JPH01201199A - 放射線像変換パネル - Google Patents
放射線像変換パネルInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換方法に
用いられる放射線像変換パネルに関するものである。
用いられる放射線像変換パネルに関するものである。
[発明の技術的背景および従来技術]
従来の放射線写真法に代る方法として、たとえば特開昭
55−12145号公報などに記載されているような輝
尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られている。
55−12145号公報などに記載されているような輝
尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られている。
この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネ
ル(蓄+t’を性蛍光体シートとも称する)を利用する
もので、被写体を透過したあるいは被検体から発せられ
た放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そのの
ちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励
起光)で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光
体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発
光光)として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って
電気信号を得、得られた電気信号に基づいて被写体ある
いは被検体の放射線画像を可視像として再生するもので
ある。−方、読み取りを終えた該パネルは、記録された
画像の消去が行なわれた後、次の撮影のために備えられ
る。すなわち、放射線像変換パネルはくり返し使用され
る。
ル(蓄+t’を性蛍光体シートとも称する)を利用する
もので、被写体を透過したあるいは被検体から発せられ
た放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そのの
ちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励
起光)で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光
体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発
光光)として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って
電気信号を得、得られた電気信号に基づいて被写体ある
いは被検体の放射線画像を可視像として再生するもので
ある。−方、読み取りを終えた該パネルは、記録された
画像の消去が行なわれた後、次の撮影のために備えられ
る。すなわち、放射線像変換パネルはくり返し使用され
る。
この放射線像変換方法によれば、従来の放射線写真フィ
ルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法による場
合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富
な放射線画像を得ることができるという利点がある。さ
らに、従来の放射線写真法では1回の撮影ごとに放射線
写真フィルムを消費するのに対して、上記放射線像変換
法では放射線像変換パネルをくり返し使用するので資源
保護、経済効率の面からも有利である。
ルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法による場
合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富
な放射線画像を得ることができるという利点がある。さ
らに、従来の放射線写真法では1回の撮影ごとに放射線
写真フィルムを消費するのに対して、上記放射線像変換
法では放射線像変換パネルをくり返し使用するので資源
保護、経済効率の面からも有利である。
上記のように、輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法
は、少ない被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得る
ことができるので、特に医療診断を目的とするX線i影
等の直接医療用放射線撮影において利用価値の非常に高
いものである。
は、少ない被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得る
ことができるので、特に医療診断を目的とするX線i影
等の直接医療用放射線撮影において利用価値の非常に高
いものである。
上記放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネル
は、基本構造として、支持体とその片面に設けられた輝
尽性蛍光体層とからなるものである。なお、蛍光体層が
自己支持性である場合には必ずしも支持体を必要としな
い。また、この輝尽性蛍光体層の支持体とは反対側の表
面(支持体に面していない側の表面)には一般に、透明
な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あ
るいは物理的な商事がら保護している。
は、基本構造として、支持体とその片面に設けられた輝
尽性蛍光体層とからなるものである。なお、蛍光体層が
自己支持性である場合には必ずしも支持体を必要としな
い。また、この輝尽性蛍光体層の支持体とは反対側の表
面(支持体に面していない側の表面)には一般に、透明
な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あ
るいは物理的な商事がら保護している。
輝尽性蛍光体層は一般に、輝尽性蛍光体とこれを分散状
態で含有支持する結合剤とからなるものであり、輝尽性
蛍光体はX線などの放射線を吸収したのち励起光の照射
を受けると輝尽発光を示す性質を有するものである。従
って、被写体を透過したあるいは被検体から発せられた
放射線は、その放射線量に比例して放射線像変換パネル
の輝尽性蛍光体層に吸収され、パネルには被写体あるい
は被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄積像として
形成される。この蓄積像は、上記励起光を照射すること
により輝尽発光光として放出させることができ、この輝
尽発光光を光電的に読み取って電気信号に変換すること
により放射線エネルギーの蓄積像を画像化することが可
能となる。
態で含有支持する結合剤とからなるものであり、輝尽性
蛍光体はX線などの放射線を吸収したのち励起光の照射
を受けると輝尽発光を示す性質を有するものである。従
って、被写体を透過したあるいは被検体から発せられた
放射線は、その放射線量に比例して放射線像変換パネル
の輝尽性蛍光体層に吸収され、パネルには被写体あるい
は被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄積像として
形成される。この蓄積像は、上記励起光を照射すること
により輝尽発光光として放出させることができ、この輝
尽発光光を光電的に読み取って電気信号に変換すること
により放射線エネルギーの蓄積像を画像化することが可
能となる。
放射線像変換方法は上述のように非常に有利な画像形成
方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パネ
ルも従来の放射線写真法に用いられる増感紙と同様に、
高感度であってかつ画質(鮮鋭度、粒状性など)の良好
な画像を与えるものであることが望まれている。さらに
、該放射線像変換パネルは上記のようにくり返し使用さ
れるものであるので、物理的な衝事や環境(気温、湿度
など)の変化にも強いものであることが、得られる画像
データの信頼性の確保、経済効率の向上、および取り扱
いの容易さの面からも必要である。
方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パネ
ルも従来の放射線写真法に用いられる増感紙と同様に、
高感度であってかつ画質(鮮鋭度、粒状性など)の良好
な画像を与えるものであることが望まれている。さらに
、該放射線像変換パネルは上記のようにくり返し使用さ
れるものであるので、物理的な衝事や環境(気温、湿度
など)の変化にも強いものであることが、得られる画像
データの信頼性の確保、経済効率の向上、および取り扱
いの容易さの面からも必要である。
放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネルに含有
されている輝尽性蛍光体の総輝尽発光量に依存し、この
総発光量は蛍光体自体の発光輝度によるのみならず、蛍
光体層における蛍光体の含有量によっても異なる。蛍光
体の含有量が多いことはまたX線等の放射線に対する吸
収も大であることを意味するから、−層高い感度が得ら
れ、同時に画質(特に、粒状性)が向上する。一方、蛍
光体層における蛍光体の含有量が一定である場合には、
蛍光体粒子が密に充填されているほどその層厚を薄くす
ることができるから、散乱による励起光の広がりを少な
くすることができ、相対的に高い鮮鋭度を得ることがで
きる。
されている輝尽性蛍光体の総輝尽発光量に依存し、この
総発光量は蛍光体自体の発光輝度によるのみならず、蛍
光体層における蛍光体の含有量によっても異なる。蛍光
体の含有量が多いことはまたX線等の放射線に対する吸
収も大であることを意味するから、−層高い感度が得ら
れ、同時に画質(特に、粒状性)が向上する。一方、蛍
光体層における蛍光体の含有量が一定である場合には、
蛍光体粒子が密に充填されているほどその層厚を薄くす
ることができるから、散乱による励起光の広がりを少な
くすることができ、相対的に高い鮮鋭度を得ることがで
きる。
これまで、蛍光体層の形成は一般に、結合剤溶液中に輝
尽性蛍光体粒子を分散せしめた塗布液を用意し、この塗
布液を通常の塗布手段、例えばドクターブレード、ロー
ルコータ−などを用いて支持体又は別のシート上に塗布
したのち乾燥することにより行なわれている。このよう
にして形成された、結合剤中に蛍光体粒子が分散含有さ
れている蛍光体層を持つ放射線像変換パネルでは、蛍光
体層における蛍光体の含有量および充填密度に限界があ
るため、充分満足のいく感度や画質を得ることが難しか
った。
尽性蛍光体粒子を分散せしめた塗布液を用意し、この塗
布液を通常の塗布手段、例えばドクターブレード、ロー
ルコータ−などを用いて支持体又は別のシート上に塗布
したのち乾燥することにより行なわれている。このよう
にして形成された、結合剤中に蛍光体粒子が分散含有さ
れている蛍光体層を持つ放射線像変換パネルでは、蛍光
体層における蛍光体の含有量および充填密度に限界があ
るため、充分満足のいく感度や画質を得ることが難しか
った。
一方、結合剤中に蛍光体粒子が分散含有されているので
はなく、蛍光体が凝集体を形成している蛍光体層も知ら
れている。
はなく、蛍光体が凝集体を形成している蛍光体層も知ら
れている。
結合剤を含ませないで輝尽性蛍光体のみからなる蛍光体
層を形成する方法として、たとえば、米国特許第3,8
59.527号明細書には、蓄ト1性媒体をホットプレ
ス法によって得られた蛍光体から構成するとの記載があ
り、また特願昭59−196365号に係る昭和60年
9月11日付の手続補正前(特開昭61−73100号
公報記a)には焼成法を利用して蛍光体層を形成する方
法が記載されている。
層を形成する方法として、たとえば、米国特許第3,8
59.527号明細書には、蓄ト1性媒体をホットプレ
ス法によって得られた蛍光体から構成するとの記載があ
り、また特願昭59−196365号に係る昭和60年
9月11日付の手続補正前(特開昭61−73100号
公報記a)には焼成法を利用して蛍光体層を形成する方
