JPH01201338A - 芳香族ポリカーボネートフイルム - Google Patents

芳香族ポリカーボネートフイルム

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JPH01201338A
JPH01201338A JP2275388A JP2275388A JPH01201338A JP H01201338 A JPH01201338 A JP H01201338A JP 2275388 A JP2275388 A JP 2275388A JP 2275388 A JP2275388 A JP 2275388A JP H01201338 A JPH01201338 A JP H01201338A
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JP
Japan
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group
bis
formula
film
hydroxyphenyl
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JP2275388A
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English (en)
Inventor
Hideji Sakamoto
坂元 秀治
Kazuyoshi Shigematsu
重松 一吉
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種の電子・電気機器の部品として用いられ
る芳香族ポリカーボネートフィルムに関するものである
。さらに詳しくは、本発明は、本質的に非品性であり、
透明性、耐熱性、機械的強度に優れるとともに、低透湿
性及び表面硬度において改良された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムに関するものである。
〔従来の技術〕
芳香族ポリカーボネートフィルムは、透明性、耐熱性、
機械的強度、電気的性質などにおいてバランスのとれた
ものとして知られており、電子・電気機器の部品等、各
種のエンジニアリングプラスチックとして使用されてい
る。従来一般に用いられてきた芳香族ポリカーボネート
フィルムは、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパン(ビスフェノールA)とホスゲン等のカーボネ
ート前駆体との反応から得られる式 しかし、近時、電子・電気機器の部品としてのフィルム
に要求される特性が高度化するにつれ、市販のポリカー
ボネートから成形されるフィルムの透湿度が大きい、表
面硬度が低い等の欠点が露顕するに至った。さらに、市
販のポリカーボネートには、溶剤などによるゲル化及び
結晶化傾向があり、フィルムの機械的強度や透明性の低
下を招くという問題があった。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、上記の欠点が解消され、低透湿性及び表面硬
度において改良されたものであって、その重合体材料の
溶剤などによるゲル化や結晶化傾向のない芳香族ポリカ
ーボネートフィルムを提供することを目的とするもので
ある。
〔課題を解決するための手段〕
すわなち、請求項1の発明は、一般式(I)〔式中、R
1及びR8はそれぞれハロゲン原子、又は炭素数1〜6
のアルキル基を表し、互いに同一であっても異なってい
てもよく、 R3及びR4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコキシ
基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 !及びmはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有するポリカーボネートから成形された芳香族ポリ
カーボネートフィルムを提供するものである。
請求項2の発明は、一般式(I)及び一般式(II) 〔式中、Xは、 一〇−(ここで、R7及びR8はそれぞれ水素原子又は
炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一であって
も異なっていてもよい。)、 )、 −(CH□汁 (ここで、pは2〜10の整数を表す。
)、 単結合、−o−、−s−、−5o−1又は−5OZ−を
表し、R1,RZ、R5、及びR6はそれぞれハロゲン
原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一
であっても異なっていてもよく、 R3及びR4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコキシ
基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 !及びmはそれぞれO〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、 S及びtはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有し、−i式(I)で表される繰り返し単位のモル
分率をqとし、一般式(n)で表される繰り返し単位の
モル分率をrとしたとき、□の値が0.05以上のもの
であq+r るポリカーボネートから成形された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムを提供するものである。
請求項2の発明のフィルムの成形に用いられるポリカー
ボネートは、重合体の主鎖が、前記一般式(I)で表さ
れる繰り返し単位と、前記一般式(II)で表される繰
り返し単位とからなる構造を有し、かつ前記式−l−の
値が0.05以上のものq+r である。この値が0.05未満であると、フィルムの低
透湿性化、表面硬度の改良の効果が得られなくなる。ま
た、重合体材料の溶剤などによるゲル化及び結晶化の防
止の効果が得られなくなる。
請求項1及び2の発明のフィルムには、一般にいう薄膜
の他、物品の表面を薄く被覆する膜も含まれる。
請求項1及び2の発明において用いられる芳香族ポリカ
ーボネートの分子量は、フィルムの種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度0.5g/d1の塩化メチレン溶
液の20℃における還元粘度〔ηsp/c〕が0.3〜
3.0 dfl/g、好ましくは0.4〜2.5dl/
gとなるようなものであることが望ましい。
この還元粘度が0.3OZg未満のものを用いた場合、
