JPH01207475A - ポリエステル布帛の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、染料の移行昇華防止能力に、すぐれたポリエ
ステル布帛に関し、特にコーティング用あるいはラミネ
ート用布帛とする場合のコーティング層あるいはラミネ
ート層との接着力が著しく向上したポリエステル布帛に
関するものである。

（従来の技術） コーティング用あるいはラミネート用布帛としては、従
来からナイロン素材が使われ、ポリエステル素材はあま
り使用されない。その理由の一つとしてポリエステル素
材は分散染料で染色されるため、ゴム、ウレタン、また
は塩ビ素材などとはり合わされた場合に、分散染料がゴ
ム、ウレタンまたは塩ビ等に移行し、汚染するためであ
る。これは分散染料がポリエステル中にとどまるより、
ゴム、ウレタン、または塩ビなどに移行した方が、溶解
度パラメーターからみて安定であるためである。一方ナ
イロンの場合は、イオン結合を利用して染色されている
ために、ポリエステルでみられるような染料の移行の問
題がなく、一般的によく使用される。

ポリエステル素材の移行昇華防止技術・は今まで各種検
討されてきているが、その結果は十分ではなかった。そ
れらの技術の中で改良効果の著しい手段としては特開昭
６１−１８６５７８号、特開昭６ｌ−Ｎ１６５８３号が
ある。これらの技法は主として衣料用素材、例えばウィ
ンドブレーカ−のごときコーテイング品、ラミネート品
に応用されているが、コーティング層、ラミネート層と
薄膜との接着性が今−歩である。特に接着力の非常に必
要な靴用布帛等の分野へは接着性の向上が必要である。

（発明が解決しようとする問題点） 従って本発明は、接着力の必要な靴用布帛としても使用
可能なレベルまで接着性を改良し、あらゆる衣料用途に
も使用でき、さらに分散染料移行昇華防止能力もすぐれ
たポリエステル布帛を提供せんとするものである。

（問題点を解決するための手段） すなわち本発明は、 「！、染色されたポリエステル織編物の少なくと乙片面
に、フッ素系化合物又はシラン系化合物よりなるモノマ
ーと前記化合物以外の他のガスとを混合した状態でプラ
ズマ重合法又は放電グラフト法により０．０３〜０．３
ミクロンの薄膜を重合させることを特徴とするポリエス
テル布帛の製造方法。

２、ポリエステル布帛を構成する繊維の少なくとも３０
重量％以上が粗面化繊維であることを特徴とする請求項
ｌに記載のポリエステル布帛の製造方法。

３、染色されたポリエステル織編物の薄膜を重合させる
面に、薄膜重合萌に非重合性ガスによりプラズマ処理す
ることを特徴とする請求項ｌ又は２に記載のポリエステ
ル布帛の製造方法。

４、プラズマ重合又は放電グラフト後に非重合性のガス
でプラズマ処理することを特徴とする請求項１．２又は
３に記載のポリエステル布帛の製造方法。　　　　　　
　　　　　　　　」に関するものである。

本発明で言うポリエステルとはポリエチレンテレフタレ
ートあるいはポリブチレンテレフタレートの構成単位を
７０モル％以上含むもので、あり一般的に分散染料で染
色されるものをさす。当然芯鞘繊維、はり合せ等を行な
ったものでもよく、布帛あるいは編物中または繊維中に
３０重量％以上のポリエステル成分を含めばよい。次に
これらの織編物の少なくとも片面とは、大部分の場合片
面のみで十分であるという意味であり、必要に応じて両
面でもよい。

プラズマ重合法に使用されるフッ素系化合物モノマーと
は、 ＣｌＦ３、Ｃ３Ｆ＃で代表されるＣｎＨｒａＣ（ｌｐＦ
ｔｎ−ｍ−ｐタイプ（ｎ≧２、ｍ≧０．　ｐ≧０．２ｎ
　−ｔａ　−ｐ≧１の整数゛）、ＣＦ−、ＣＥＰｓ、Ｃ
５Ｆａで代表されるＣｎＨｓＣＣｐＢｒｑＦ　ｔｎ＊ト
ｗａ−ｐ−ｑタイプ（ｎ≧１１ｒｍ≧０、ｐ≧ｏ１ｑ≧
０１２ｎ＋　２−　ｓ　−ｐ　−ｑ≧１の整数）、Ｃ４
Ｆｓで代表されるＣｎＨｍＣ１２ｐＦ　ｔｎ−ｓ−ｐの
環状タイプ（ｎ≧３、ｆｆｉ≧０、ｐ≧０．２ｎ−ｍ−
ｐ≧１の整数）、Ｃ−Ｆｓで代表されるＣｎ１ｍＣ１２
ｐＦ＊−＊−−−ｐの二重結合を有する環状タイプ（ｎ
≧４、ｍ≧０、ｐ≧０．２ｎ　−２−ｍ−ｐ≧１の整数
）、 Ｃ５ＦｓＯで代表されるタイプ、 ＮＦ３、Ｓｒ１、ＷＦａで代表されるタイプ等、各種の
ものが存在する。

