いたの放射線硬
化性塗料は、特に磁性塗料として被塗布材(基体:ベー
スフィルム)、例えば、ポリエチレンテレフタレート等
のポリエステル;ポリプロピレン等のポリオレフィン:
セルローストリアセテート、セルロースジアセテート等
のセルロース誘導体:ボリカーボネート;ポリ塩化ビニ
ル;ポリイミド;アルミニウム、銅等の非磁性金属;紙
等に塗布し、磁場配向処理を行ない乾燥した後、前記の
通り放射線を照射し、磁性塗料の塗膜を硬化させること
により優れた磁気記録媒体を作製することができる。
化性塗料は、特に磁性塗料として被塗布材(基体:ベー
スフィルム)、例えば、ポリエチレンテレフタレート等
のポリエステル;ポリプロピレン等のポリオレフィン:
セルローストリアセテート、セルロースジアセテート等
のセルロース誘導体:ボリカーボネート;ポリ塩化ビニ
ル;ポリイミド;アルミニウム、銅等の非磁性金属;紙
等に塗布し、磁場配向処理を行ない乾燥した後、前記の
通り放射線を照射し、磁性塗料の塗膜を硬化させること
により優れた磁気記録媒体を作製することができる。
〔実施例)
以下、本発明を合成例および実施例によってさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例を限定されるも
のではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例を限定されるも
のではない。
なお、以下の合成例において、分子量は浸透圧法によっ
て求めた値である。
て求めた値である。
実施例1
温度計、攪拌器およびA流冷却管を僅えたフラスコに、
2.4−トルエンジイソシアネート102.9g、ジブ
チルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチルケ
トンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比50 :
50)200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながらアジピン酸と
ブタンジオールの共重合体であるポリエステルジオール
(日本ポリウレタン社製、ニラポラン4009) 14
4.1g、ポリキシエチレンビスフェノールAエーテル
(日本油脂社製、D^−350F)107、[ig、ビ
スフェノールAプロピレンオキサイド話導体のアクリル
酸付加物(共栄社油脂社製、エポキシエステル3002
A 、以下特定ヒドロキシル化合物(1)と呼ぶ) 3
5.1g 、およびメチルエチルケトンとシクロヘキサ
ノンの混合溶媒(容量比50 : 50)400gを均
一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間
反応させた。
2.4−トルエンジイソシアネート102.9g、ジブ
チルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチルケ
トンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比50 :
50)200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながらアジピン酸と
ブタンジオールの共重合体であるポリエステルジオール
(日本ポリウレタン社製、ニラポラン4009) 14
4.1g、ポリキシエチレンビスフェノールAエーテル
(日本油脂社製、D^−350F)107、[ig、ビ
スフェノールAプロピレンオキサイド話導体のアクリル
酸付加物(共栄社油脂社製、エポキシエステル3002
A 、以下特定ヒドロキシル化合物(1)と呼ぶ) 3
5.1g 、およびメチルエチルケトンとシクロヘキサ
ノンの混合溶媒(容量比50 : 50)400gを均
一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間
反応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシエチルアクリレート2.
78を加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、グ
リセリン3.7gを加え、40℃で4時間反応させた。
78を加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、グ
リセリン3.7gを加え、40℃で4時間反応させた。
次いでこれに、無水マレイン酸3.9g、およびピリジ
ン3.2gを加え、70℃で5時間反応させた。
ン3.2gを加え、70℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確聞した。
ート基が残存していないことを確聞した。
この様にして得た重合体を重合体(A)とする。
重合体(A)の分子量と、カルボキシル基含量を第1表
に示す。
に示す。
実施例2
温度計、攪拌器および通流冷却管を備えたフラスコに、
2.4−トルエンジイソシアネート103.8g、ジブ
チルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチルケ
トンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比30 :
70)200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながら、アジピン酸
とエチレングリコールの共重合体であるポリエステルジ
オール(日本ポリウレタン社製、ニラボラン4002)
147.0g、ポリオキシプロピレンビスフェノール
Aエーテル(日本油脂社製、D^−400)25.2g
、特定ヒドロキシル化合物(1) 51.7g、およ
びメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(
容量比30 : 70)400gを均一に混合したもの
を滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた。
2.4−トルエンジイソシアネート103.8g、ジブ
チルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチルケ
トンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比30 :
70)200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながら、アジピン酸
とエチレングリコールの共重合体であるポリエステルジ
オール(日本ポリウレタン社製、ニラボラン4002)
147.0g、ポリオキシプロピレンビスフェノール
Aエーテル(日本油脂社製、D^−400)25.2g
、特定ヒドロキシル化合物(1) 51.7g、およ
びメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(
容量比30 : 70)400gを均一に混合したもの
を滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシエチルアクリレート7.
7gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、1
,2.6−ヘキサンドリオール32.0gを加え、40
℃で4時間反応させた。
7gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、1
,2.6−ヘキサンドリオール32.0gを加え、40
℃で4時間反応させた。
次いでこれに無水イサト酸32.6g 、およびピリジ
ン7.9gを加え、70℃で5時間反応させた。
ン7.9gを加え、70℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(B)とする。
重合体(B)の分子量と、カルボキシル基含量を第1表
に示す。
に示す。
実施例3
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
2.4−トルエンジイソシアネート89.3g 、ジブ
チルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチルケ
トンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比70 :
30)200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながら、ポリテトラ
メチレングリコール(デュポン社製、テラタン650)
35.5g 、ポリオキシアルキレンビスフェノールA
エーテル(日本油脂社製、 DB−900) 196.
8g。
2.4−トルエンジイソシアネート89.3g 、ジブ
チルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチルケ
トンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比70 :
30)200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながら、ポリテトラ
メチレングリコール(デュポン社製、テラタン650)
35.5g 、ポリオキシアルキレンビスフェノールA
エーテル(日本油脂社製、 DB−900) 196.
8g。
エチレングリコールジグリシジルエーテルのメタクリル
酸付加物(共末社油脂社製、エポキシエステル40EM
:以下特定ヒドロキシル化合物(■1)と呼ぶ) 65
.7g 、およびメチルエチルケトンとシクロヘキサノ
ンの混合溶媒(容量比70 : 30)400gを均一
に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反
応させた。
酸付加物(共末社油脂社製、エポキシエステル40EM
:以下特定ヒドロキシル化合物(■1)と呼ぶ) 65
.7g 、およびメチルエチルケトンとシクロヘキサノ
ンの混合溶媒(容量比70 : 30)400gを均一
に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反
応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシエチルアクリレート2.
3gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルとブチルアミン
の反応生成物(以下、「特定アミン付加体(■)」とい
う) 8.2gを加え、40℃で4時間反応させた。
3gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルとブチルアミン
の反応生成物(以下、「特定アミン付加体(■)」とい
う) 8.2gを加え、40℃で4時間反応させた。
次いでこれに無水イタコン酸1.3g、およびピリジン
1.0gを加え、70℃で5時間反応させた。
1.0gを加え、70℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(C)とする。
重合体(C)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
実施例4
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
イソホロンジイソシアネート183.3g、ジブチルス
ズジラウレート1.2g、およびテトラヒドロフラン2
00gを加え60℃に加温したのち、滴下ロートより系
の温度が上昇しない様注意しながらポリテトラメチレン
グリコール(三に化成工業社製、 PTMGlooO)
5.6g。
イソホロンジイソシアネート183.3g、ジブチルス
ズジラウレート1.2g、およびテトラヒドロフラン2
00gを加え60℃に加温したのち、滴下ロートより系
の温度が上昇しない様注意しながらポリテトラメチレン
グリコール(三に化成工業社製、 PTMGlooO)
5.6g。
およびテトラヒドロフラン400gを均一に混合したも
のを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた。
のを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシエチルアクリレート4.
6gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、N
−(β−アミノエチル)エタノールアミン83.2gを
加え、40℃で4時間反応させた。
6gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち、N
−(β−アミノエチル)エタノールアミン83.2gを
加え、40℃で4時間反応させた。
次いでこれに無水1.2−シクロヘキサンジカルボン酸
123.0g、およびピリジン6.3gを加え、70℃
で5時間反応させた。
123.0g、およびピリジン6.3gを加え、70℃
で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(D)とする。
重合体(D)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
実施例5
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
イソホロンジイソシアネート99.2g、ジブチルスズ
ジラウレート1.2g、およびシクロへキサノン200
gを加え60℃に加温したのち滴下ロートより系の温度
が上昇しない様注意しながら、ポリテトラメチレングリ
コール(三菱化成工業社製、 PTMG2000) 2
9.8g 、ポリオキシアルキレンビスフェノールAエ
ーテル(日本油脂社製、DA−350F) 1.2g、
特定ヒドロキシル化合物(II ’> 31.8g 、
およびシクロへキサノン400gを均一に混合したもの
を鏑下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた。
イソホロンジイソシアネート99.2g、ジブチルスズ
ジラウレート1.2g、およびシクロへキサノン200
gを加え60℃に加温したのち滴下ロートより系の温度
が上昇しない様注意しながら、ポリテトラメチレングリ
コール(三菱化成工業社製、 PTMG2000) 2
9.8g 、ポリオキシアルキレンビスフェノールAエ
ーテル(日本油脂社製、DA−350F) 1.2g、
特定ヒドロキシル化合物(II ’> 31.8g 、
およびシクロへキサノン400gを均一に混合したもの
を鏑下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
2.3gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、ビスフェノールA1ジグリシジルエーテルおよびプロ
ピルアミンの反応生成物(以下「特定アミン付加体(I
I)」という)188.3gを加え、40℃で4時間反
応させた。
2.3gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、ビスフェノールA1ジグリシジルエーテルおよびプロ
ピルアミンの反応生成物(以下「特定アミン付加体(I
I)」という)188.3gを加え、40℃で4時間反
応させた。
次いでこれに無水フタル酸47.4g 、およびピリジ
ン1gを加え、70℃で5時間反応させた。
ン1gを加え、70℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(E)とする。
重合体(E)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
実施例6
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
4.4’ −ジフェニルメタンジイソシアネート89.
2g 、ジブチルスズジラウレート1.2g、およびメ
チルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量
比50 : 50)Zo。
4.4’ −ジフェニルメタンジイソシアネート89.
2g 、ジブチルスズジラウレート1.2g、およびメ
チルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量
比50 : 50)Zo。
gを加え60℃に加温したのち滴下ロートより系の温度
が上昇しない様注意しながら、ポリオキシアルキレンビ
スフェノールAエーテル(日本油脂社製、 DB−90
0) 289.9g、ポリプロピレングリコール#40
0ジグリシジルエーテルとアクリル酸の反応生成物(以
下、「特定ヒドロキシル化合物(III)Jという)
19.2g 、およびメチルエチルケトンとシクロヘキ
サノンの混合溶媒(容量比50 : 50)400gを
均一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時
間反応させた。
が上昇しない様注意しながら、ポリオキシアルキレンビ
スフェノールAエーテル(日本油脂社製、 DB−90
0) 289.9g、ポリプロピレングリコール#40
0ジグリシジルエーテルとアクリル酸の反応生成物(以
下、「特定ヒドロキシル化合物(III)Jという)
19.2g 、およびメチルエチルケトンとシクロヘキ
サノンの混合溶媒(容量比50 : 50)400gを
均一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時
間反応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
1.7gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、N、N’ −ジメチル2−ヒドロキシプロパン−1,
3ジアミン0.07gを加え、40℃で4時間反応させ
た。
1.7gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、N、N’ −ジメチル2−ヒドロキシプロパン−1,
3ジアミン0.07gを加え、40℃で4時間反応させ
た。
次いでこれに無水イサト酸0.03g 、およびトリエ
チルアミン0.03gを加え、70℃で5時間反応させ
た。
チルアミン0.03gを加え、70℃で5時間反応させ
た。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(、F)とする。
重合体(F)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
実施例7
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート122.