法が記載されている。
本出願人は、支持体と、この支持体上に設けられた輝尽
性蛍光体からなる蛍光体層とを有する放射線像変換パネ
ルにおいて、該蛍光体層が焼結せしめられた輝尽性蛍光
体からなることを特徴の一つとする放射線像変換パネル
およびその製造法について既に特許出願をしている。(
特願昭61−163284号、特願昭62−16763
0号)またさらに、本出願人は、該蛍光体層か焼結せし
められた輝尽性蛍光体もしくは蒸着せしめ6れた輝尽性
蛍光体からなり、しかも該蛍光体層に高分子物質が含浸
されていることを特徴の一つとする放射線像変換パネル
およびその製造法についても既に特許出願をしている(
特願昭62−96803号)。
性蛍光体からなる蛍光体層とを有する放射線像変換パネ
ルにおいて、該蛍光体層が焼結せしめられた輝尽性蛍光
体からなることを特徴の一つとする放射線像変換パネル
およびその製造法について既に特許出願をしている。(
特願昭61−163284号、特願昭62−16763
0号)またさらに、本出願人は、該蛍光体層か焼結せし
められた輝尽性蛍光体もしくは蒸着せしめ6れた輝尽性
蛍光体からなり、しかも該蛍光体層に高分子物質が含浸
されていることを特徴の一つとする放射線像変換パネル
およびその製造法についても既に特許出願をしている(
特願昭62−96803号)。
これらの輝尽性蛍光体の凝集体からなる蛍光体層は、焼
結法や蒸着法などによって製造することができ、また高
分子物質を含む場合には、焼結法や蒸着法などにより、
いったん高分子物質を全く含まない蛍光体層を作成した
後、その蛍光体層に高分子物質を含浸させることにより
製造することができる。
結法や蒸着法などによって製造することができ、また高
分子物質を含む場合には、焼結法や蒸着法などにより、
いったん高分子物質を全く含まない蛍光体層を作成した
後、その蛍光体層に高分子物質を含浸させることにより
製造することができる。
これらの蛍光体層では、蛍光体粒子は分散されているの
ではなく、凝集している。すなわち、これらの蛍光体層
は高分子物質を全く含んでいないか、あるいは含んでい
ても、その高分子物質は蛍光体層に含浸されたものであ
るから、高分子物質は蛍光体の凝集体の間隙(たとえば
、焼結蛍光体層であれば、蛍光体の粒界および/または
気孔の部分)に存在している。
ではなく、凝集している。すなわち、これらの蛍光体層
は高分子物質を全く含んでいないか、あるいは含んでい
ても、その高分子物質は蛍光体層に含浸されたものであ
るから、高分子物質は蛍光体の凝集体の間隙(たとえば
、焼結蛍光体層であれば、蛍光体の粒界および/または
気孔の部分)に存在している。
ところで、前記したように、放射線像変換パネルには感
度および画質が高いことのみならず、物理的な衝撃や環
境(気温、湿度など)の変化に強いことも望まれる。と
くに、温度の変化によって、一般に輝尽性蛍光体の凝集
体のみからなる蛍光体層を持つ放射線像変換パネルは、
蛍光体層と支持体との熱膨張率の違いからひずみが生じ
、そのひずみによる応力によって蛍光体層のひび割れや
支持体の変形が生じやすいという欠点があった。さらに
、物理的な衝撃に対しては、例えば、落下などによって
支持体に与えられた衝撃が蛍光体層に伝わり、蛍光体層
にひび割れが生じやすいという欠点もあった。
度および画質が高いことのみならず、物理的な衝撃や環
境(気温、湿度など)の変化に強いことも望まれる。と
くに、温度の変化によって、一般に輝尽性蛍光体の凝集
体のみからなる蛍光体層を持つ放射線像変換パネルは、
蛍光体層と支持体との熱膨張率の違いからひずみが生じ
、そのひずみによる応力によって蛍光体層のひび割れや
支持体の変形が生じやすいという欠点があった。さらに
、物理的な衝撃に対しては、例えば、落下などによって
支持体に与えられた衝撃が蛍光体層に伝わり、蛍光体層
にひび割れが生じやすいという欠点もあった。
これらの欠点は、上記のように蛍光体層に高分子物質を
含浸させることによって多分に改善されつるとは言うも
のの、まだ充分満足のいくものではない。
含浸させることによって多分に改善されつるとは言うも
のの、まだ充分満足のいくものではない。
[発明の要旨]
本発明は、温度の変化や物理的な衝撃に対して抵抗性の
高い放射線像変換パネルを提供することを目的とするも
のである。さらに詳しくは、本発明は、輝尽性蛍光体の
凝集体からなる蛍光体層を有する放射線像変換パネルに
おいて、温度の変化や物理的衝撃にあってもその蛍光体
層にひび割れが生じにくく、また支持体の変形も起こり
にくい放射線像変換パネルを提供することを目的とする
ものである。
高い放射線像変換パネルを提供することを目的とするも
のである。さらに詳しくは、本発明は、輝尽性蛍光体の
凝集体からなる蛍光体層を有する放射線像変換パネルに
おいて、温度の変化や物理的衝撃にあってもその蛍光体
層にひび割れが生じにくく、また支持体の変形も起こり
にくい放射線像変換パネルを提供することを目的とする
ものである。
上記の目的は、支持体と輝尽性蛍光体の凝集体からなる
蛍光体層との間にひずみ緩和層が設けられていることを
特徴とする本発明の放射線像変換パネルにより達成する
ことができる。
蛍光体層との間にひずみ緩和層が設けられていることを
特徴とする本発明の放射線像変換パネルにより達成する
ことができる。
本発明における好ましい態様を以下に示す。
(1)上記蛍光体層が焼結せしめられた輝尽性蛍光体か
らなることを特徴とする放射線像変換パネル。
らなることを特徴とする放射線像変換パネル。
(2)上記蛍光体層が蒸着せしめられた輝尽性蛍光体か
らなることを特徴とする放射線像変換パネル。
らなることを特徴とする放射線像変換パネル。
(3)上記蛍光体層に高分子物質が含浸されていること
を特徴とする放射線像変換パネル。
を特徴とする放射線像変換パネル。
(4)上記ひずみ緩和層が、接着層を兼ねていることを
特徴とする放射線像変換パネル。
特徴とする放射線像変換パネル。
(5)上記ひずみ緩和層の剛性率が10kgf/ m
m 2以下であることを特徴とする放射線像変換パネル
。
m 2以下であることを特徴とする放射線像変換パネル
。
なお、本発明におけるひずみ緩和層とは、支持体と輝尽
性蛍光体層との熱膨張率の違いのため温度の変化によっ
て生じるずれやひずみを吸収して、支持体と輝尽性蛍光
体層とが受ける応力を軽減する働きをする層のことをい
う。
性蛍光体層との熱膨張率の違いのため温度の変化によっ
て生じるずれやひずみを吸収して、支持体と輝尽性蛍光
体層とが受ける応力を軽減する働きをする層のことをい
う。
温度の変化による蛍光体層のひび割れや支持体の変形は
、次のようなメカニズムによって発生すると考えられる
。
、次のようなメカニズムによって発生すると考えられる
。
温度が変化すると、蛍光体層と支持体との間で、両者の
熱膨張率の違いのため、熱膨張によるそれぞれの伸びの
違い、すなわちずれが生じる。
熱膨張率の違いのため、熱膨張によるそれぞれの伸びの
違い、すなわちずれが生じる。
このずれがひずみとなり、ひずみが応力の原因となり、
この応力によって蛍光体層のひび割れや支持体の変形が
起こる。それゆえ、ひび割れや変形を防止するためには
、ずれ、ひずみ、あるいは応力の少なくともいずれかを
防止しなければならない。
この応力によって蛍光体層のひび割れや支持体の変形が
起こる。それゆえ、ひび割れや変形を防止するためには
、ずれ、ひずみ、あるいは応力の少なくともいずれかを
防止しなければならない。
ずれを防止するには、蛍光体層と支持体との熱膨張率を
一致させればよいが、後述のように両者は全く異なる材
料から製作されるので、事実上このようなことは不可能
である。また、仮りに適当な材料を選択するにしても、
そのために、蛍光体および支持体の材料の選択に制限が
加えられるので好ましくない。ひずみを防止するには、
蛍光体層と支持体との間を離す、すなわち、両者の間に
厚みのある層を介入させればよい。また、この介入させ
る層を剛性率(後述する)の低いものとすれば、ひずみ
から生じる応力を軽減することができるので好都合であ
る。この介入層が本発明におけるひずみ緩和層である。
一致させればよいが、後述のように両者は全く異なる材
料から製作されるので、事実上このようなことは不可能
である。また、仮りに適当な材料を選択するにしても、
そのために、蛍光体および支持体の材料の選択に制限が
加えられるので好ましくない。ひずみを防止するには、
蛍光体層と支持体との間を離す、すなわち、両者の間に
厚みのある層を介入させればよい。また、この介入させ
る層を剛性率(後述する)の低いものとすれば、ひずみ
から生じる応力を軽減することができるので好都合であ
る。この介入層が本発明におけるひずみ緩和層である。
さらに、この層は外部からの衝撃によって生じるひずみ
に対しても、そのひずみから生じる応力を軽減する働き
を持つ。
に対しても、そのひずみから生じる応力を軽減する働き
を持つ。
本発明の放射線像変換パネルは、上記のようなひずみ緩
和層が支持体と輝尽性蛍光体層との間に設けられている
ので、温度の変化や外部からの衝撃によってずれ、ひず
みが生じても、そのずれやひずみか応力とならず、従っ
て蛍光体層のひび割れがほとんど生じない。
和層が支持体と輝尽性蛍光体層との間に設けられている
ので、温度の変化や外部からの衝撃によってずれ、ひず
みが生じても、そのずれやひずみか応力とならず、従っ
て蛍光体層のひび割れがほとんど生じない。
[発明の構成]
本発明の放射線像変換パネルでは、一般には支持体上に
接着層を介してひずみ緩和層が設けられ、さらに該ひず
み緩和層の支持体とは反対側に、接着層を介して蛍光体
層が設けられるという構成をとる。本発明の好ましい態
様はひずみ緩和層が接着層を兼ねているパネルであるが
、この場合は−F記の支持体とひずみ緩和層の間の接着
層Sよびひずみ緩和層と蛍光体層の間の接着層はなく、
蛍光体層がひずみ緩和層兼接着層を介して支持体上に設
けられる。
接着層を介してひずみ緩和層が設けられ、さらに該ひず
み緩和層の支持体とは反対側に、接着層を介して蛍光体
層が設けられるという構成をとる。本発明の好ましい態
様はひずみ緩和層が接着層を兼ねているパネルであるが
、この場合は−F記の支持体とひずみ緩和層の間の接着
層Sよびひずみ緩和層と蛍光体層の間の接着層はなく、
蛍光体層がひずみ緩和層兼接着層を介して支持体上に設
けられる。
まず、輝尽性蛍光体の凝集体からなる蛍光体層について
述べる。
述べる。
以下余白
輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照射した後
、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、
実用的な面からは波長が400〜900nmの範囲にあ
る励起光によって300〜500nmの波長範囲の輝尽
発光を示す蛍光体であることが望ましい。本発明の放射
線像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては
、米国特許第3,859,527号明細書に記載されて
いるSrS:Ce、Sm、SrS:Eu。
、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、
実用的な面からは波長が400〜900nmの範囲にあ
る励起光によって300〜500nmの波長範囲の輝尽
発光を示す蛍光体であることが望ましい。本発明の放射
線像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては
、米国特許第3,859,527号明細書に記載されて
いるSrS:Ce、Sm、SrS:Eu。
Sm、Th02 : Er、およびLa2O2S:Eu
、Sm。
、Sm。
特開昭55−12142号公報に記載されているZnS
:Cu、Pb、Ba0−xAJZ20):Eu(ただし
、0.8≦X≦10)、および、MIO−XSiO2:
A(ただし、MlはMg、Ca、Sr、Zn、Cd、ま
たはBaであり、AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、
Tu、Bi、またはMnであり、Xは、0.5≦X≦2
.5である)、 特開昭55−12143号公報に記載されている( B