これらの中で成膜速度が大きく工業的に好ましいものと
してはＣ，Ｆ、、Ｃ，Ｆ、、Ｃ，Ｆ、、Ｃ−Ｆａ、Ｃ，
Ｆ、０、Ｃ，Ｈ，Ｆ、等であるが、運搬上の安全性、成
膜速度などからさらに好ましくは、Ｃ５Ｆａ、Ｃ−Ｆｓ
、Ｃ，Ｆ、Ｏである。

フッ素系化合物は水素、塩素、臭素等の原糸を含んでも
さしつかえない。

また放電グラフト法に使用されるフッ素系化合物モノマ
ーとは、炭素−炭素二重結合を有し、フッ素原糸を有す
る化合物が望ましく、 例えばｃ、ｐ、、Ｃ５Ｆｓで代表されるＣｎＨｍＣＩ２
ｐＦｆｎ−＋＋＋−ｐタイプ（ｎ≧２、■≧０、ｐ≧０
．２ｎ−ｔａ−ｐ≧１の整数）、Ｃ１，、Ｒ２：■ｏｒ
　ＦＳｍ＝　１．２、ｎ＝１〜４の整数）またはＣｚＦ
ｓＯなどがある。

本発明のケイ素系化合物モノマーとは、Ｒ４Ｓｉ　　Ｒ
ｔ　　（但しＲ８−Ｒ４は、ＯＣＨ，、ＱＣ，１１５、
Ｃ１，、Ｃ山、ｃＨｔ＝　ＣＬ　Ｈ，Ｑ　ｃｖ　イｔ　
ｈ　カ＞で表わされるアルコキシシラン系ケイ素化合物
、または Ｒ。

ＣＱ　　Ｓｉ　　Ｒｔ　　（但しＲ，〜Ｒ３ハ、Ｉ（、
ＣＨｓ、ＣＨ！＝ＣＨ，○、ＣＱ、　ｃ（ｌｃＨ，ノイ
ずれか）で表わされるクロロシラン系ケイ素化合物、 または 讐 Ｙ−Ｒ−Ｓｉ−Ｘ（但しＹｉ；ｉ　ＣＬ　＝　ＣＨ。

（Ｒｏ：アルキル基）のいずれか、Ｒはアルキル基、Ｘ
はｏｃｎ、、０（：、＋１．のいずれか）で表されるシ
ランカップリング系ケイ素化合物、 または 帽しＲ，−Ｒ，はＨ，ＣＨ，、Ｃ山、Ｓｉ（山）１．０
１ＣＦｓＣＯＳｉ（ＣＨ，）、のいずれか）であるシラ
ザン系ケイ素化合物、 または υ れか）である反応性シロキサンオリゴマー系ケイ素化合
物、 を言う。代表的なものに、トリメトキシシラン、トリメ
トキシビニルシラン、トリエトキシシラン、トリエトキ
ンビニルシラン、トリメトキシクロルシラン、トリメチ
ルメトキシシラン、ジイトキシビニルシラン、ジメチル
メトキシビニルシラン、トリエチルビニルシラン、トリ
エチルビニルシラン、ビニルトリクロロシラン、ヘキサ
チルジシラザン、ジメチルトリメチルシリルアミン、ア
ミノシロキシン、クロロシロキサン等がある。

プラズマ重合法に使用されるケイ素系化合物には特に制
約はない。放電グラフト法に使用されるケイ素系化合物
はＣ＝Ｃの二重結合を有するビニル系ケイ素化合物が望
ましい。

本発明で言うプラズマ重合とは、低温プラズマ放電を利
用した重合法をいい、放電時にモノマーを１種以上供給
し、非重合性あるいは重合性ガスの存在下又は非存在下
で■段重台させる場合を言う。