3g、ジブチルスズジラウレート1.2g、およびテト
ラヒドロフラン200gを加え60℃に加温したのち滴
下ロートより系の温度が上昇しない様注意しながら、ポ
リカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業社製、プ
ラクセル212N7.5g 、ポリオキシプロピレンビ
スフェノールAエーテル(日本油脂社製、 DA−40
0) 18.8g 、特定ヒドロキシル化合物(III
)201.0g、およびテトラヒドロフラン400g
を均−に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4
時間反応させた。
4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート122.
3g、ジブチルスズジラウレート1.2g、およびテト
ラヒドロフラン200gを加え60℃に加温したのち滴
下ロートより系の温度が上昇しない様注意しながら、ポ
リカプロラクトンジオール(ダイセル化学工業社製、プ
ラクセル212N7.5g 、ポリオキシプロピレンビ
スフェノールAエーテル(日本油脂社製、 DA−40
0) 18.8g 、特定ヒドロキシル化合物(III
)201.0g、およびテトラヒドロフラン400g
を均−に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4
時間反応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
1.3gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、グリセリンlG、2gを加え、40℃で4時間反応さ
せた。
1.3gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、グリセリンlG、2gを加え、40℃で4時間反応さ
せた。
次いでこれに無水イタコン酸9.0g、およびトリエチ
ルアミン4゜Ogを加え、70℃で5時間反応させた。
ルアミン4゜Ogを加え、70℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(G)とする。
重合体(G)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
実施例8
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
4.4’ −ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ
ート139.1g、ジブチルスズジラウレート1.2g
、およびシクロへキサノン200gを加え60℃に加温
したのち滴下ロートより系の温度が上昇しない様注意し
ながら、ポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工
業社製、プラクセル205AL)254.7g、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加
物(共栄社油脂社製、70P^二以下特定ヒドロキシル
化合物(1v)と呼ぶ) 2.1g、およびシクロへキ
サノン400gを均一に混合したものを滴下し、滴下終
了後60℃で4時間反応させた。
4.4’ −ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ
ート139.1g、ジブチルスズジラウレート1.2g
、およびシクロへキサノン200gを加え60℃に加温
したのち滴下ロートより系の温度が上昇しない様注意し
ながら、ポリカプロラクトンジオール(ダイセル化学工
業社製、プラクセル205AL)254.7g、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加
物(共栄社油脂社製、70P^二以下特定ヒドロキシル
化合物(1v)と呼ぶ) 2.1g、およびシクロへキ
サノン400gを均一に混合したものを滴下し、滴下終
了後60℃で4時間反応させた。
次いでこれに、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
3.4gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、1,2.6−ヘキサンドリオール0.4gを加え、4
0℃で4時間反応させた。
3.4gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、1,2.6−ヘキサンドリオール0.4gを加え、4
0℃で4時間反応させた。
次いでこれに無水1.2−シクロヘキサンジカルボン酸
0.3g、およびトリエチルアミン0.1gを加え、7
0℃で5時間反応させた。
0.3g、およびトリエチルアミン0.1gを加え、7
0℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(H)とする。
重合体(H)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
実施例9
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
4.4’ −ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
88.1g 、ジブチルスズジラウレート1.2g、お
よびメチルエチルケトン2008を加え60℃に加温し
