JPH01197524A - ポリホルマール系樹脂とその製造法 - Google Patents
ポリホルマール系樹脂とその製造法Info
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- JPH01197524A JPH01197524A JP2137788A JP2137788A JPH01197524A JP H01197524 A JPH01197524 A JP H01197524A JP 2137788 A JP2137788 A JP 2137788A JP 2137788 A JP2137788 A JP 2137788A JP H01197524 A JPH01197524 A JP H01197524A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なポリホルマール系樹脂とその製動率のよ
い製造方法に関する。
い製造方法に関する。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課題〕従来
からポリホルマール系樹脂としては各種のものが知られ
ており、特開昭54−125297号公報には種りの化
学構造を有するものが示されている。このうち代表的な
ものとしては、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)プロパン(通称ビスフェノールA)とメチレンクロラ
イドの反応によって得られるポリホルマール樹脂である
が、このものはガラス転移温度が85°Cであり、充分
な耐熱性を有していないという欠点がある。また、この
ポリホルマール樹脂は、光学的性質においても光学的異
方性が大きく、光学JR,2”yの素材として用いるこ
とはできない。
からポリホルマール系樹脂としては各種のものが知られ
ており、特開昭54−125297号公報には種りの化
学構造を有するものが示されている。このうち代表的な
ものとしては、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)プロパン(通称ビスフェノールA)とメチレンクロラ
イドの反応によって得られるポリホルマール樹脂である
が、このものはガラス転移温度が85°Cであり、充分
な耐熱性を有していないという欠点がある。また、この
ポリホルマール樹脂は、光学的性質においても光学的異
方性が大きく、光学JR,2”yの素材として用いるこ
とはできない。
そこで、本発明者らは従来のポリホルマール樹脂におけ
る課題を解消した新たなポリホルマール系樹脂を開発す
べく鋭意研究を重ね、本発明のポリホルマール系樹脂を
見出すに至った。
る課題を解消した新たなポリホルマール系樹脂を開発す
べく鋭意研究を重ね、本発明のポリホルマール系樹脂を
見出すに至った。
すなわち本発明は、
一般式
〔式中、R1,RZはそれぞれハロゲン原子、炭素DI
〜6のアルキル基あるいは炭素数6〜12のぞれ水素原
子、炭素数1〜6のアルキル桑ゐるいは炭素数6〜12
のアリール基を示す。)。
〜6のアルキル基あるいは炭素数6〜12のぞれ水素原
子、炭素数1〜6のアルキル桑ゐるいは炭素数6〜12
のアリール基を示す。)。
−S−、−5O−または−SO□−を示す。〕で表わさ
れる繰返し単位を有し、かつ0.5g/dffi濃度の
塩化メチレン溶液の20°Cでの還元粘度〔η、、/
C)が0.2dffi/g以上であるポリホルマール系
樹脂を提供するとともに、 −触式 (式中、R’、R2,CmおよびXIは前記と同じ。)
で表わされる二価フェノールとメチレンハライドとを反
応させることを特徴とする前述のポリホルマール系樹脂
の製造法を提供するものである。
れる繰返し単位を有し、かつ0.5g/dffi濃度の
塩化メチレン溶液の20°Cでの還元粘度〔η、、/
C)が0.2dffi/g以上であるポリホルマール系
樹脂を提供するとともに、 −触式 (式中、R’、R2,CmおよびXIは前記と同じ。)
で表わされる二価フェノールとメチレンハライドとを反
応させることを特徴とする前述のポリホルマール系樹脂
の製造法を提供するものである。
本発明のポリホルマール系樹脂は、前述した一般式(1
)で表わされる繰返し単位を有するものであるが、この
−最大(13中でR’、R2はそれぞれハロゲン原子(
弗素、塩素、臭素、ヨウ素)。
)で表わされる繰返し単位を有するものであるが、この
−最大(13中でR’、R2はそれぞれハロゲン原子(
弗素、塩素、臭素、ヨウ素)。
炭素数1〜6のアルキル基(メチル基、エチル基。
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)ある
いは炭素数6〜12のアリール基(フェニル基、トリル
基、キシリル基、ビフェニリル基など)を示す。