また放電グラフト法とは布帛を非重合性ガスの存在下で
低温プラズマ放電しラジカルを発生さ仕、酸素にあまり
ふれさせることなく１種以上の重合性モノマーを含む雰
囲気中に導き重合させる場合、又は布帛を酸素ガス又は
非重合性ガスの存在下で低温プラズマ放電させ酸素を含
む雰囲気中にさらしラジカルをパーオキサイド類に変化
させ、１種以上の重合性モノマーを含む雰囲気中に導き
、重合させる場合等のパーオキサイド法等を含む。

低温プラズマとは、放電中で生成されるプラズマが平均
電子エネルギーＩＱｅＶ　（１０’〜ｌｏ’Ｋ）　、電
子密度１０１〜１２”ａｍ−’で特徴づけられると同時
に、電子温度とガス温度との間に平衡が成立しない故に
、非平衡プラズマとも言われる。放電では生成されるプ
ラズマ中には電子、イオン、原子、分子等が混在してい
る。

電圧をかける電源としては任意の周波数のものが使用で
きる。放電の持続性及び均一性から言うと１ＫＨｚ　−
ＩＱＧＨｚが望ましい。また電極の巾方向のプラズマ均
一性から言うと１ＫＨｚ　−ＩＭＨｚが好ましく、１Ｋ
Ｈｚ以上になると電極の長さが１ｍをこえろと長さ方向
に処理斑が生じやすい。また１００Ｈｚ以下は電極のエ
ッヂ効果が生じゃすく、エッヂ部分でアーり放電が生じ
やすい。また電流としては交流、直流、バイアスをかけ
た交流、パルス波等が使用できろ。電極は真空系内に配
置された内部電極方式と真空系外に配置された外部電極
方式とにわかれろが、外部電極方式は装置が大型化する
と、特に被処理物表面にプラズマが移動している間に活
性を失なったり、プラズマが散乱しプラズマ濃度が希釈
されるため処理効果が少ない。一方向部電極方式は被処
理物の近くに放電電極を設置させることが可能なため、
外部電極方式に比較すると処理効果は大きい。

電極形状は対称と非対称にわけられる。被処理物の処理
中が大きく、従って大きな電極が必要となる大型のプラ
ズマ処理装置の場合は対称電極の方がデメリットが多い
。例えば、大きな電極間にガスを均一に流すことはほと
んど不可能に近く、さらに大きな電極の端部が電界が乱
れたりして、処理斑が生じやすい。そのため大型のプラ
ズマ処理装置の場合は、非対象電極が好ましい。被処理
物は前記電極間の任意の位置にセットし移動させること
かできるが、一方の電極に接した方かしわ発生が少なく
処理効果が大きい場合がある。

被処理物が接触しない側の電極の形状としては円柱状の
もの、あるいは鋭角な断面を有する断面多角形の帰伏の
もの等を１本以上任意に設定できるが、電極本数によっ
ても処理効果は異なり、少なすぎると処理効果は小さく
なる。形状は円柱状のものが好ましい。また被処理物が
接触する可能性のある側の電極の形状としては、ドラム
状のもの、あるいは板状のもの、あるいはそれら変形形
状のもの等を用いることができるが、その形状もその組
合せもこれらに限定されるものではない。

また電極の材質はステンレス、銅、鉄、アルミニウム等
の金属が使用でき、必要に応じてガラス、セラミックス
等でコーティングしてもよい。当然必要に応じてこれら
の電極は水冷されてもよく、その冷却温度は被処理物に
よって適宜選ばれる。

冷却水は、できる限り不純物の少ない水が望ましいが、
これら不純物による電気漏洩がさほど問題にならない場
合には特にこの限りではない。

次に真空系に導入するガスは、真空ポンプによる排気口
より、なるべく遠くに供給口をつけて必要に応じて分配
しながら導入すべきである。また電極間に導入してもよ
い。これは真空系内でのガスのショートパスをさせる意
味で重要であると同時に、被処理物の処理斑を生じさせ
ないためにも重要である。

真空系に導入するモノマーを含むガスは、モノマーのガ
ス、モノマーのガスと非重合性ガス、モノマーのガスと
重合性ガスのいずれでもよい。モノマーのガスは、常温
ですでにガス状のもの、液体状のものいずれでもよい。

非重合性ガスあるいは重合性ガスとモノマーガスの混合
は、モノマーガスの反応性、形成した薄膜の性能等によ
り任意に選択することが出来る。モノマーガス同志及び
モノマーガスとその他のガスは、真空系に別々に導入し
て系内で混合したり、あらかじめ混合しておいて、同時
に導入してもなんらさしつかえないし、非重合性ガスで
の放電下、モノマーガスを導入してもよい。