a +−x −y 1M g z 、 Ca y )
F X :aEu”(ただし、XはC2およびBrの
うちの少なくとも一つであり、Xおよびyは、0 <
x 十y≦0.6、かっxy:#Orあり、aは、1o
−6≦a≦5X10−2である)、 特開昭55−12144号公報に記載されているLnO
X : xA (ただし、LnはLa、Y、Gd、およ
びLuのうちの少なくとも一つ、XはC2およびBrの
うちの少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうちの少
なくとも一つ、そして、Xは、0<x<0.1である)
、 特開昭55−12145号公報に記載されている(Ba
、、y、M”°x)FX:yA (ただし、M ”はM
g、Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも
一つ、XはC2、Br、およびIのうちの少なくとも一
つ、AはEu、Tb、Ce、 Tm、 Dy、 Pr、
Ho、 Nd、 Yb、およびErのうちの少なくとも
一つ、モし・てXは、O≦X≦0.6、yは、0≦y≦
0.2である)、 特開昭55−160078号公報に記載されているM’
FX −xA : yL、n [ただし、MlはBa
、Ca、Sr、Mg、Zn、およびCdのうちの少なく
とも一種、AはBed、Mgo、CaO,SrO,Ba
d、ZnO,Al2O3、Y2Oコ、La2O3、I
neo)、5i02、TiO2、ZrO2、GeO2,
5n02、Nb201、Ta20t、、およびTho2
のうちの少なくとも一種、LnはEu、Tb、Ce、T
m、Dy、 Pr、 Ho、 Nd、 Yb、 Er、
Srn、およびGdのうちの少なくとも一種、XはC
1l、Br、およびIのうちの少なくとも一種であり、
Xおよびyはそれぞれ5xlO−’≦X≦0.5、およ
びo<y≦02である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭56−116777号公報に記載されている(H
a、、1.M” 1)F2−aBaX2 :yEu、z
A [ただし、Mlはベリリウム、マグネシウム、カル
シウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのう
ちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素のう
ちの少なくとも一種、Aはジルコニウムおよびスカンジ
ウムのうちの少なくとも一種であり、a、x、y、およ
び2はそれぞれO,S≦a≦1.25.0≦X≦1.1
0−6≦y≦2×10−“、および0<z≦10−2で
ある]の組成式で表わされる蛍光体、特開昭57−23
673号公報に記載されている(Ba+−xlM” z
)F2−aBaX2 :yEu、zB [ただし、Ml
はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチ
ウム、曲鉛、およびカドミウムのうちの少なくとも一種
、Xは塩素、臭素、および沃素のうちの少なくとも一種
であり、a、x、y、および2はそれぞれ0. 5≦a
≦1.25、O≦X≦1.10−6≦y≦2×10−”
、および0<z≦2X10−’である1の組成式で表わ
される蛍光体、 特開昭57−23675号公報に記載されている(Ba
+−x9M” x)F 2 ・aBaX2 :yEu、
zA [ただし、Mlはベリリウム、マグネシウム、カ
ルシウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムの
うちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素の
うちの少なくとも一種、Aは砒素および硅素のうちの少
なくとも一種であり、a、x、y、およびZはそれぞれ
0.5≦a≦1.25、o≦X≦1.1o−6≦y≦2
×10−′、およびO<z≦5xio−’である]の組
成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−89281号公報に記載されているM”O
X : xCe [ただし、MllはPr、Nd、Pm
、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er。
:Cu、Pb、Ba0−xAJZ20):Eu(ただし
、0.8≦X≦10)、および、MIO−XSiO2:
A(ただし、MlはMg、Ca、Sr、Zn、Cd、ま
たはBaであり、AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、
Tu、Bi、またはMnであり、Xは、0.5≦X≦2
.5である)、 特開昭55−12143号公報に記載されている( B
a +−x −y 1M g z 、 Ca y )
F X :aEu”(ただし、XはC2およびBrの
うちの少なくとも一つであり、Xおよびyは、0 <
x 十y≦0.6、かっxy:#Orあり、aは、1o
−6≦a≦5X10−2である)、 特開昭55−12144号公報に記載されているLnO
X : xA (ただし、LnはLa、Y、Gd、およ
びLuのうちの少なくとも一つ、XはC2およびBrの
うちの少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうちの少
なくとも一つ、そして、Xは、0<x<0.1である)
、 特開昭55−12145号公報に記載されている(Ba
、、y、M”°x)FX:yA (ただし、M ”はM
g、Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも
一つ、XはC2、Br、およびIのうちの少なくとも一
つ、AはEu、Tb、Ce、 Tm、 Dy、 Pr、
Ho、 Nd、 Yb、およびErのうちの少なくとも
一つ、モし・てXは、O≦X≦0.6、yは、0≦y≦
0.2である)、 特開昭55−160078号公報に記載されているM’
FX −xA : yL、n [ただし、MlはBa
、Ca、Sr、Mg、Zn、およびCdのうちの少なく
とも一種、AはBed、Mgo、CaO,SrO,Ba
d、ZnO,Al2O3、Y2Oコ、La2O3、I
neo)、5i02、TiO2、ZrO2、GeO2,
5n02、Nb201、Ta20t、、およびTho2
のうちの少なくとも一種、LnはEu、Tb、Ce、T
m、Dy、 Pr、 Ho、 Nd、 Yb、 Er、
Srn、およびGdのうちの少なくとも一種、XはC
1l、Br、およびIのうちの少なくとも一種であり、
Xおよびyはそれぞれ5xlO−’≦X≦0.5、およ
びo<y≦02である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭56−116777号公報に記載されている(H
a、、1.M” 1)F2−aBaX2 :yEu、z
A [ただし、Mlはベリリウム、マグネシウム、カル
シウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのう
ちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素のう
ちの少なくとも一種、Aはジルコニウムおよびスカンジ
ウムのうちの少なくとも一種であり、a、x、y、およ
び2はそれぞれO,S≦a≦1.25.0≦X≦1.1
0−6≦y≦2×10−“、および0<z≦10−2で
ある]の組成式で表わされる蛍光体、特開昭57−23
673号公報に記載されている(Ba+−xlM” z
)F2−aBaX2 :yEu、zB [ただし、Ml
はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチ
ウム、曲鉛、およびカドミウムのうちの少なくとも一種
、Xは塩素、臭素、および沃素のうちの少なくとも一種
であり、a、x、y、および2はそれぞれ0. 5≦a
≦1.25、O≦X≦1.10−6≦y≦2×10−”
、および0<z≦2X10−’である1の組成式で表わ
される蛍光体、 特開昭57−23675号公報に記載されている(Ba
+−x9M” x)F 2 ・aBaX2 :yEu、
zA [ただし、Mlはベリリウム、マグネシウム、カ
ルシウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムの
うちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素の
うちの少なくとも一種、Aは砒素および硅素のうちの少
なくとも一種であり、a、x、y、およびZはそれぞれ
0.5≦a≦1.25、o≦X≦1.1o−6≦y≦2
×10−′、およびO<z≦5xio−’である]の組
成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−89281号公報に記載されているM”O
X : xCe [ただし、MllはPr、Nd、Pm
、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er。
Tm、Yb、およびBiからなる群より選ばれる少なく
とも一種の三価金属であり、XはCl3およびBrのう
ちのいずれか一方あるいはその両方であり、Xは0<x
<0.1であるコの組成式で表わされる蛍光体、 特開昭、58−206678号公報に記載されているB
a +−1M 172 L 1 /2 F X :
y E u ” [ただし、MはLi、Na、に、Rb
、およびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ金属を表わし;Lは、Sc、Y、La、Ce、
Pr、 Nd% Pm、 Sm、 Gd、 T
b、 Dy、HOl Er% Tm、 Yb、
Lu、 Al1. Ga、In、およびTI2から
なる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし
:Xは、CJ2. Br、およびlからなる群より選
ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、X
は10−’≦X≦0.5、yはo<y≦0.1であるコ
の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−27980号公報に記載されているBaF
X −xA : yEu” [ただし、Xは、C2、B
r、およびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンでありzAは、テトラフルオロホウ酸化合物の
焼成物であり:そして、Xは10−6≦X≦0.1、y
は0くy≦0,1である]の組成式で表わされる蛍光体
、 特開昭59−47289号公報に記載されているBaF
X−xA : yEu” [ただし、Xは、C2、Br
、およびlからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンでありzAは、ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフ
ルオロチタン酸およびへキサフルオロシル−゛ニウム酸
の一価もしくは二価金属の塩からなるt、キサフルオロ
化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物
であり:そして、Xは10−6≦X≦0.1.yは0〈
y≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、特開
昭59−56479号公報に記載されているBaFX−
xNaX’:aEu” [ただし、XおよびX゛は、そ
れぞれ6党、B「、および■のうちの少なくとも一種で
あり、Xおよびaはそれぞれ0く×≦2、およびO<a
≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−56480号公報に記載されているM”F
X−xNaX’:yEu”:zA[たたし、Mlは、B
a、Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり、XおよびX′は、そ