いは炭素数6〜12のアリール基(フェニル基、トリル
基、キシリル基、ビフェニリル基など)を示す。
また、この−最大(1)中で42. mは前述した如く
それぞれOまたは1〜3を示しており、XI〜6のアル
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基)あるいは炭素数6〜12のア
リール基(フェニル基。
それぞれOまたは1〜3を示しており、XI〜6のアル
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基)あるいは炭素数6〜12のア
リール基(フェニル基。
トリル基、キシリル基、ビフェニリル基など)を示す。
はnが5〜10のアルキレン基による環状基を示してい
る。
る。
またXIは−fCH2+Tであってもよい。
ここでpは2〜lOを示しており、この場合XIはpが
2〜10のアルキレン基を示している。
2〜10のアルキレン基を示している。
さらにXIは直接結合、−o−、−s−、−5o−ある
いは−S Ot−であってもよい。
いは−S Ot−であってもよい。
本発明のポリホルマール系樹脂は、前記−最大(1)の
繰返し単位を主たる構造単位として有するものであるが
、この−最大(1)以外の繰返し単位、例えば 一般式 (式中、R1,R1およびXlは前記と同じ。)で表わ
される繰返し単位を、目的とするポリホルマール系樹脂
の性質を損なわない範囲、通常5゜モル%以下、好まし
くは20モル%以下の割合で含有する共重合体であって
もよい。
繰返し単位を主たる構造単位として有するものであるが
、この−最大(1)以外の繰返し単位、例えば 一般式 (式中、R1,R1およびXlは前記と同じ。)で表わ
される繰返し単位を、目的とするポリホルマール系樹脂
の性質を損なわない範囲、通常5゜モル%以下、好まし
くは20モル%以下の割合で含有する共重合体であって
もよい。
また、本発明のポリホルマール系樹脂は、上記−最大(
1)の繰返し単位を有すると共に、0.5g/dl濃度
の塩化メチレン溶液の20°Cでの還元粘度〔η、、/
c)が0.2dj!/g以上、好ましくは0.25〜2
.0dffi/gのものである。
1)の繰返し単位を有すると共に、0.5g/dl濃度
の塩化メチレン溶液の20°Cでの還元粘度〔η、、/
c)が0.2dj!/g以上、好ましくは0.25〜2
.0dffi/gのものである。
このポリホルマール系樹脂を製造するには、様々な方法
が考えられるが、前述した本発明の製造法によれば効率
よく製造することができる。
が考えられるが、前述した本発明の製造法によれば効率
よく製造することができる。
本発明の製造法によれば、前述の一般式(A)で表わさ
れる二価フェノールとメチレンハライドを反応させる。
れる二価フェノールとメチレンハライドを反応させる。
ここで−最大(A)の二価フェノールは各種のものがあ
るが、具体的には製造するポリホルマール系樹脂の主た
る構造単位である一般式(1)の繰返し単位に対応した
二価フェノールを選定すればよい。具体的な化合物塩を
あげれば、2,2−ビス(3−シクロへキシル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン;1,1−ビス(3−シク
ロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
;I−フェニル−1,1−ビス(3−シクロへキシル−
4−ヒドロキシフェニル)エタン;2,2−ビス(2−
シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン;
2.2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−シク
ロヘキシルフェニル)プロパン;2,2−ビス(2,3
−ジメチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェ
ニル)プロパン;2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒド
ロキシ−5−シクロへキシルフェニル)プロパン;2,
2−ビス(3−フェニル−74−ヒドロキシ−5−シク
ロヘキシルフェニル)プロパン;ビス(3−シクロへキ
シル−4−ヒドロキシフェニル)メタン;2,2−ビス
(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン;R3−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ
フェニル)ペンタン;1,2−ビス(3−シクロヘキシ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エタン;l、3−ビス(