低温プラズマを生じさせる真空度としては、通常Ｑ、０
０１〜５０Ｔｏｒｒが用いられるが、本発明者等の検討
結果によると０．Ｏ１〜５．０Ｔｏｒｒが望ましい。真
空度が０，０ＩＴｏｒｒ以下になるとイオン、電子の平
均自由工程は大きくなり加速粒子のエネルギーは増大す
るが、被処理物へ到達する加速粒子個数の総数が少なく
、被処理効率はやや低くなる。しかも大型の処理室をガ
スを導入しながら０．０１Ｔｏｒｒ以下に保つには非常
に排気量の大きい真空ポンプが必要となり、設備コスト
から考えても望ましいものでない。真空度が５Ｔｏｒｒ
以上になると、イオン、電子等の平均自由工程は小さく
なり、加速粒子のエネルギーは小さくなり、加速粒子個
数の総数は多いにもかかわらず処理効率は低くなる。

さらに電極間に配置する布帛の相対的な位置については
前にも述べたが、一方の電極に接触して配置させるのが
一般的には処理効率は良い。また布帛に張力をあまりか
けたくない場合や、布帛にシワを辷れたくない場合は、
布帛と電極が一緒に移動できるタイプのもの、例えばド
ラム電極上に布帛を接触させて配置し、ドラムを回転さ
せながら布帛を移動させるようなものが望ましい。実際
微少なシワが処理斑を引きおこすことがよくある。

張力やシワにあまり注意をはられなくてよい場合には、
例えばプレート電極上に布帛を接触して配装置し、布帛
を電極上を滑らせて走行移動させてもよい。当然片面処
理後さらに電極を布帛に対して逆配置した所を通せば両
面処理が可能となる。通常の場合、片面のみの処理効果
で十分な場合が多いのでこのタイプが処理効率から言っ
ても望ましい。しかしどうしても両面の処理効果を１対
の電極のみで得ようとすれば両電極間の位置に布帛を配
置し、布帛を走行移動させればよい。この場合は、電極
に接して配置した場合に比較して処理効果は一般的に小
さくなる。

次に処理の均一性の面から言うと、両電極は平行に保持
される必要があり、しかも布帛の進行方向に直角に配置
されなければならない。この条件が満足されないと、布
帛の巾方向に処理斑を生じさせることになる。

さらに両電極の巾は布帛の巾より少なくとも５ａｍ以上
長くしておく必要がある。これは電極の端部の電界不均
一性を除くためである。この長さが５ｃａ＋以下になる
と布帛の巾方向、特に両サイドが中央付近と比較して処
理効果が異なり好ましくな。

い。

装置は大気にある布帛を連続的に真空系内に移動し処理
できるもの及び布帛が予備真空系内に配置され処理室に
移動できるもの、さらには処理室内に布帛が間仕切りし
て配置されているもの等を言うが、要するに布帛が連続
的に移動できるものであればよい。プラズマ出力は放１
ｉ部分に作用する出力として０．１〜５ワツト／Ｃ■゛
１が望ましい。この場合、放電部面積としては、放電部
に存在する布帛の面積、あるいは対電極のどちらかの表
面積でプラズマ放電叩出力の値を割った場合にどれかの
数値がＯ０１〜５ワット／ｃＩＩｌ″になればよい。放
電叩出力は放電部の電圧、電流を測定すれば容易に算出
できるが、一つの目安としてプラズマ電源の出力の３０
〜７０％と考えてもよい。プラズマ出力が０．１ワツト
／Ｃｌ１１！以下の場合処理に時間がかかるし、薄膜の
厚さも十分ではない。プラズマ出力が５ワット／ｃｍ”
以上になるとやや放電が不安定になり、重合以外にエツ
チングらおこりやすくなる。プラズマ重合、放電グラフ
トの長時間放電安定性から言うと０．１ワット／Ｃｌ１
１！以上２ワット／ｃＩ１１！以下が最も好ましい。

処理時間は５〜６００秒程度が望ましいが、この範囲に
必ずしも限定されるものではない。５秒未満の処理では
、重合膜の膜厚がやや低く、６００秒を越えると重合膜
の膜厚は十分であるが、着色したり、やや表面が硬くな
ったり、もろくなって繊維本来の性能と違ってくる場合
がある。