れぞれCf1%Br、およびIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハ1]’f ンであり、Aは、V、C
r、Mn、Fe、Co、およびNiより選ばれる少なく
とも一種の遷移金属であり;そして、Xは0<x≦2、
yはo<y≦0.2、およびZは0<z≦10−2であ
るコの組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM’F
X−aM’X’ ・bM” ’X−2−cM”X”
3 ・xA : yEu” [ただし、MlはBa、S
r、およびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ土類金属であり=MIはLi、Na、に、R
b、およびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ金属であり:M° 1はBeおよびMgから
なる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり:
MIIはAIL、Ga、In、およびT2からなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の−i価金属であり、Aは金
属酸化物であり;XはC2、Br、およびIからなる群
より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;X’、
X”、およびx−’は、F、Cm、Br、およびIから
なる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり:
そして、aは0≦a≦2、bはO≦b≦104、Cは0
≦C≦10−’、かつB+ b+c≧10−6であり;
XはO<x≦0.5、yはo<y≦0.2である]の組
成式で表わされる蛍光体。
とも一種の三価金属であり、XはCl3およびBrのう
ちのいずれか一方あるいはその両方であり、Xは0<x
<0.1であるコの組成式で表わされる蛍光体、 特開昭、58−206678号公報に記載されているB
a +−1M 172 L 1 /2 F X :
y E u ” [ただし、MはLi、Na、に、Rb
、およびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ金属を表わし;Lは、Sc、Y、La、Ce、
Pr、 Nd% Pm、 Sm、 Gd、 T
b、 Dy、HOl Er% Tm、 Yb、
Lu、 Al1. Ga、In、およびTI2から
なる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし
:Xは、CJ2. Br、およびlからなる群より選
ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、X
は10−’≦X≦0.5、yはo<y≦0.1であるコ
の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−27980号公報に記載されているBaF
X −xA : yEu” [ただし、Xは、C2、B
r、およびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンでありzAは、テトラフルオロホウ酸化合物の
焼成物であり:そして、Xは10−6≦X≦0.1、y
は0くy≦0,1である]の組成式で表わされる蛍光体
、 特開昭59−47289号公報に記載されているBaF
X−xA : yEu” [ただし、Xは、C2、Br
、およびlからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンでありzAは、ヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフ
ルオロチタン酸およびへキサフルオロシル−゛ニウム酸
の一価もしくは二価金属の塩からなるt、キサフルオロ
化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物
であり:そして、Xは10−6≦X≦0.1.yは0〈
y≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、特開
昭59−56479号公報に記載されているBaFX−
xNaX’:aEu” [ただし、XおよびX゛は、そ
れぞれ6党、B「、および■のうちの少なくとも一種で
あり、Xおよびaはそれぞれ0く×≦2、およびO<a
≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−56480号公報に記載されているM”F
X−xNaX’:yEu”:zA[たたし、Mlは、B
a、Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり、XおよびX′は、そ
れぞれCf1%Br、およびIからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハ1]’f ンであり、Aは、V、C
r、Mn、Fe、Co、およびNiより選ばれる少なく
とも一種の遷移金属であり;そして、Xは0<x≦2、
yはo<y≦0.2、およびZは0<z≦10−2であ
るコの組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM’F
X−aM’X’ ・bM” ’X−2−cM”X”
3 ・xA : yEu” [ただし、MlはBa、S
r、およびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ土類金属であり=MIはLi、Na、に、R
b、およびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ金属であり:M° 1はBeおよびMgから
なる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり:
MIIはAIL、Ga、In、およびT2からなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の−i価金属であり、Aは金
属酸化物であり;XはC2、Br、およびIからなる群
より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;X’、
X”、およびx−’は、F、Cm、Br、およびIから
なる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり:
そして、aは0≦a≦2、bはO≦b≦104、Cは0
≦C≦10−’、かつB+ b+c≧10−6であり;
XはO<x≦0.5、yはo<y≦0.2である]の組
成式で表わされる蛍光体。
特開昭60−84381号公報に記載されているM’X
2・aM”X’ 2 :xEu”[ただし、MlはB
a、SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも
一一種のアルカリ土類金属であり;XおよびX゛はC1
、BrおよびIからなる群より選ばれる少なてとも一種
のハロゲンであって、かつX#X’であり:そしてaは
0.1≦a≦1O10、Xは(J<X≦0,2である]
の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、 特開昭60−101173号公報に記載されてしするM
’ FX−aM’ X’ : xEu” [ただし、
MlごまBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
t・なくとも一種のアルカリ土類金属であり:M’はR
bおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ金属であり:Xは6文、Brおよび■からなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり:X°
はF、CIA、Brおよび1からなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり;そしてaおよびXはそ
れぞれ0≦a≦4.0および0<x≦0.2であるコの
組成式で表わされる輝尽性蛍光体、 特開昭62−25189号公報に記載されているM’X
:xBi [ただし、MlはRbおよびC5からなる群
より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;X
はC2、Brおよびlからなる群より選ばれる少なくと
も一種のハロゲンであり:そしてXは0<x≦0.2の
範囲の数値である]の組成式で表わされる輝尽性蛍光体
、などを挙げることができる。
2・aM”X’ 2 :xEu”[ただし、MlはB
a、SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも
一一種のアルカリ土類金属であり;XおよびX゛はC1
、BrおよびIからなる群より選ばれる少なてとも一種
のハロゲンであって、かつX#X’であり:そしてaは
0.1≦a≦1O10、Xは(J<X≦0,2である]
の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、 特開昭60−101173号公報に記載されてしするM
’ FX−aM’ X’ : xEu” [ただし、
MlごまBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
t・なくとも一種のアルカリ土類金属であり:M’はR
bおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ金属であり:Xは6文、Brおよび■からなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり:X°
はF、CIA、Brおよび1からなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり;そしてaおよびXはそ
れぞれ0≦a≦4.0および0<x≦0.2であるコの
組成式で表わされる輝尽性蛍光体、 特開昭62−25189号公報に記載されているM’X
:xBi [ただし、MlはRbおよびC5からなる群
より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;X
はC2、Brおよびlからなる群より選ばれる少なくと
も一種のハロゲンであり:そしてXは0<x≦0.2の
範囲の数値である]の組成式で表わされる輝尽性蛍光体
、などを挙げることができる。
また、上記特開昭60−84381号公報に記載されて
いるM”X2 ・aM’X’ 2 :xEu2◆輝尽
性蛍光体には、以−ドに示すような添加物がMiX2・
a M ” X’ 21モル当り以下の割合で含まわ
ていてもよい。
いるM”X2 ・aM’X’ 2 :xEu2◆輝尽
性蛍光体には、以−ドに示すような添加物がMiX2・
a M ” X’ 21モル当り以下の割合で含まわ
ていてもよい。
特開昭60−166379号公報に記載されているbM
’X”(ただし、MIはRhおよびCsからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、X”は
F、 Cf2、BrおよびIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり、干してbはo<b≦1
0.0である);特開昭60−221483号公報に記
載さ、1−1″′CいるbKX”・cMgX”2 ・d
M”X””)(ただし、MllはSc、Y、La、Gd
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の三
価金属であり、X”、X“°およびX”はいずわもF、
C11,Brおよび■からなる群より選ばわる少なくと
も一種のハロゲンであり、そしてす、cおよびdはそれ
ぞれ、O≦bS2.0.0≦C≦2゜0.0≦d≦2.