たのち滴下ロートより系の温度が上昇しない様注意しな
がら、アジピン酸とエチレングリコールの共重合体であ
るポリエステルジオール(日本ポリウレタン社製、ニラ
ポラン4040) 219.4g、ポリオキシアルキレ
ンビスフェノールAエーテル(日本油脂社製、0^−3
5OF)23.4g 、特定ヒドロキシル化合物(1v
)19.98.およびメチルエチルケトン400gを均
一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間
反応させた。
4.4’ −ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
88.1g 、ジブチルスズジラウレート1.2g、お
よびメチルエチルケトン2008を加え60℃に加温し
たのち滴下ロートより系の温度が上昇しない様注意しな
がら、アジピン酸とエチレングリコールの共重合体であ
るポリエステルジオール(日本ポリウレタン社製、ニラ
ポラン4040) 219.4g、ポリオキシアルキレ
ンビスフェノールAエーテル(日本油脂社製、0^−3
5OF)23.4g 、特定ヒドロキシル化合物(1v
)19.98.およびメチルエチルケトン400gを均
一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間
反応させた。
次いでこれにペンタエリスリトールトリアクリレート3
9.8gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、特定アミン付加体(I ) 6.5gを加え、40℃
で4時間反応させた。
9.8gを加え、さらに60℃で2時間反応させたのち
、特定アミン付加体(I ) 6.5gを加え、40℃
で4時間反応させた。
次いでこれに無水フタル酸3.Og、およびトリエチル
アミン0.5gを加え、70℃で5時間反応させた。
アミン0.5gを加え、70℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(1)とする。
重合体(I)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
実施例10
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
2.4− )ルエンジイソシアネート82.5g 、ジ
ブチルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチル
ケトン200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながら、ポリエチレ
ングリコール(第一工業製薬社製、 PEG $400
)37.1g 、ポリオキシプロピレンビスフェノール
Aエーテル(日本油脂社製、 Dll−900) 19
4.5g、およびメチルエチルケトン400gを均一に
混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応
させた。次いでこれに、ペンタエリスリトールトリアク
リレート79.5gを加え、さらに60℃で2時間反応
させたのち、N−(β−アミノエチル)エタノールアミ
ン3.3gを加え、40℃で4時間反応させた。
2.4− )ルエンジイソシアネート82.5g 、ジ
ブチルスズジラウレート1.2g、およびメチルエチル
ケトン200gを加え60℃に加温したのち滴下ロート
より系の温度が上昇しない様注意しながら、ポリエチレ
ングリコール(第一工業製薬社製、 PEG $400
)37.1g 、ポリオキシプロピレンビスフェノール
Aエーテル(日本油脂社製、 Dll−900) 19
4.5g、およびメチルエチルケトン400gを均一に
混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応
させた。次いでこれに、ペンタエリスリトールトリアク
リレート79.5gを加え、さらに60℃で2時間反応
させたのち、N−(β−アミノエチル)エタノールアミ
ン3.3gを加え、40℃で4時間反応させた。
次いでこれに、無水マレイン酸3.1g、およびトリエ
チルアミン1gを加え、70℃で5時間反応させた。
チルアミン1gを加え、70℃で5時間反応させた。
反応終了後赤外吸収スペクトルにより系中のイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
ート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(J)とする。
重合体(J)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
比較例1
温度計、攪拌器および還流冷却管を備えたフラスコに、
4.4’ −ジフェニルメタンジイソシアネート6
7、l1g 、ジブチルスズジラウレート1.2g、ポ
リエステルジオール「バイロンnux 、東洋紡社製4
313.1g、およびシクロへキサノン200gを仕込
み、80℃で2時間反応させた。
4.4’ −ジフェニルメタンジイソシアネート6
7、l1g 、ジブチルスズジラウレート1.2g、ポ
リエステルジオール「バイロンnux 、東洋紡社製4
313.1g、およびシクロへキサノン200gを仕込
み、80℃で2時間反応させた。
次に、2.2−ジメチロールプロピオン酸7.0g。
およびシクロへキサノン400gを加え、80℃で5時
間反応させた。
間反応させた。
次いでこれに2−ヒドロキシエチルアクリレート12.