膜厚は０．０３〜０゜３ミクロンが望ましく、０．０３
ミクロン未満′だと移行昇華防止効果が少なく、０．３
ミクロンを越えると接着性もやや低下するし、生産性が
低下する。

膜厚の測定はプラズマ重合雰囲気中にポリエステルフィ
ルムを置きその上にカバーグラスをのせて処理し、その
後カバーグラスを除去し、その段差を多重干渉顕微鏡又
は電子顕微鏡により測定した。また放電グラフト重合の
場合もこれに準じて行なった。

本発明におけるフッ素化合物又はシラン系化合物以外の
池のガスとは、非重合性ガスあるいは重合性ガスいずれ
でもよい。

本発明において、フッ素系化合物あるいはシラン系化合
物にこれらの他のガスを混合する目的は、成膜速度をあ
げること以外に、理由は明確でないがフッ素系化合物あ
るいはシラン系化合物単独の場合に比較してコーティン
グ樹脂、ラミネートフィルム、はり合せポリマーとの接
着性が著しく上がることによる。

他のガスの代表例としては、非重合性のものとしては、
Ａｒ、　Ｈｅ、　Ｌ等の不活性ガス、又はＨｌ、０９、
空気、ＮＨａ、ＣＨ４等があり、重合性ガスとしてはＣ
，Ｉ（いスチレン、アクリル酸、アクリル酸エステル等
の二重結合を有するものがある。

また繊維自体に粗面化構造を有する繊維を使用した場合
ら接着性の改良効果は大き、い。粗面化繊維としては、
例えば特公昭６２−２０３０４号、特公昭５９−２４２
３３号、特公昭５９−１１７０９号等があり、効果の点
から布帛の３０重量％以上使用した場合に接着性アップ
の効果が大きい。

薄膜重合前に非重合、ガスのプラズマ処理１こより゛繊
維表面に官能基を導入し、接着性を高めておくと薄膜重
合後の接着性も向上する。

さらにまたプラズマ重合又は放電グラフト後に非重合性
ガスでプラズマ処理し、官能基を導入したり、Ｏｆを含
む雰囲気で薄膜をプラズマエツチング処理すると分散染
料移行防止効果を保持した状態で、接着性の向上をはか
ることが可能である。

以下実施例にしたがって説明する。なお以下において、
染料の移行昇華は、布帛の薄膜重合面と白地のポリウレ
タンフィルムを密着させそのままステンレス板にはさむ
場合と、密着させたものを水中に浸漬し、取出して余分
の水分を口紙で除去後ステンレス板にはさむ場合とがあ
るが、いずれも１００ｇ／ｃＩＩｌｆｆｉの荷重下、１
２０℃の雰囲気中に８０′″分おき、白地フィルムの汚
染程度をグレースケールで判定した。前者の場合はドラ
イ法、後者の場合をウェット法と呼ぶ。

比較例１〜９および実施例１０〜１８ ポリエチレンテレフタレート中に二酸化チタン０．４重
量％含有するチップ（Ａ）と二酸化ケイ素（平均１９粒
子径４５ミリミクロン）３重量％含有するチップ（Ｂ）
からそれぞれ７５デニールの３６フイラメントの延伸糸
を得た。これらの糸をそれぞれタテ糸、ヨコ糸に用いて
平織物を作成し、通常の加工方法にしたがって染色仕上
げを行なった。減量は両者とも２０重量％実施した。

プラズマ処理装置は平行平板の内部電極方式で、電源は
１３．５６ＭＨｚの周波数のものを使用した。

前処理プラズマ処理　ガ　　ス　アルゴン　　　３０ｃ
ｃ／分真空度　　　　　０．１５Ｔｏｒｒ 電　　　圧　　　　　　　　　　　　　　４ＫＶ処理時
間　　　　　　　　　３０秒 薄　　膜　　重　　合　比較例　２−９　ガス　３０ｃ
ｃ／分実施例１０−１８ フッ素系化合物又はシラン系化合物 ３０ｃｃ／分 表Ｉ中に示す非重合性ガス 又は重合性ガス　　　　　３０ｃｃ／分電　　　圧　　
　　　　　　　　　　　　４ＫＶ後処理プラズマ　前処
理と同一条件でガスを酸素に変化させた ３１処理したサンプルにウレタン膜をラミネートし、そ
の剥離強度をＴ剥離テストにより測定した。