0であ一ンて、かつ2X104≦b+c+dである):
特開昭60−228592号公報に記載ざわているyB
(たたし、yは2xio”≦y≦2XiO−’である)
:特開昭60−228593号公報に記載されているb
A(ただし、Aは5i02およびP2O5からなる群よ
り選ばれる少なくとも〜神の酸化物であり、モしてbは
10−4≦b≦2XlO−’である):特開昭61−1
20883号公報に記載されているbSin(ただし、
bは0 < b≦3 x 10−’である);特開昭6
1−120885号公報に記載されているbSnX”2
(ただし、X”はF、CIL、BrおよびIからなる群
より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、モして
bはo<b≦10−3である):特開昭61−2354
86号公報に記載されているbCsX” ・cSnX1
2(ただし、X”およびX′′はそれぞれF、 Cf2
、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンであり、そしてbおよびCはそれぞわ、o<
b≦10.0および1o−s≦C≦2×10−2である
):および特開昭6l−235487r+公報に記載さ
れているbCsX″ ・y L n ”(ただし、X″
はF、Cf1.BrおよびIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり、LnはSc、Y、Ce
、Pr、Nd、Sm。
’X”(ただし、MIはRhおよびCsからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、X”は
F、 Cf2、BrおよびIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり、干してbはo<b≦1
0.0である);特開昭60−221483号公報に記
載さ、1−1″′CいるbKX”・cMgX”2 ・d
M”X””)(ただし、MllはSc、Y、La、Gd
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の三
価金属であり、X”、X“°およびX”はいずわもF、
C11,Brおよび■からなる群より選ばわる少なくと
も一種のハロゲンであり、そしてす、cおよびdはそれ
ぞれ、O≦bS2.0.0≦C≦2゜0.0≦d≦2.
0であ一ンて、かつ2X104≦b+c+dである):
特開昭60−228592号公報に記載ざわているyB
(たたし、yは2xio”≦y≦2XiO−’である)
:特開昭60−228593号公報に記載されているb
A(ただし、Aは5i02およびP2O5からなる群よ
り選ばれる少なくとも〜神の酸化物であり、モしてbは
10−4≦b≦2XlO−’である):特開昭61−1
20883号公報に記載されているbSin(ただし、
bは0 < b≦3 x 10−’である);特開昭6
1−120885号公報に記載されているbSnX”2
(ただし、X”はF、CIL、BrおよびIからなる群
より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、モして
bはo<b≦10−3である):特開昭61−2354
86号公報に記載されているbCsX” ・cSnX1
2(ただし、X”およびX′′はそれぞれF、 Cf2
、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンであり、そしてbおよびCはそれぞわ、o<
b≦10.0および1o−s≦C≦2×10−2である
):および特開昭6l−235487r+公報に記載さ
れているbCsX″ ・y L n ”(ただし、X″
はF、Cf1.BrおよびIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり、LnはSc、Y、Ce
、Pr、Nd、Sm。
Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLu
からなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素で
あり、モしてbおよびyはそれぞれ、o<b≦10.0
および10−6≦y≦1.8XIO−’である)。
からなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素で
あり、モしてbおよびyはそれぞれ、o<b≦10.0
および10−6≦y≦1.8XIO−’である)。
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活ア
ルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発
光を示すので特に好ましい。ただし、本発明に用いられ
る輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるものではなく
、放射線を照射したのちに励起光を照射した場合に輝尽
発光を示す蛍光体であればいかなるものであってもよい
。
ルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発
光を示すので特に好ましい。ただし、本発明に用いられ
る輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるものではなく
、放射線を照射したのちに励起光を照射した場合に輝尽
発光を示す蛍光体であればいかなるものであってもよい
。
以−F余白
輝尽性蛍光体の凝東体からなる蛍光体層は、たとえば次
のような焼結法により形成することかできる。
のような焼結法により形成することかできる。
即も、焼結法の場合、蛍光体層の製造−1−程は、輝尽
性蛍光体を含む蛍光体層形成材料をシート状に成型する
工程と、この代)1物を焼結させる1゛桿とからなる。
性蛍光体を含む蛍光体層形成材料をシート状に成型する
工程と、この代)1物を焼結させる1゛桿とからなる。
蛍光体層形成材料をシート状に成型する1稈において、
蛍光体層形成材料としては、1−記輝JX +Jt蛍尤
体の粒子−からなる粉状物を用いることができる。
蛍光体層形成材料としては、1−記輝JX +Jt蛍尤
体の粒子−からなる粉状物を用いることができる。
また、蛍光体層形成材料として、1−記輝Jふ性蛍光体
の粒−rと結r′作1と今含む分¥i、液を用いること
もできる。この場合には 輝尽性蛍光体と結合剤を適当
な溶剤に添bu t、た、7)ち、これを充分に混合し
て、結合剤溶液1t・1・に゛宵体117子か均一に分
散した分散液をA製する。
の粒−rと結r′作1と今含む分¥i、液を用いること
もできる。この場合には 輝尽性蛍光体と結合剤を適当
な溶剤に添bu t、た、7)ち、これを充分に混合し
て、結合剤溶液1t・1・に゛宵体117子か均一に分
散した分散液をA製する。
結合剤としては 蛍光体の分散性、あるいは焼結二[梓
における9、散性などにおいて好適な性質を有する物′
11が好ましい。、二のような材料の例としては、パラ
フィン(例、炭素数:16乃至40、融点:37.8乃
至64.5℃のもの):ワックス(天然ワックスとして
は:キャンデリラワックス、カルナウバワックス、ライ
スワックス、木ろうなどの植物系ワックス、みつろう、
ラノリン、鯨ろうなどの動物系ワックス、モンタンワッ
クス、オシケライト、セレシンなどの鉱物系ワックス、
合成ワックスとしては:ポリエチレンワックス、フィシ
ャー・トロプシュワックスなどの石炭系合成ワックス、
硬化ビマシ油、脂肪酸アミド、ケトンなどの油脂系合成
ワックス)ニレジン(ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビ
ニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル(メタ
)アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、
ポリウレタンンセルロースアセテートブチレート、ポリ
ビニルアルコール、線状ポリエステル)などを挙げるこ
とができる。またゼラチン等の蛋白質、デキストラン等
のポリサッカライド、またはアラビアゴムのようなもの
を使用することもてきる2、 溶剤の例としては メタノール、エタノール、n−プロ
ペノール、n−ブタノールなどの低級アルコール:メチ
レンタロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含
有炭化水素:アセトン、メチルエチルケトン、j 、f
ルイソブチルケトンなどのケトン:酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級゛どルコール
とのエステルミンオキサン、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレンクリコールモノメチルエーテル
などのエーテル;そ℃てそれらの混合物を挙げることが
できる。
における9、散性などにおいて好適な性質を有する物′
11が好ましい。、二のような材料の例としては、パラ
フィン(例、炭素数:16乃至40、融点:37.8乃
至64.5℃のもの):ワックス(天然ワックスとして
は:キャンデリラワックス、カルナウバワックス、ライ
スワックス、木ろうなどの植物系ワックス、みつろう、
ラノリン、鯨ろうなどの動物系ワックス、モンタンワッ
クス、オシケライト、セレシンなどの鉱物系ワックス、
合成ワックスとしては:ポリエチレンワックス、フィシ
ャー・トロプシュワックスなどの石炭系合成ワックス、
硬化ビマシ油、脂肪酸アミド、ケトンなどの油脂系合成
ワックス)ニレジン(ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビ
ニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル(メタ
)アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、
ポリウレタンンセルロースアセテートブチレート、ポリ
ビニルアルコール、線状ポリエステル)などを挙げるこ
とができる。またゼラチン等の蛋白質、デキストラン等
のポリサッカライド、またはアラビアゴムのようなもの
を使用することもてきる2、 溶剤の例としては メタノール、エタノール、n−プロ
ペノール、n−ブタノールなどの低級アルコール:メチ
レンタロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含
有炭化水素:アセトン、メチルエチルケトン、j 、f
ルイソブチルケトンなどのケトン:酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級゛どルコール
とのエステルミンオキサン、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレンクリコールモノメチルエーテル
などのエーテル;そ℃てそれらの混合物を挙げることが
できる。
L記分散、液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比
は、蛍光体の種類あるいは後述する成31j条件、焼結
、η件などにti−、)ズ異なるが、一般には結合剤と
蛍光体との混合比は1:1乃至1300(1■賃比)の
範[川からAばれ、そして特に1−20乃至1:150
ti口M比)の範囲から選ぶことが好ましい。
は、蛍光体の種類あるいは後述する成31j条件、焼結
、η件などにti−、)ズ異なるが、一般には結合剤と
蛍光体との混合比は1:1乃至1300(1■賃比)の
範[川からAばれ、そして特に1−20乃至1:150
ti口M比)の範囲から選ぶことが好ましい。
なお、分散液には蛍光体の分散性を向トさせるだめの分