得られるフィルムの強度が不十分となることがある。ま
た、3. Oa/gを超えると、フィルムの成形が実質
的に困難となることがある。
前記R1、R2、RS、及びR6の各々の具体例として
は、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子
、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基、
tert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基、ヘ
キシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
前記R3及びR4の各々の具体例としては、水素原子;
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基
、n−ブチル基、イソブチル基、seC−ブチル基、t
ert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基、ヘキ
シル基、イソヘキシル基等のアルキル基;塩素原子、フ
ッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子;n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ
基、5ec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−
ベンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基、イソへキシルオキシ基等のアルコキシ基が挙げ
られる。
前記X中のR7及びR8の各々の具体例としては、水素
原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル
基、tert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基
、ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
?)l゛ Xの特に好適なものとしては、例えば−C−H3 が挙げられる。
請求項1及び2の発明で用いられる芳香族ポリカーボネ
ートは、従来公知の様々な方法により製造することがで
きるが、例えば一般式(III)a 〔式中、xl、R1,R2、R3、R4、!、及びmは
先に規定したと同じ意味を有する〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲン、又は前記
一般式(I[I)で表される二価フェノール化合物及び
一般式(IV) 〔式中、X、Rゝ、R6、S、及びtは先に規定したと
同じ意味を有する。〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反
応、或いは前記二価フェノール化合物とビスアリールカ
ーボネートとのエステル交換反応などの方法を採用する
ことができる。
前者の二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反応法
においては、通常、酸結合剤及び溶媒の存在下において
、前記二価フェノール化合物とホスゲンとを反応させる
。酸結合剤としては、例えばピリジンや水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物など
が用いられ、また、溶媒としては、例えば塩化メチレン
、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。さらに
、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのよ
うな第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒
を、また、重合度を調整するために、p−t−ブチルフ
ェノールやフェニルフェノールなどの分子量調節剤を添
加して反応を行うことが望ましい。また、所望に応じ、
亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイドなどの酸化防
止剤を少量添加してもよい。反応は通常0〜150°C
1好ましくは5〜40°Cの範囲の温度で行われる。反
応時間は反応温度によって左右されるが、通常0.5分
〜10時間、好ましくは1分〜2時間である。また、反
応中は、反応系のpHを10以上に保持することが望ま
しい。
一方、後者のエステル交換法においては、前記二価フェ
ノール化合物とビスアリールカーボネートとを混合し、
減圧下で高温において反応させる。
反応は通常150〜350°C1好ましくは200〜3
00°Cの範囲の温度において行われ、また減圧度は最
終で好ましくはlmmHg以下にして、エステル交換反
応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来
するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応
温度や減圧度などによって左右されるが、通常1〜4時
間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じて前
記の分子量調節剤や酸化防止剤などを添加して、反応を
行ってもよい。
前記一般式(I[[)で表される二価フェノール化合物
であればどれでも用いることができるが、その具体例と
しては、例えば4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン、3.3′−ジエチル−4,4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’ 、5
.5’ −テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフェニルメタン、3−メチル−4,4′−ジヒドロキ
シテトラフェニルメタン、2.2′−ジメチル−4゜4
′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3゜3’、5
.5’−テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシテトラ
フエニルメタン、3−エチル−4゜4′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン、2゜2′−ジエチル−4,4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、4,4′−ジヒ