各実施例ならびに比較例の結果を表１に示す。

実施例１０にはＣ３Ｆ＠とＡｒをｌ：１で混合したプラ
ズマ重合膜をつけた場合を示すが、比較例３．５．６．
７．８に比較して剥離強度が著しく向上している。

実施例１１．１２．１３にはビニルトリメトキシシラン
とＮ、１Ｈ，、ＮＨ，ガスとをそれぞれｌ：ｌで混合し
たプラズマ重合膜をつけた場合を示すが、比較例４に比
較して剥離強度が著しく向上している。

実施例１４にはＣ５Ｆｓと重合性ガスＣｔＨ＋とをｌ：
ｌで混合したプラズマ重合膜をつけた場合を示すが、比
較例３．５．６．７．８に比較して剥離強度が著しく向
上した。

実施例１５にはＡｒガスでプラズマ処理後、ＣａＦ−と
Ｎ）１３とのガス混合比率１：１で放電グラフトした例
を示すが、剥離強度９００ｇ／ｃＩ＋＋と接着性は比、
較例９に比較して向上していた。

実施例１６は粗面化繊維を使用した布帛にＣ３Ｆ＠とＡ
ｒとをｌ：１で混合したガスによるプラズマ重合膜をつ
けた場合の剥離強度を示すが、比較例３あるいは実施例
１０に比較してさらに剥離強度が向上している。

実施例１７は薄膜重合前にＡｒのプラズマ処理によりポ
リエステルの繊維表面に官能基を導入した後、ＣａＦ＊
とＡｒとのｌ：ｌの混合ガスによるプラズマ重合薄膜を
形成した例であるが、比較例３あるいは実施例１Ｏに比
較してさらに剥離強度が向上している。

実施例１８はＣ５ＦａとＡｒとのｌ：１の混合ガスによ
るプラズマ重合薄膜を形成した後Ｏ１によりエツチング
処理した例であるが、比較例３あるいは実施例１０に比
較してさらに剥離強度が向上している。

比較例２０．２１および実施例２２．２３二酸化チタン
を０．４重量％含有するポリエチレンテレフタレートよ
り４５０デニールの９６フ、イラメントの延伸糸を製造
し、この糸をタテ糸、ヨコ糸に使用し平織物を作成し通
常の加工により染色、仕上げを行なった。

この織物に実施例１で用いたプラズマ処理装置を用いて
Ｃ２■。０とＣ１，との２＝１の流量比の混合ガスおよ
びＣＪｓとアクリル酸との２：ｌの流量比の混合ガスを
用いてプラズマ重合を片面のみに行ない、その後塩ビフ
ィルムと接着し靴を作成した。比較例としてＣ，Ｆ、Ｏ
のみのガスでプラズマ重合させたものも靴を作成した。

その結果を表１に示す。

プラズマ重合膜のない比較例２０の場合は移行昇華堅牢
度は２級以下と悪い。又ｃｓｐｓｏ単独ガスのプラズマ
重合を行なった場合を比較例２１に示す。

移行昇華堅牢度は向上しているが、剥離強度が著しく低
下した。

実施例２２．２３にフッ素ガスとＣＨ４あるいはアクリ
ル酸との混合ガスによるプラズマ重合膜を形成さけた例
を示すが移行昇華堅牢度もよく１．接着性も通常のポリ
エステル並にあることがわかる。

なは表２の移行昇華堅牢度の測定は、表１の場合はポリ
ウレタンに対する堅牢度であったが、塩ビを使用して行
なった結果である。

特許出願人　株式会社　り　ラ　し

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、染色されたポリエステル織編物の少なくとも片面に
   、フッ素系化合物又はシラン系化合物よりなるモノマー
   と前記化合物以外の他のガスとを混合した状態でプラズ
   マ重合法又は放電グラフト法により０．０３〜０．３ミ
   クロンの薄膜を重合させることを特徴とするポリエステ
   ル布帛の製造方法。 ２、ポリエステル布帛を構成する繊維の少なくとも３０
   重量％以上が粗面化繊維であることを特徴とする請求項
   １に記載のポリエステル布帛の製造方法。 ３、染色されたポリエステル織編物の薄膜を重合させる
   面に、薄膜重合前に非重合性ガスによりプラズマ処理す
   ることを特徴とする請求項１又は２に記載のポリエステ
   ル布帛の製造方法。 ４、プラズマ重合又は放電グラフト後に非重合性のガス
   でプラズマ処理することを特徴とする請求項１、２又は
   ３に記載のポリエステル布帛の製造方法。