散剤などの添加剤が混合されていてもよい。そのような
目的に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げる
ことができる。
散剤などの添加剤が混合されていてもよい。そのような
目的に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げる
ことができる。
次に、蛍光体粒子からなる粉状物、あるいは上記のよう
にして調製された蛍光体粒子と結合剤とを含有する分散
液をシート状に成型する。
にして調製された蛍光体粒子と結合剤とを含有する分散
液をシート状に成型する。
成型は蛍光体層形成材料が粉状物である場合には、この
粉状物を成型用型に押し込むことによりシート状に成型
することが好ましい。成型用の型は通常長方形状の金型
が用いられる。また蛍光体層形成材料が分散液である場
合には通常の塗布方法(例えばドクターブレードなど)
を用いて適当な基板の上に塗布してシー)・状に成型す
るか、あるいは上記粉状物と同様に成形用型に流し込ん
てシート状に成形することが好ましい。
粉状物を成型用型に押し込むことによりシート状に成型
することが好ましい。成型用の型は通常長方形状の金型
が用いられる。また蛍光体層形成材料が分散液である場
合には通常の塗布方法(例えばドクターブレードなど)
を用いて適当な基板の上に塗布してシー)・状に成型す
るか、あるいは上記粉状物と同様に成形用型に流し込ん
てシート状に成形することが好ましい。
上記成型工程においては、圧縮処理が施されてもよく、
特に蛍光体層形成材料が粉状物である場合には圧縮処理
が施される。圧縮処理は例えばプレス成型により行なわ
れ、lXl0’乃至1×10’kgf/am″の範囲の
圧力をかけて行なうことが好ましい。これにより得られ
る蛍光体層の相対密度をより高めることが可能となる。
特に蛍光体層形成材料が粉状物である場合には圧縮処理
が施される。圧縮処理は例えばプレス成型により行なわ
れ、lXl0’乃至1×10’kgf/am″の範囲の
圧力をかけて行なうことが好ましい。これにより得られ
る蛍光体層の相対密度をより高めることが可能となる。
次に、上記のようにして得られたシート状の成型物を焼
結させる。
結させる。
焼結は、例えば電気炉などの焼成炉で行なわれる。焼結
温度および焼結時間は蛍光体層形成材料の種類、シート
状成型物の形状および状態、さらにはこれらに使用され
る輝尽性蛍光体の種類によって異なるが、一般に焼結温
度は500乃至1000℃の範囲であり、好ましくは7
00乃至950℃の範囲であり、また、焼結時間は好ま
しくは、0.5乃至6時間の範囲である。焼結雰囲気と
しては、通常窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気など
の中性ガス雰囲気あるいは少量の水素ガスを含有する窒
素ガス雰囲気、−酸化炭素を含有する二酸化炭素雰囲気
などの弱還元性の雰囲気が利用される。
温度および焼結時間は蛍光体層形成材料の種類、シート
状成型物の形状および状態、さらにはこれらに使用され
る輝尽性蛍光体の種類によって異なるが、一般に焼結温
度は500乃至1000℃の範囲であり、好ましくは7
00乃至950℃の範囲であり、また、焼結時間は好ま
しくは、0.5乃至6時間の範囲である。焼結雰囲気と
しては、通常窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気など
の中性ガス雰囲気あるいは少量の水素ガスを含有する窒
素ガス雰囲気、−酸化炭素を含有する二酸化炭素雰囲気
などの弱還元性の雰囲気が利用される。
シート状成型物が輝尽性蛍光体からなる粉状物である場
合には直接上記の焼結条件で焼結が行なねれるが、シー
ト状成型物が輝尽性蛍光体および結合剤を含有する分散
液である場合には、予めシート状成型物中の結合剤を窒
素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気などの中性ガス雰囲
気あるいは酸素ガス雰囲気、空気雰囲気などの酸化性ガ
ス雰囲気下で比較的低温(100〜450℃の範囲の温
度)で気散させた後、続いてF記の焼結条件で焼結させ
ることが好ましい。この低温域での結合剤の気故により
結合剤なとの輝尽性蛍光体以外の成分は300乃値40
0℃付近で揮発するかもしくはZ−酸化炭素となって容
易に除大される。この結果、得られる蛍光体層は蛍光体
のみから構成される。低温気散のための時間は0.5乃
至6時間の範囲であることが好まし7い。
合には直接上記の焼結条件で焼結が行なねれるが、シー
ト状成型物が輝尽性蛍光体および結合剤を含有する分散
液である場合には、予めシート状成型物中の結合剤を窒
素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気などの中性ガス雰囲
気あるいは酸素ガス雰囲気、空気雰囲気などの酸化性ガ
ス雰囲気下で比較的低温(100〜450℃の範囲の温
度)で気散させた後、続いてF記の焼結条件で焼結させ
ることが好ましい。この低温域での結合剤の気故により
結合剤なとの輝尽性蛍光体以外の成分は300乃値40
0℃付近で揮発するかもしくはZ−酸化炭素となって容
易に除大される。この結果、得られる蛍光体層は蛍光体
のみから構成される。低温気散のための時間は0.5乃
至6時間の範囲であることが好まし7い。
なお、圧縮処理は上述し、たように焼結工程の前に行な
ってもよいが、焼結過程において行なってもよい。即ち
、圧縮処理を施しながら焼結させてもよい。特にシート
状の成型物が蛍光体粒子のみからなる粉状物である場合
に好適である。
ってもよいが、焼結過程において行なってもよい。即ち
、圧縮処理を施しながら焼結させてもよい。特にシート
状の成型物が蛍光体粒子のみからなる粉状物である場合
に好適である。
このようにして形成される蛍光体の相対密度は一般に7
0%以上である。蛍光体の粒界サイズは1乃至100μ
mの範囲にあるのが好ましく、また蛍光体層の層厚は、
目的とする放射線像変換パネルの特性などによって異な
るが、通常は20μm乃至1mmの範囲であり、好まし
くは50乃至500μmの範囲である。
0%以上である。蛍光体の粒界サイズは1乃至100μ
mの範囲にあるのが好ましく、また蛍光体層の層厚は、
目的とする放射線像変換パネルの特性などによって異な
るが、通常は20μm乃至1mmの範囲であり、好まし
くは50乃至500μmの範囲である。
輝尽性蛍光体が凝集体である蛍光体層は、上記のような
焼結法に限らずホットプレス法、あるいは蒸着法などに
よって製造してもよい。
焼結法に限らずホットプレス法、あるいは蒸着法などに
よって製造してもよい。
本発明の放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体の凝集体か
らなる蛍光体層は、上記のようにして形成された輝尽性
蛍光体の凝集体のみからなるものだけでなく、該蛍光体
層に、高分子物質を含浸させたものであってもよい。
らなる蛍光体層は、上記のようにして形成された輝尽性
蛍光体の凝集体のみからなるものだけでなく、該蛍光体
層に、高分子物質を含浸させたものであってもよい。
このようにして形成した蛍光体層を後述する支持体上に
、ひずみ緩和層を介して付設する。
、ひずみ緩和層を介して付設する。
本発明の放射線像変換パネルは、たとえば以下に述べる
ような方法で製造できる。
ような方法で製造できる。
まず、支持体に接着剤を塗布しひずみ緩和層を付設する
。さらに該ひずみ緩和層上に接着剤を塗布し上記のよう
にして形成された蛍光体層を、焼結や蒸着などが行なわ
れた基板上から剥離させ、圧着する。ひずみ緩和層が接
着層を兼ねる場合には、支持体にひずみ緩和層兼接着層
材料を塗布し、その七に上記のようにして蛍光体層を付
設する。
。さらに該ひずみ緩和層上に接着剤を塗布し上記のよう
にして形成された蛍光体層を、焼結や蒸着などが行なわ
れた基板上から剥離させ、圧着する。ひずみ緩和層が接
着層を兼ねる場合には、支持体にひずみ緩和層兼接着層
材料を塗布し、その七に上記のようにして蛍光体層を付
設する。
蛍光体層を蒸着によって形成する場合は、pめひすみ緩
和層を設けである支持体を蒸着基板として、該ひずみ緩
和層−トに蒸着により蛍光体層を形成する方法でも、本
発明の放射線像変換パネルを製造することができる。
和層を設けである支持体を蒸着基板として、該ひずみ緩
和層−トに蒸着により蛍光体層を形成する方法でも、本
発明の放射線像変換パネルを製造することができる。
蛍光体層に高分子物質を含浸させる場合、高分子物質の
含浸はパネルトに付設した蛍光体層に対して行なっても
よいし、パネル−Lに付設する前に行なってもよい。
含浸はパネルトに付設した蛍光体層に対して行なっても
よいし、パネル−Lに付設する前に行なってもよい。
次に、支持体について述べる。
本発明において使用する支持体は、従来の放射線写真法
における増感紙の支持体として用いられている各種の材
料あるいは放射線像変換パネルの支持体として公知の各
種の材料から任意に選ぶことができる。そのような材料
の例としては、セルロースアセテート、ポリエステル、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド
、トリアセテート、ポリカーボネートなどのプラスチッ
ク物質のフィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金
箔などの金属シート、セラミックスの板、金属の板、通
常の紙、バライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタンな
ど、7)顔料を含有するピグメント紙、ポリビニルアル
コ・−ルなどをサイジングした紙などを挙げることがで
きる。この支持体にはカーボンブラックなどの光吸収性
物質が練り込まわていてもよく、あるいは二、酸化チタ
ンなどの光反射性物質が練り込まれていてもよい。
における増感紙の支持体として用いられている各種の材
料あるいは放射線像変換パネルの支持体として公知の各
種の材料から任意に選ぶことができる。そのような材料
の例としては、セルロースアセテート、ポリエステル、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド
、トリアセテート、ポリカーボネートなどのプラスチッ
ク物質のフィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金
箔などの金属シート、セラミックスの板、金属の板、通
常の紙、バライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタンな
ど、7)顔料を含有するピグメント紙、ポリビニルアル
コ・−ルなどをサイジングした紙などを挙げることがで
きる。この支持体にはカーボンブラックなどの光吸収性
物質が練り込まわていてもよく、あるいは二、酸化チタ
ンなどの光反射性物質が練り込まれていてもよい。
本発明の放射線像変換パネルは、上記の蛍光体層と支持
体との間にひ)゛み緩和層を設けることに特徴がある。
体との間にひ)゛み緩和層を設けることに特徴がある。
温度の変化によるひずみは、蛍光体層の熱膨張による伸
びと、支持体の熱膨張による伸びの違い、すなわち、ず
れから生じるものである。蛍光体層と支持体がひずみ緩
和層を介して設けられているとき、ずれとひずみの関係
は(1)式で表せられる。
びと、支持体の熱膨張による伸びの違い、すなわち、ず
れから生じるものである。蛍光体層と支持体がひずみ緩
和層を介して設けられているとき、ずれとひずみの関係
は(1)式で表せられる。
γ=ΔIt/d (1’1ここでγはひず
み、Δ2はずれの大きさ、dはひずみ緩和層の厚さであ
る。
み、Δ2はずれの大きさ、dはひずみ緩和層の厚さであ
る。
(1)式から明らかなように、ひずみ緩和層の厚さか厚