ドロキシ−41−メチルテトラフェニルメタン、3.3
’、4“−トリメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラ
フェニルメタン、3.3′−ジエチル−4,4’−ジヒ
ドロキシ−4“−メチルテトラフェニルメタン、3.3
’、4’、5.5’ −ペンタメチル−4,4′−ジヒ
ドロキシテトラフェニルメタン、3.4“−ジメチル−
4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、2.2
’ 、4″−)リフチル−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフエニルメタン、3.3’、5.5’−テトラエチル
−4,4′−ジヒドロキシ−4“−メチルテトラフェニ
ルメタン、3−エチル−4,4′−ジヒドロキシ−4″
−メチルテトラフェニルメタン、2.2’−ジエチル−
4,4′−ジヒドロキジー4“−メチルテトラフェニル
メタン、4.4’ −ジヒドロキシ−4“、4#−ジメ
チルテトラフェニルメタン、3.3’、4“、4#−テ
トラメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフエニルメ
タン、3,3′−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−
4”、41−ジメチルテトラフェニルメタン、3.3’
4“、4″”、5.5’−へキサメチル−4,4′−ジ
ヒドロキシテトラフェニルメタン、3.4”。
4#−トリメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン、2.2’、4″、4”−テトラメチル−4
,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’
、5.5’ −テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシ
−4″、4”−ジメチルテトラフェニルメタン、3−エ
チル−4,4’ −ジヒドロキシ−4“、4′#−ジメ
チルテトラフェニルメタン、2,2′−ジエチル−4,
4′−ジヒドロキシ−4”、4”−ジメチルテトラフェ
ニルメタン、4,4′−ジヒドロキシ−4“−メトキシ
テトラフェニルメタン、3.3′−ジメチル−4,4’
−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメタン
、3.3′−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“
−メトキシテトラフェニルメタン、3.3’ 、5.5
’ −テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“−
メトキシテトラフェニルメタン、3−メチル−4,4′
−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメタン
、2.2′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“
−メトキシテトラフェニルメタン、3.3”。
5.5′−テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシ−4
“−メトキシテトラフェニルメタン、3−エチル−4,
4′−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメ
タン、2.2’−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−
4“−メトキシテトラフェニルメタン、2.2′−ジブ
チル−4,4′−ジヒドロキシ−5,5′−ジメチルテ
トラフェニルメタン、2.2′−ジ−t−アミル−4,
4′−ジヒドロキシ−5,5′−ジメチルテトラフェニ
ルメタン、3.3′−ジクロロ−4,4’−ジヒドロキ
シテトラフェニルメタン、3.3’。
5.5′−テトラブロモ−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフェニルメタン、3.3′−ジクロロ−4,4′−ジ
ヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3′−ジフルオ
ロ−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3
,3′−ジブロモ−4゜4′−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン、3゜3’、5.5’−テトラクロロ−4,
4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’、
5゜5′−テトラフルオロ−4,4′−ジヒドロキシテ
トラフェニルメタン、3.3’ 、5.5’ −テトラ
ブロモ−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジヒドロキシ−5,
5′−ジクロロテトラフェニルメタン、3.3’、5.
5’−テトラクロロ−4゜4′−ジヒドロキシテトラフ
ェニルメタン等を挙げることができる。
なかでも、原料の入手の容易さ等の見地から、4.4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン及び3,3′−ジ
メチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
が好適に用いられる。
前記一般式(IV)で表される二価フェノール化合物で
あれば、どれでも用いることができるが、その具体例と
しては、例えばビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン
、1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1
.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2.2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、4.4−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)へブタン、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホキシド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンク
ン、1゜1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、2.2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2− (3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホキシド、ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタン、1.l−ビス(3−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4
.4′−ジヒドロキシビフェニル、2.2−ビス(2−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1.1−
ビス(2−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)ブタン、1゜l−ビス(2−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)エタン、1.1−ビス(
2−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)プロパン、1.1−ビス(2−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1.1−ビス(
2−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)イソブタン、1,1−ビス(2−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)へブタン、l、1−ビ
ス(2−t−アミル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ブタン、ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、2.2−ビス(3−クロロ−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2゜2−ビス(3−フ
ルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2.2−ビス(3,5−ジフルオロ
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビ。
ス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシ−5
−クロロフェニル)プロパン、2゜2−ビス(3,5−
ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2.2−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)ブ
タン、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)
エーテル、3.3′−ジフルオロ−4,4′−ジヒドロ
キシビフェニル等を挙げることができる。
請求項1及び2の発明に用いられる芳香族ポリカーボネ
ートには、フィルムの特性を損なわない範囲で、他の二
価フェノール化合物を加えて製造される変性ポリカーボ
ネートも含まれる。上記の他の二価フェノール化合物と
しては、レゾルシン、ハイドロキノン等が挙げられる。
さらに、少量の、例えば、使用した二価フェノール化合
物の0.05〜2.0モル%程度のポリヒドロキシ化合
物などを加えることにより製造された分岐を有する芳香
族ポリカーボネートも含まれる。
請求項1及び2の発明のフィルムを製造するにあたって
は、上記の1種又は2種以上の芳香族ポリカーボネート
に、必要に応じ、ポリアルキレンテレフタレート、ポリ
オレフィン、他のポリカーボネート、ポリエーテルサル
ホン、ボリアリレート、ポリサルホン、ポリフェニレン
サルファイドなどの熱可塑性樹脂を配合することができ
る。
また、これら芳香族ポリカーボネートには、必要に応じ
、公知の添加剤、例えば、難燃剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、充填剤、耐衝撃性改良剤、紫外線吸収剤、可塑剤
、加水分解安定剤、顔料、染料、着色安定剤等を配合す
ることができる。
請求項1及び2の発明のフィルムの成形方法としては、
従来公知の製膜法を用いることができる。
例えば、熱プレス成形などのプレス成形;キャストロー
ル法、インフレーション法、チュブラ−法などの押出法
;ポリマー溶液をベルト上で流延し、溶媒を蒸発除去し
て薄膜化する方法;ポリマー溶液を物品に塗布した後溶
剤除去するコーティング法などが挙げられる。
ポリマー溶液の調整に用いられる溶剤としては、lyo
ロホルム、塩化メチレン等のハロゲン系溶剤、トルエン
等の芳香族系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系
溶剤等が挙げられる。
また、このようにして製膜されたフィルムは、必要に応
じ、従来慣用されている延伸法、例えばテンター法、チ
ューブラ−法、多段延伸法などにより延伸してもよい。
また、必要に応じ、熱処理を行うこともできる。
請求項1及び2の発明のフィルムの厚さについては、特
に制限はないが、通常0.1〜1000μm、好ましく
は1〜500μmの範囲で選ばれる。
このようにして成形されたフィルムは、耐熱性、機械的
強度、電気絶縁性等においても、従来の芳香族ポリカー
ボネートフィルムと同様に優れているのみならず、低透
湿性及び表面硬度において著しく改良されたものである
。従って、耐熱性フィルム、低透湿フィルム、電気絶縁
性フィルムとして、各種の電子・電気機器の部品として
好適に用いることができる。さらに、重合体材料の溶剤
等によるゲル化、結晶化が解消されたため、重合体溶液
を用いる製膜法による製膜が可能となった。
〔実施例〕
以下、請求項1及び2の発明を実施例に基づいてさらに
詳細に説明するが、これの発明は下記の実施例によりな
んら限定されるものではない。
実施例1 金弐± 七ツマ−として4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン90g(0,256モル)を、8%NaOH水溶
液550d、塩化メチレン400d、分子量調節剤とし
てp−t−ブチフェノール1g、及び触媒としてトリエ
チルアミンの10%水溶液3dと共にじゃま板付き反応
器内で激しく攪拌しながらホスゲンガスを10分間吹き
込んで縮合を行った。反応混合物を塩化メチレン1/!