3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン;l、4−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキ
シフェニル)ブタン;ビス(3−シクロへキシル−4−
ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン;1,1−ビス
(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロベンクン;1.1−ビス(3−シクロヘキシル−4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘプタン;3,3’−ジシ
クロへキシル−4,4′−ジヒドロキシビフェニル;ビ
ス(3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフェニル)エ
ーテル;ビス(3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)チオエーテル;ビス(3−シクロへキシル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホキシド;ビス(3−シク
ロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンなどが
挙げられる。
るが、具体的には製造するポリホルマール系樹脂の主た
る構造単位である一般式(1)の繰返し単位に対応した
二価フェノールを選定すればよい。具体的な化合物塩を
あげれば、2,2−ビス(3−シクロへキシル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン;1,1−ビス(3−シク
ロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
;I−フェニル−1,1−ビス(3−シクロへキシル−
4−ヒドロキシフェニル)エタン;2,2−ビス(2−
シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン;
2.2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−シク
ロヘキシルフェニル)プロパン;2,2−ビス(2,3
−ジメチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェ
ニル)プロパン;2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒド
ロキシ−5−シクロへキシルフェニル)プロパン;2,
2−ビス(3−フェニル−74−ヒドロキシ−5−シク
ロヘキシルフェニル)プロパン;ビス(3−シクロへキ
シル−4−ヒドロキシフェニル)メタン;2,2−ビス
(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン;R3−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ
フェニル)ペンタン;1,2−ビス(3−シクロヘキシ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エタン;l、3−ビス(
3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン;l、4−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキ
シフェニル)ブタン;ビス(3−シクロへキシル−4−
ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン;1,1−ビス
(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロベンクン;1.1−ビス(3−シクロヘキシル−4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘプタン;3,3’−ジシ
クロへキシル−4,4′−ジヒドロキシビフェニル;ビ
ス(3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフェニル)エ
ーテル;ビス(3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)チオエーテル;ビス(3−シクロへキシル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホキシド;ビス(3−シク
ロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンなどが
挙げられる。