い程、支持体と蛍光体層の熱膨張の違いによるずれから
生じるひずみが緩和されるので、ひずみの緩和という面
からは有利である。しかしなから、ひずみ緩和層が、あ
まり厚すぎると、支持体が支える重量も増加し支持体の
負担が増すばかりでなく、パネル全体の厚さおよび重量
も増し、取り扱いの面からも好ましくない。従フて、ひ
ずみ緩和層の厚さは、他の層とのバランスから5μm〜
5000μm程度が好ましく、より好ましくは10μm
〜500μmの範囲である。
い程、支持体と蛍光体層の熱膨張の違いによるずれから
生じるひずみが緩和されるので、ひずみの緩和という面
からは有利である。しかしなから、ひずみ緩和層が、あ
まり厚すぎると、支持体が支える重量も増加し支持体の
負担が増すばかりでなく、パネル全体の厚さおよび重量
も増し、取り扱いの面からも好ましくない。従フて、ひ
ずみ緩和層の厚さは、他の層とのバランスから5μm〜
5000μm程度が好ましく、より好ましくは10μm
〜500μmの範囲である。
ひずみ緩和層は前記したように、温度の変化によって生
じるずれやひずみを吸収して、支持体と蛍光体層の受け
る応力を軽減させる働きをするものである。また、さら
に外部からの衝繋によるひずみを吸収する効果もある。
じるずれやひずみを吸収して、支持体と蛍光体層の受け
る応力を軽減させる働きをするものである。また、さら
に外部からの衝繋によるひずみを吸収する効果もある。
応力とひずみとの間には、(II )式で表わされる関
係がある。
係がある。
τ=G・γ (11)
ここで、では応力、γはひずみ、(jは剛性率(ずれ弾
性率、横弾性率ともいう)といわれる物質固有の定数で
ある。
性率、横弾性率ともいう)といわれる物質固有の定数で
ある。
ひずみ緩和層は、を記のように大きなひずみを受けても
小さな応力しかもたらさない(動きをするものであるか
ら、その剛性率Gは小さなものである必要がある。一般
に、輝尽性蛍光体の凝集体からなる蛍光体層と該蛍光体
層を支持する支持体の熱膨張率の違いを考えると、ひず
み緩和層の剛性率は10kgf/mm2以Fであること
が好ましい。ひずみ緩和層を構成する材料の例としては
、天然ゴムやブタンエンゴム、イソプレンゴム、ポリク
ロロプレンゴム、ノリコンゴム、ウレタンゴム、ブチル
ゴム、アクリルゴム、ニトリル系ゴムなどの合成ゴムを
挙げることできる。また、発泡スチロール、ポリエチレ
ンフオーム等の構造的に剛性率を小さくしたものも使用
可能である。
小さな応力しかもたらさない(動きをするものであるか
ら、その剛性率Gは小さなものである必要がある。一般
に、輝尽性蛍光体の凝集体からなる蛍光体層と該蛍光体
層を支持する支持体の熱膨張率の違いを考えると、ひず
み緩和層の剛性率は10kgf/mm2以Fであること
が好ましい。ひずみ緩和層を構成する材料の例としては
、天然ゴムやブタンエンゴム、イソプレンゴム、ポリク
ロロプレンゴム、ノリコンゴム、ウレタンゴム、ブチル
ゴム、アクリルゴム、ニトリル系ゴムなどの合成ゴムを
挙げることできる。また、発泡スチロール、ポリエチレ
ンフオーム等の構造的に剛性率を小さくしたものも使用
可能である。
公知の放射線像変換パネルにおいては、支持体と蛍光体
層の結合を強化するため、あるいは放射線像変換パネル
としての感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上さ
せるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面にゼ
ラチンなどの高分子物11を塗布して接着層としたり、
あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反
射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性物質か
らなる光吸収層を設けることも行なわれている。本発明
で用いられる支持体についても、これらの各種の層を設
けることができる。これらの層が、上記のひずみ緩和層
を兼ねていてもよいことはもちろんである。ただし、従
来のゼラチンなどからなるト塗層あるいは光反射性物質
を樹脂結合剤に分散して形成した光反射層は、それらの
剛性が非常に高いため、ひずみ緩和層として実質的に機
能しない。
層の結合を強化するため、あるいは放射線像変換パネル
としての感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上さ
せるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面にゼ
ラチンなどの高分子物11を塗布して接着層としたり、
あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反
射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性物質か
らなる光吸収層を設けることも行なわれている。本発明
で用いられる支持体についても、これらの各種の層を設
けることができる。これらの層が、上記のひずみ緩和層
を兼ねていてもよいことはもちろんである。ただし、従
来のゼラチンなどからなるト塗層あるいは光反射性物質
を樹脂結合剤に分散して形成した光反射層は、それらの
剛性が非常に高いため、ひずみ緩和層として実質的に機
能しない。
蛍光体層の支持体に接する側とは反対側の表面には、蛍
光体層を物理的および化学的に保護する目的で透明な保
護膜が設けられていることが好ましい。
光体層を物理的および化学的に保護する目的で透明な保
護膜が設けられていることが好ましい。
透明な保護膜は、例えば、酢酸セルロース、ニトロセル
ロースなどのセルロース誘導体;あるいはポリメチルメ
タクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル・酢酸ビニルコポリマーなとの合成高分子物質のよう
な透明な高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶
液を上記蛍光体層の上に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミドなどから
なるプラスチックシート:および透明なガラス板などの
保護膜形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適
当な接着剤を用いて接着するなどの方法によっても形成
することができる。また、Sin、等のセラミックス、
ガラスおよび有機物を蛍光体層表面に蒸着すること、も
しくは焼き付けることによって保護膜を形成することも
できる。このようにして形成する透明保護膜の膜厚は、
約3乃至20μmとするのが好ましい。
ロースなどのセルロース誘導体;あるいはポリメチルメ
タクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル・酢酸ビニルコポリマーなとの合成高分子物質のよう
な透明な高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶
液を上記蛍光体層の上に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミドなどから
なるプラスチックシート:および透明なガラス板などの
保護膜形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適
当な接着剤を用いて接着するなどの方法によっても形成
することができる。また、Sin、等のセラミックス、
ガラスおよび有機物を蛍光体層表面に蒸着すること、も
しくは焼き付けることによって保護膜を形成することも
できる。このようにして形成する透明保護膜の膜厚は、
約3乃至20μmとするのが好ましい。
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、この実施例は本発明を制限するものではない。
[実施例1]
粉末状の二価ユーロピウム賦活弗化臭化バリウム蛍光体
粒子(BaFBr:0.001Eu”)を成型用の金型
に押し込みシート状に成型圧縮した。圧縮はプレス成型
機(圧カニ10コk g f / c m’、温度=2
5℃)を用いて行なった。
粒子(BaFBr:0.001Eu”)を成型用の金型
に押し込みシート状に成型圧縮した。圧縮はプレス成型
機(圧カニ10コk g f / c m’、温度=2
5℃)を用いて行なった。
次に、これを高温電気炉に入れて焼結を行なった。焼結
は窒素ガス雰囲気中にて750℃の温度で1.5時間か
けて行なった。焼結させた後、該焼結物を電気炉から取
り出し、冷却して層厚が300μmの上記蛍光体のみか
らなる蛍光体層を形成した。
は窒素ガス雰囲気中にて750℃の温度で1.5時間か
けて行なった。焼結させた後、該焼結物を電気炉から取
り出し、冷却して層厚が300μmの上記蛍光体のみか
らなる蛍光体層を形成した。
一方、アルミニウム金属板(支持体、厚み:1 m m
)にポリクロロプレン系接着剤くエバーグリッド50
3−S)[A、C,1,ジャパン・リミテッド製]を塗
布し、ひずみ緩和層兼接着層(層厚:100μm、剛性
率:0.5kgf/mm2)を形成して、上記のように
して得られた蛍光体層を接着し、本発明の放射線像変換
パネル(サイズ:たて430 mmXよこ354mm)
を製造した。
)にポリクロロプレン系接着剤くエバーグリッド50
3−S)[A、C,1,ジャパン・リミテッド製]を塗
布し、ひずみ緩和層兼接着層(層厚:100μm、剛性
率:0.5kgf/mm2)を形成して、上記のように
して得られた蛍光体層を接着し、本発明の放射線像変換
パネル(サイズ:たて430 mmXよこ354mm)
を製造した。
[比較例1コ
実施例1において、ポリクロロプレン系接着剤を用いる
代りに、エポキシ系接着剤(スリーボンド2082)[
スリーポンド(株)製]を用いて接着層(層厚:100
μm、剛性率:100kgf/mm2)を形成した以外
は、実施例1の方法と同様の操作を行なうことにより放
射線像変換パネルを製造した。
代りに、エポキシ系接着剤(スリーボンド2082)[
スリーポンド(株)製]を用いて接着層(層厚:100
μm、剛性率:100kgf/mm2)を形成した以外
は、実施例1の方法と同様の操作を行なうことにより放
射線像変換パネルを製造した。
上記のようにして得た実施例1および比較例1に温度変
化(0℃〜40℃)を与え、蛍光体層のひび割れ、支持
体の変形の有無を観察した。結果を第1表に示した。
化(0℃〜40℃)を与え、蛍光体層のひび割れ、支持
体の変形の有無を観察した。結果を第1表に示した。
なお、第1表には(I)、(II )式から計算した上
記温度変化によって生じる応力の値もあわせて示した。
記温度変化によって生じる応力の値もあわせて示した。
ただし、アルミニウム金属板支持体の熱膨張率を2.3
x 10−5/に、蛍光体層の熱膨弓長率を6.0x
lO−57にとした。
x 10−5/に、蛍光体層の熱膨弓長率を6.0x
lO−57にとした。
以下余白
第1表
観察結果 応力(kgf/mm2)蛍光体層の
支持体の たて方向 よこ方Te1J夫施例
1 なし なし 3.1 2.
6比較例1 あり あり 620
510以下金白 第1表に示された結果から明らかなように、ひずみ緩和
層を有する本発明の放射線像変換パネル(実施例1)は
、ひずみ緩和層を持たない従来の放射線像変換パネル(
比較例1)に比較して温度の変化に対する強度が著しく
向上し、温度の変化にあっても蛍光体層にひび割れが生
じたり、支持体が変形するようなことはなかった。また
、本発明のパネルは剛性率の小さいひずみ緩和層を有す
るために、外部から支持体に加えられたひずみによって
蛍光体層に与えられる応力が小さくなり、衝1に対して
も蛍光体層のわれが生じにくくなることも明白である。
支持体の たて方向 よこ方Te1J夫施例
1 なし なし 3.1 2.