1gを加え、70℃で8時間反応させた。
1gを加え、70℃で8時間反応させた。
反応終了後、赤外吸収スペクトルにより系中のイソシア
ネート基が残存していないことを確認した。
ネート基が残存していないことを確認した。
この様にして得た重合体を重合体(K)とする。
重合体(K)の分子量とカルボキシル基含量を第1表に
示す。
示す。
第1表
参考例
方射線硬化性塗料の調製および評
実hN例1〜10および比較例1で得られた重合体(A
)=−(K)を用いて次の組成の磁性塗料を下記表の割
合で調製した。
)=−(K)を用いて次の組成の磁性塗料を下記表の割
合で調製した。
なお、上記各放射線硬化性塗料は、500w1tアルミ
製缶に上記組成中の磁性粉、溶媒、および3mg+径ス
テシステンレスポール50m1)を入れ、ペイントコン
ディショナーにて2時間振とうし、次いで各重合体を加
えてさらに4時間振とうした後、ステンレスポールを取
り除くことにより得た。
製缶に上記組成中の磁性粉、溶媒、および3mg+径ス
テシステンレスポール50m1)を入れ、ペイントコン
ディショナーにて2時間振とうし、次いで各重合体を加
えてさらに4時間振とうした後、ステンレスポールを取
り除くことにより得た。
次いで直ちに厚さ15μmポリエステルフィルム上に乾
燥膜厚が6μmになるように上記磁性塗料を塗布し、直
ちに磁場配向IA埋を行ない室温で一夜乾燥した。その
後エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して
加速電圧160キロボルト、7メガラツドの吸収線量で
電子線を塗膜に照射し、塗膜を硬化させ、磁性硬化型J
l!(1)を得た。
燥膜厚が6μmになるように上記磁性塗料を塗布し、直
ちに磁場配向IA埋を行ない室温で一夜乾燥した。その
後エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して
加速電圧160キロボルト、7メガラツドの吸収線量で
電子線を塗膜に照射し、塗膜を硬化させ、磁性硬化型J
l!(1)を得た。
また得られた各磁性塗料を直ちに厚さ75μmのポリエ
ステルフィルム上に乾燥膜厚が、1.5μmになるよう
に塗布し、室温で一夜乾燥した。その後エレクトロンカ
ーテンタイプ電子線加速装置を使用して加速電圧160
キロボルト、7メガラツドの吸収線量で電子線を塗膜に
照射し、塗膜を硬化させ、磁性硬化塗膜(11)を得た
。
ステルフィルム上に乾燥膜厚が、1.5μmになるよう
に塗布し、室温で一夜乾燥した。その後エレクトロンカ
ーテンタイプ電子線加速装置を使用して加速電圧160
キロボルト、7メガラツドの吸収線量で電子線を塗膜に
照射し、塗膜を硬化させ、磁性硬化塗膜(11)を得た
。
また、別に上記磁性塗料組成において、磁性粉を除外し
た以外同一の組成の塗料を、塗料の乾燥膜厚が、ガラス
板上には40〜60μmとなるように、また厚さ100
μmのポリエステルフィルム上には40〜50μmとな
るようにそれぞれ塗布し、室温で一夜乾燥後、加速電圧
160キロボルト、5メガラツドの吸収線量で電子線を
塗膜に照射して塗膜を硬化させ、非磁性硬化塗膜を形成
した。
た以外同一の組成の塗料を、塗料の乾燥膜厚が、ガラス
板上には40〜60μmとなるように、また厚さ100
μmのポリエステルフィルム上には40〜50μmとな
るようにそれぞれ塗布し、室温で一夜乾燥後、加速電圧
160キロボルト、5メガラツドの吸収線量で電子線を
塗膜に照射して塗膜を硬化させ、非磁性硬化塗膜を形成
した。
得られた磁性塗料、磁性硬化塗膜(I)、磁性硬化塗膜
(!りおよび非磁性硬化塗膜の諸特性を評価するために
、下記の(1)〜(9)の試験を行なった。
(!りおよび非磁性硬化塗膜の諸特性を評価するために
、下記の(1)〜(9)の試験を行なった。
試験の結果を第2表に示す。
(1)濾過テスト:平均孔径2μmを有するフィルター
で磁性塗料を1分間で100%濾過できるかどうか観察
した。
で磁性塗料を1分間で100%濾過できるかどうか観察
した。
(2)光沢:ディジタル光沢針(村上色彩技術研究新製
)を使用して磁性硬化塗膜(I)の反射角45°の光沢
を測定し、光沢が70〜90の場合を◎、50〜70の
場合を0130〜50の場合を△、30以下の場合をX
と評価した。
)を使用して磁性硬化塗膜(I)の反射角45°の光沢
を測定し、光沢が70〜90の場合を◎、50〜70の
場合を0130〜50の場合を△、30以下の場合をX
と評価した。
(3)表面観察:走査型電子顕微鏡を使用して磁性硬化
塗膜(I)の表面を観察し、複数の被検試料全てに磁性
粉の凝集が認められない状態を◎、複数の被検試料のい
くつかに一部の凝集が認められた状態をO1被検試料の
全てに一部の凝集が認められた状態を△、そして、被検
試料の全てに、全面にわたる凝集が認められた状態を×
と評価した。
塗膜(I)の表面を観察し、複数の被検試料全てに磁性
粉の凝集が認められない状態を◎、複数の被検試料のい
くつかに一部の凝集が認められた状態をO1被検試料の
全てに一部の凝集が認められた状態を△、そして、被検
試料の全てに、全面にわたる凝集が認められた状態を×
と評価した。
(4)接着テスト:磁性硬化塗膜(I)の表面に粘着テ
ープを貼りつけ、全面に均一に接着させた後、瞬間的に