一方、上記二価フェノールと反応させるメチレンハライ
ドは一般式CHzX”z(式中、X2はハロゲン原子を
示す、)で表わされ、具体的には塩化メチレン、臭化メ
チレン、沃化メチレンなどがあり、特に塩化メチレンが
好ましい。
ドは一般式CHzX”z(式中、X2はハロゲン原子を
示す、)で表わされ、具体的には塩化メチレン、臭化メ
チレン、沃化メチレンなどがあり、特に塩化メチレンが
好ましい。
一般式(A)の二価フェノールとメチレンハライドとの
反応は、通常、アルカリ金属化合物および極性溶媒の存
在下に行なわれる。
反応は、通常、アルカリ金属化合物および極性溶媒の存
在下に行なわれる。
ここでアルカリ金属化合物としては、例えばNaOH,
KOH,NazCOi 、NaHCO:l 。
KOH,NazCOi 、NaHCO:l 。
K2CO,などが挙げられる。
また極性)溶媒としては、例えばN−メチルピロリドン
;テトラヒドロフラン;ジメチルスルホキシド、N、N
−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル;l、3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノン;スルホランなどが挙げ
られ、特にN−メチルピロリドンが好ましい。
;テトラヒドロフラン;ジメチルスルホキシド、N、N
−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル;l、3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノン;スルホランなどが挙げ
られ、特にN−メチルピロリドンが好ましい。
一般式(A)の二価フェノールとメチレンハライドとの
反応は上記の如きアルカリ金属化合物および極性溶媒の
存在下に、所望により分子量調節剤や適当な触媒を用い
て行なえばよく、反応条件としては温度0〜100°C
1好ましくは40〜100 ’Cであり、反応時間は0
.1〜30時間、好ましくは1〜24時間である。この
際、所望により用いる分子量調節剤としては、各種のm
個フエノール類、具体的にはフェノール、アルキルフェ
ノール(p−tert−ブチルフェノール、p−オクチ
ルフェノール、p−ノニルフェノールなど)。
反応は上記の如きアルカリ金属化合物および極性溶媒の
存在下に、所望により分子量調節剤や適当な触媒を用い
て行なえばよく、反応条件としては温度0〜100°C
1好ましくは40〜100 ’Cであり、反応時間は0
.1〜30時間、好ましくは1〜24時間である。この
際、所望により用いる分子量調節剤としては、各種のm
個フエノール類、具体的にはフェノール、アルキルフェ
ノール(p−tert−ブチルフェノール、p−オクチ
ルフェノール、p−ノニルフェノールなど)。
2−フェニル−2−(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、p−フェニルフェノールなどがあげられる。また、
このような分子量調節剤を用いずともメチレンハライド
の使用量を適宜選定したり、反応温度を調節したりする
ことによっても、得られるポリホルマール系樹脂の重合
度を調整することができる。
ン、p−フェニルフェノールなどがあげられる。また、
このような分子量調節剤を用いずともメチレンハライド
の使用量を適宜選定したり、反応温度を調節したりする
ことによっても、得られるポリホルマール系樹脂の重合
度を調整することができる。
なお、上記反応では、原料二価フェノールとして一般式
(A)の二価フェノールを用いるが、これとともに 一般式 (式中、R1,R2はおよびXlは前記と同じ。)で表
わされる二価フェノールを、目的とするポリホルマール
系樹脂の性質を損なわない範囲で、通常、原料二価フェ
ノール全量の50モル%以下、好ましくは20モル%以
下の割合で加えて反応させることも有効である。このよ
うにご最大(A)の二価フェノールのみならず一般式C
B)の二価フェノールを用いると、−最大(1)の繰返
し単位と一般式(II)の繰返し単位よりなる共重合体
が得られる。
(A)の二価フェノールを用いるが、これとともに 一般式 (式中、R1,R2はおよびXlは前記と同じ。)で表
わされる二価フェノールを、目的とするポリホルマール
系樹脂の性質を損なわない範囲で、通常、原料二価フェ
ノール全量の50モル%以下、好ましくは20モル%以
下の割合で加えて反応させることも有効である。このよ
うにご最大(A)の二価フェノールのみならず一般式C
B)の二価フェノールを用いると、−最大(1)の繰返
し単位と一般式(II)の繰返し単位よりなる共重合体
が得られる。
次に本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実施例1