6比較例1 あり あり 620
510以下金白 第1表に示された結果から明らかなように、ひずみ緩和
層を有する本発明の放射線像変換パネル(実施例1)は
、ひずみ緩和層を持たない従来の放射線像変換パネル(
比較例1)に比較して温度の変化に対する強度が著しく
向上し、温度の変化にあっても蛍光体層にひび割れが生
じたり、支持体が変形するようなことはなかった。また
、本発明のパネルは剛性率の小さいひずみ緩和層を有す
るために、外部から支持体に加えられたひずみによって
蛍光体層に与えられる応力が小さくなり、衝1に対して
も蛍光体層のわれが生じにくくなることも明白である。
Claims (1)
- 1。支持体と、この支持体上に設けられた輝尽性蛍光体
の凝集体からなる蛍光体層とを有する放射線像変換パネ
ルにおいて、該蛍光体層と支持体との間にひずみ緩和層
が設けられていることを特徴とする放射線像変換パネル
。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63026322A JPH0697280B2 (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 放射線像変換パネル |
US07/306,318 US4922105A (en) | 1988-02-05 | 1989-02-03 | Radiation image storage panel |
EP89102044A EP0327134B1 (en) | 1988-02-05 | 1989-02-06 | Radiation image storage panel |
DE68918718T DE68918718T2 (de) | 1988-02-05 | 1989-02-06 | Schirm zum Speichern eines Strahlungsbildes. |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63026322A JPH0697280B2 (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 放射線像変換パネル |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01201199A true JPH01201199A (ja) | 1989-08-14 |
JPH0697280B2 JPH0697280B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=12190166
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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Country Status (4)
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---|---|
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EP (1) | EP0327134B1 (ja) |
JP (1) | JPH0697280B2 (ja) |
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US5340996A (en) * | 1989-08-10 | 1994-08-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image read-out apparatus, radiation image recording method and apparatus, stimulable phosphor sheet, and cassette |
GB2236495B (en) * | 1989-10-07 | 1993-09-22 | P J Mason & Co Limited | Improvements in or relating to illuminating arrangements |
US5637875A (en) * | 1995-07-07 | 1997-06-10 | Battelle Memorial Institute | Method of enhancing radiation response of radiation detection materials |
JP4279462B2 (ja) | 1998-06-18 | 2009-06-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | シンチレータパネル、放射線イメージセンサ及びその製造方法 |
US7034306B2 (en) * | 1998-06-18 | 2006-04-25 | Hamamatsu Photonics K.K. | Scintillator panel and radiation image sensor |
EP1505410B1 (en) * | 1998-06-18 | 2012-05-09 | Hamamatsu Photonics K.K. | Scintillator panel and radiation image sensor |
TW449937B (en) * | 1999-02-26 | 2001-08-11 | Matsushita Electronics Corp | Semiconductor device and the manufacturing method thereof |
CN1161625C (zh) | 1999-04-09 | 2004-08-11 | 浜松光子学株式会社 | 闪烁体面板和射线图象传感器 |
JP2000310699A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル |
JP4497663B2 (ja) * | 2000-06-09 | 2010-07-07 | キヤノン株式会社 | 放射線画像撮影装置 |
KR20030072606A (ko) * | 2001-01-30 | 2003-09-15 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 신틸레이터 패널 및 방사선 이미지 센서 |
FR2822294B1 (fr) | 2001-03-13 | 2003-10-24 | Commissariat Energie Atomique | Ecran de conversion de rayonnement x en photons lumineux |
EP1426977A1 (en) * | 2002-10-25 | 2004-06-09 | Agfa-Gevaert | Storage phosphor screen and preparation method |
CN101493426B (zh) * | 2008-01-25 | 2013-09-25 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | X线成像装置和便携式探测器面板 |
CN101507611B (zh) * | 2008-02-13 | 2014-06-25 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | 检测器面板和x射线成像装置 |
CN101507610B (zh) * | 2008-02-13 | 2012-12-12 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | 检测器面板和x射线成像装置 |
CN101507608A (zh) * | 2008-02-15 | 2009-08-19 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | X射线成像装置和检测器面板 |
CN101507609B (zh) * | 2008-02-15 | 2013-03-06 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | 探测器面板和x射线成像设备 |
US8933424B1 (en) | 2013-11-21 | 2015-01-13 | Axcelis Technologies, Inc. | Method for measuring transverse beam intensity distribution |
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---|---|---|---|---|
BE786323A (fr) * | 1971-07-16 | 1973-01-15 | Eastman Kodak Co | Ecran renforcateur et produit radiographique le |
JPS6033099A (ja) * | 1983-08-02 | 1985-02-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
JPS59231500A (ja) * | 1983-06-14 | 1984-12-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
US4835397A (en) * | 1986-04-19 | 1989-05-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image storage panel |
DE3787684T2 (de) * | 1986-07-11 | 1994-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Schirm zum Speichern eines Strahlungsbildes und Verfahren zur Herstellung desselben. |
JPH0631911B2 (ja) * | 1986-12-27 | 1994-04-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
-
1988
- 1988-02-05 JP JP63026322A patent/JPH0697280B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-02-03 US US07/306,318 patent/US4922105A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-06 EP EP89102044A patent/EP0327134B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-06 DE DE68918718T patent/DE68918718T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0327134B1 (en) | 1994-10-12 |
US4922105A (en) | 1990-05-01 |
JPH0697280B2 (ja) | 1994-11-30 |
EP0327134A2 (en) | 1989-08-09 |
DE68918718T2 (de) | 1995-02-16 |
EP0327134A3 (en) | 1990-03-21 |
DE68918718D1 (de) | 1994-11-17 |
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