引き剥がしたときの状態を観察して行ない、磁性硬化塗
膜(1)が基体から完全に剥離された場合なX、若干剥
離された場合を△、はとんど剥離されない場合をO1全
く剥離が認められないものを◎と評価した。
ープを貼りつけ、全面に均一に接着させた後、瞬間的に
引き剥がしたときの状態を観察して行ない、磁性硬化塗
膜(1)が基体から完全に剥離された場合なX、若干剥
離された場合を△、はとんど剥離されない場合をO1全
く剥離が認められないものを◎と評価した。
(5)角型比(Br/B+n) :東英工業KM製V
SM−3型を用い、磁性硬化塗膜(1)について外部磁
場50.0000 eで磁気特性を測定した。(B「=
残留磁束密度、B+n=最大残留磁束密度)(6)耐久
性試験=liiI性硬化塗膜(II)を、円盤状に打ち
抜き、表面研磨して磁気ディスクを製造した。これらの
ディスクをフロッピーディスクドライブ中に装填し、再
生出力が初期出力の50%になるまでのパス回数を測定
し、パス回数が1,000万回以上の場合を◎、1.0
00万回〜500万回の場合を○、500万回以下の場
合を×と評価した。なお、測定条件として、下記4条件
を用いた。
SM−3型を用い、磁性硬化塗膜(1)について外部磁
場50.0000 eで磁気特性を測定した。(B「=
残留磁束密度、B+n=最大残留磁束密度)(6)耐久
性試験=liiI性硬化塗膜(II)を、円盤状に打ち
抜き、表面研磨して磁気ディスクを製造した。これらの
ディスクをフロッピーディスクドライブ中に装填し、再
生出力が初期出力の50%になるまでのパス回数を測定
し、パス回数が1,000万回以上の場合を◎、1.0
00万回〜500万回の場合を○、500万回以下の場
合を×と評価した。なお、測定条件として、下記4条件
を用いた。
■ −10℃
■ 25℃、50%相対湿度
■ 50℃、90%相対湿度
■ −10℃(30分間)〜40℃(30分)の温度サ
イクル (7)破断強度、伸び、初期モジュラス:ガラス板上の
非磁性硬化塗膜から短冊状のテストピース(0,5CO
I X 10cmX 40〜60 μm)を切り出し、
室温で50m/l1linの引張り速度で測定した。
イクル (7)破断強度、伸び、初期モジュラス:ガラス板上の
非磁性硬化塗膜から短冊状のテストピース(0,5CO
I X 10cmX 40〜60 μm)を切り出し、
室温で50m/l1linの引張り速度で測定した。
(8)テトラヒドロフラン(TIIF)抽出残ニガラス
板上の非磁性硬化塗膜について、TIIFソックスレー
抽出を24時間行ない、抽出残の割合を測定した。
板上の非磁性硬化塗膜について、TIIFソックスレー
抽出を24時間行ない、抽出残の割合を測定した。
(9)屈曲試験:ポリエステルフィルム上の非磁性硬化
塗膜をポリエステルフィルムごと幅1cmの短冊状に切
り、両端を固定して中央部分から屈曲させたのちただち
にもとの状態に復元する操作を1秒間に20回行ない、
屈曲部位において透明硬化塗膜の剥離あるいは破壊が起
こるかどうかを観察した。500時間の屈曲に耐えたも
のを優とし、400時間の屈曲に耐えたものを良と評価
した。
塗膜をポリエステルフィルムごと幅1cmの短冊状に切
り、両端を固定して中央部分から屈曲させたのちただち
にもとの状態に復元する操作を1秒間に20回行ない、
屈曲部位において透明硬化塗膜の剥離あるいは破壊が起
こるかどうかを観察した。500時間の屈曲に耐えたも
のを優とし、400時間の屈曲に耐えたものを良と評価
した。
(発明の効果)
本発明の方法によれば、磁性体に対する優れた分散性能
を有することに加え、常温下での優れた実走行耐久性は
いうに及ばず、高温高湿度(50℃、90%相対湿度)
下および低温度(−10℃)下、さらには温度サイクル
条件(−10℃〜40℃)下といった幅広い使用環境下
での優れた実走行耐久性を有する磁気記録媒体を与える
放射線硬化性磁性塗料に好適な放射線硬化性ポリウレタ
ンを提供することができる。
を有することに加え、常温下での優れた実走行耐久性は
いうに及ばず、高温高湿度(50℃、90%相対湿度)
下および低温度(−10℃)下、さらには温度サイクル
条件(−10℃〜40℃)下といった幅広い使用環境下
での優れた実走行耐久性を有する磁気記録媒体を与える
放射線硬化性磁性塗料に好適な放射線硬化性ポリウレタ
ンを提供することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(A)有機ジイソシアネート化合物と、 (B)ジオール化合物と、 (C)トリオール化合物ならびに分子内に水酸基を1個
以上有しかつ第1級および/または第2級アミノ基を2
個以上有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合
物と、 (D)分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレート化
合物とを反応させ、分子鎖中に(メタ)アクリロイル基
を有し、かつ少なくとも1個の水酸基が残存しているポ
リウレタンとなし、次いで該残存水酸基の一部もしくは
全部にジカルボン酸無水物を付加させることを特徴とす