反応器に2,2−ビス(3−シクロへキシル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン192 g、(0,5モル)
、水酸化ナトリウム44g(1,1モル)。
ロキシフェニル)プロパン192 g、(0,5モル)
、水酸化ナトリウム44g(1,1モル)。
塩化メチレン51g(0,6モル)および溶媒のN−メ
チルビロリドン5001d!を入れ、攪拌下に塩化メチ
レンの還流温度で4時間反応させた。反応終了後、生成
物を冷却して塩化メチレン21を加えて希釈し、0.0
1規定の塩酸および水でそれぞれ洗浄し、有機層を分離
してメタノール中に注入してポリホルマール樹脂を析出
回収した。得られたポリホルマール樹脂の収量は184
gであり、0.5g/dj2n度の塩化メチレン溶液の
20°Cでの還元粘度〔η、、/c)は0.44dR/
gであった。また、ガラス転移温度(Tg)は112°
Cであった。さらにプロトン核磁気共鳴スペクトル(I
H−NMR)δppm (テトラメチルシラン(TMS
)基準)は、1.65 (s、 6H) 、 1.1
〜19 (bs、20H)、2.9 (bs、2H)。
チルビロリドン5001d!を入れ、攪拌下に塩化メチ
レンの還流温度で4時間反応させた。反応終了後、生成
物を冷却して塩化メチレン21を加えて希釈し、0.0
1規定の塩酸および水でそれぞれ洗浄し、有機層を分離
してメタノール中に注入してポリホルマール樹脂を析出
回収した。得られたポリホルマール樹脂の収量は184
gであり、0.5g/dj2n度の塩化メチレン溶液の
20°Cでの還元粘度〔η、、/c)は0.44dR/
gであった。また、ガラス転移温度(Tg)は112°
Cであった。さらにプロトン核磁気共鳴スペクトル(I
H−NMR)δppm (テトラメチルシラン(TMS
)基準)は、1.65 (s、 6H) 、 1.1
〜19 (bs、20H)、2.9 (bs、2H)。
5.5 (s、 2H) 、 6.5〜7.0 (m
、 6H)であった。これらのことから、得られた樹
脂は、次の繰返し単位からなることが判明した。
、 6H)であった。これらのことから、得られた樹
脂は、次の繰返し単位からなることが判明した。
また、このポリホルマール樹脂の光弾性係数は25 X
10−” ci/dyneであった。
10−” ci/dyneであった。
実施例2
二価フェノールとして、1,1−ビス(3−シクロへキ
シル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン216
g(0,5モル)を用いた他は実施例1と同様に反応を
行なった。得られたポリホルマール樹脂の収量は193
gであり、0.5g/dj!濃度の塩化メチレン溶液の
20°Cでの還元粘度〔ηsp/’C3は0.47 d
l!/g、ガラス転移温度は128℃であった。 ’
H−NMR6ppm(7MS基準)は1.1〜1.9
(bs、30H)。
シル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン216
g(0,5モル)を用いた他は実施例1と同様に反応を
行なった。得られたポリホルマール樹脂の収量は193
gであり、0.5g/dj!濃度の塩化メチレン溶液の
20°Cでの還元粘度〔ηsp/’C3は0.47 d
l!/g、ガラス転移温度は128℃であった。 ’
H−NMR6ppm(7MS基準)は1.1〜1.9
(bs、30H)。
2.9 (bs、2H)、5.5 (s、2H)、6.
5〜7.1 (m、6H)であった。これらのことから
、得られた樹脂は次の繰返し単位からなることが判明し
た。
5〜7.1 (m、6H)であった。これらのことから
、得られた樹脂は次の繰返し単位からなることが判明し
た。
またこのポリホルマール樹脂の光弾性係数は24 X
10−” cut/dyneであった。
10−” cut/dyneであった。
実施例3
二価フェノールとして1−フェニル−1,1−ビス(3
−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)エタン2
27g(0,5モル)を用いた他は実施例1と同様に反
応を行なった。得られたポリホルマール樹脂の収量は1
96gであり、0.5g/dffi濃度の塩化メチレン
溶液の20″Cでの還元粘度(η−p/ c )は0.
42dffi/gであり、ガラス転移温度は140℃で
あった。 ’H−NMRδppm (T M S基準)
は1.65 (s、 3H)。
−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)エタン2
27g(0,5モル)を用いた他は実施例1と同様に反
応を行なった。得られたポリホルマール樹脂の収量は1
96gであり、0.5g/dffi濃度の塩化メチレン
溶液の20″Cでの還元粘度(η−p/ c )は0.
42dffi/gであり、ガラス転移温度は140℃で
あった。 ’H−NMRδppm (T M S基準)
は1.65 (s、 3H)。
1.1〜1.9 (bs、20H)、2.9 (bs、
2H)。
2H)。
5.5 (s、 28) 、 6.5〜7.1 (m、
11 H)であった。
11 H)であった。
これらのことから得られた樹脂は次の繰返し単位からな
ることが判明した。
ることが判明した。
またこのポリホルマール樹脂の光弾性係数は24 X
10−” c+fl/dyneであった。
10−” c+fl/dyneであった。
比較例
二価フェノールとして2.2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(通称ビスフェノールA)1 t4g
(0,5モル)を用いた他は実施例1と同様に反応を
行なった。得られたポリホルマール樹脂ノ収ffiハ1
05 gテアl)、0.5g/df1度の塩化メチレン
溶液の20°Cでの還元粘度〔η、/Cは0.54dE
/gで、ガラス転移温度は86°Cであった。IH−N
MRδppm (T M S基準)は1.65 (s、
6H)、5.5 (s、 2H) 。
ェニル)プロパン(通称ビスフェノールA)1 t4g
(0,5モル)を用いた他は実施例1と同様に反応を
行なった。得られたポリホルマール樹脂ノ収ffiハ1
05 gテアl)、0.5g/df1度の塩化メチレン
溶液の20°Cでの還元粘度〔η、/Cは0.54dE
/gで、ガラス転移温度は86°Cであった。IH−N
MRδppm (T M S基準)は1.65 (s、
6H)、5.5 (s、 2H) 。
6.6〜7.2 (m、 81()であった。これらの
ことから得られた樹脂は次の繰返し単位からなることが
判明した。
ことから得られた樹脂は次の繰返し単位からなることが
判明した。
またこのポリホルマール樹脂の光弾性係数は53 X
10 ”” c+ii/dyneであった。
10 ”” c+ii/dyneであった。
以上の如く、本発明のポリホルマール系樹脂は、充分な
耐熱性を有するとともに光学的性質にもすぐれており、
光学機器用の素材をはじめ、電気・電子機器素材や機械
部品等に幅広くかつ有効に利用できる。
耐熱性を有するとともに光学的性質にもすぐれており、
光学機器用の素材をはじめ、電気・電子機器素材や機械
部品等に幅広くかつ有効に利用できる。
また、光学機器用素材以外の用途に供する場合には、他
の熱可塑性樹脂、例えばポリカーボネートポリエステル
、ポリスルホン等を適宜配合して用いることが有効であ
る。さらに、ガラス繊維や炭素繊維、炭化珪素や酸化珪
素などの充填剤。
の熱可塑性樹脂、例えばポリカーボネートポリエステル
、ポリスルホン等を適宜配合して用いることが有効であ
る。さらに、ガラス繊維や炭素繊維、炭化珪素や酸化珪
素などの充填剤。
安定剤、顔料、難燃剤などを適量配合して用いることも
できる。
できる。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2はそれぞれハロゲン原子、炭素
数1〜6のアルキル基あるいは炭素数6〜12のアリー
ル基を示し、l、mはそれぞれ0または1〜3を示す、
またX^1は▲数式、化学式、表等があります▼(R^
3、R^4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアルキ
ル基あるいは炭素数6〜12のアリール基を示す。)、
▲数式、化学式、表等があります▼(nは5〜10を示
す。)、▲数式、化学式、表等があります▼ (pは2〜10を示す。)、直接結合、−O−、−S−
、−SO−または−SO_2−を示す。〕で表わされる
繰返し単位を有し、かつ0.5g/dl濃度の塩化メチ
レン溶液の20℃での還元粘度〔η_s_p/c〕が0
.2dl/g以上であるポリホルマール系樹脂。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2はそれぞれハロゲン原子、炭素
数1〜6のアルキル基あるいは炭素数6〜12のアリー
ル基を示し、l、mはそれぞれ0または1〜3を示す。 またX^1は▲数式、化学式、表等があります▼(R^
3、R^4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアルキ
ル基あるいは炭素数6〜12のアリール基を示す。)、
▲数式、化学式、表等があります▼(nは5〜10を示
す。)、▲数式、化学式、表等があります▼ (pは2〜10を示す。)、直接結合、−O−、−S−
、−SO−または−SO_2−を示す。〕で表わされる
二価フェノールとメチレンハライドとを反応させること
を特徴とする請求項1記載のポリホルマール系樹脂の製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2137788A JPH01197524A (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | ポリホルマール系樹脂とその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2137788A JPH01197524A (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | ポリホルマール系樹脂とその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01197524A true JPH01197524A (ja) | 1989-08-09 |
Family
ID=12053402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2137788A Pending JPH01197524A (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | ポリホルマール系樹脂とその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01197524A (ja) |
-
1988
- 1988-02-02 JP JP2137788A patent/JPH01197524A/ja active Pending
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