る放射線硬化性ポリウレタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63041808A JP2610468B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 放射線硬化性ポリウレタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63041808A JP2610468B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 放射線硬化性ポリウレタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01217026A true JPH01217026A (ja) | 1989-08-30 |
JP2610468B2 JP2610468B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=12618621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63041808A Expired - Fee Related JP2610468B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 放射線硬化性ポリウレタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2610468B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
JP2008249916A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Jsr Corp | 光学部材用放射線硬化性樹脂組成物及び光学部材 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7026371B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-04-11 | Tdk Corporation | Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same |
JP2004352804A (ja) | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Tdk Corp | 磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂、その製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5276399A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-27 | Bayer Ag | Vinyl and carboxyl grouppcontaining crosslinkable urethane resin and preparation thereof |
JPS56120718A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Improved polyurethane type photosensitive resin composition |
-
1988
- 1988-02-24 JP JP63041808A patent/JP2610468B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5276399A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-27 | Bayer Ag | Vinyl and carboxyl grouppcontaining crosslinkable urethane resin and preparation thereof |
JPS56120718A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Improved polyurethane type photosensitive resin composition |
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---|---|---|---|---|
US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
JP2008249916A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Jsr Corp | 光学部材用放射線硬化性樹脂組成物及び光学部材 |
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Publication number | Publication date |
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JP2610468B2 (ja) | 1997-05-14 |
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