で希釈した後、水1i!、、0.01規定NaOH水溶
液50〇−1水500d、0.01規定HCI水溶液5
00成、水500dの順で洗浄した。得られた重合体の
塩化メチレン溶液を3iのメタノール中に注ぎ再沈精製
して下記の繰り返し単位を有する白色粉末状の高分子量
体を得た。
この重合体のテトラヒドロフラン10重量%溶液を調製
し、常温で1ケ月間放置した後も白濁、ゲルの発生は起
こらず、まったく粘度変化は見られなかった。
ス盃土ムq底長 つぎに、得られた重合体1重量部あたり50重量部のク
ロロホルムを加えて溶解し、得られた溶液をガラス板上
にドクターナイフを用いてキャストした。ついで、これ
を減圧下に120 ’Cで24時間乾燥することにより
、肉厚20μmのフィルムを得た。
このようにして得られたフィルムについて、オートグラ
フを用いて引張物性試験を行った。また、JIS−Z−
0208、力・ンブ法B(40°C、ン!度90%)に
より、透湿度を測定した。さらに、JIS−に−540
0に準じて鉛筆硬度を測定した。これら結果をまとめて
第1表に示す。
実施例2 モノマーとして3.3′−ジメチル−4,4′−ジヒド
ロキシテトラフェニルメタン97g(0゜255モル)
を用いた以外はすべて実施例1の合成例と同様に実施し
、下記構造の繰り返し単位を有する高分子量体を得た。
この重合体のテトラヒドロフラン10重量%溶液を調整
し、常温で1ケ月間放置し、溶液粘度を測定した。1ケ
月放置後も、白濁、ゲルの発生は起こらず、まったく粘
度変化はみられなかった。
この重合体を用い、実施例1のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第1表に示す。
実施例3 モノマーとして4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン70g(0,20モル)、2.2−ビス(4−ヒ
ドロキシェフェニル)プロパン13g(0,057モル
)を用いた以外はすべて実施例1の合成例と同様に実施
し、下記構造の繰り返し単位を有する高分子量体を得た
この重合体のテトラヒドロフラン10重量%溶液を調整
し、常温で1ケ月間放置し、溶液粘度を測定した。1ケ
月放置後も、白濁、ゲルの発生は起こらず、まったく粘
度変化はみられ々かった。
この重合体を用い、実施例1のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第1表に示す。
比較例1 市販ポリカーボネート〔出光石油化学■製:出光ポリカ
ーボネートA2500)のテト5ヒビ0フ5フ10重四
%溶液を調整し、常温で1ケ月間放置したところ、白濁
、ゲルの発生が起こった。
この市販のポリカーボネートを用い、実施例1のフィル
ムの成形と同様の操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第1表に示す。
〔発明の効果〕
請求項1及び2の発明により、低透湿性で表面温度も高
く、耐熱性、機械的特性等において従来の芳香族ポリカ
ーボネートフィルムと比較して遜色なく、またはそれを
上回る芳香族ポリカーボネートフィルムを得ることがで
きた。このような芳香族ポリカーボネートフィルムは各
種の電子・電気機器の部品、塗膜として極めて有用であ
る。また、重合体が本質的に非品性であることから、溶
剤等によるゲル化や結晶化がなく、フィルムの機械的強
度や透明性の低下を招くようなことがない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1及びR^2はそれぞれハロゲン原子、又
    は炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一であっ
    ても異なっていてもよく、 R^3及びR^4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の
    アルキル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコ
    キシ基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよ
    く、 l及びmはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
    あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
    位を有するポリカーボネートから成形された芳香族ポリ
    カーボネートフィルム。 2、一般式( I )及び一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Xは、 ▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、R^7及
    びR^6はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜6のアルキ
    ル基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい
    。)、▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、n
    は5〜10の整数を表 す。)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、pは2〜
    10の整数を 表す。)、 単結合、−O−、−S−、−SO−、又は−SO_2−
    を表し、 R^1、R^2、R^5、及びR^6はそれぞれハロゲ
    ン原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同
    一であっても異なっていてもよく、 R^3及びR^4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の
    アルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ
    基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 l及びmはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
    あっても異なっていてもよく、 s及びtはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
    あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
    位を有し、一般式( I )で表される繰り返し単位のモル分率をqとし、一
    般式(II)で表される繰り返し単位のモル分率をrとし
    たとき、q/(q+r)の値が0.05以上のものであ
    るポリカーボネートから成形された芳香族ポリカーボネ
    ートフィルム。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1991008459A1 (en) * 1989-11-28 1991-06-13 Tsi Incorporated Non-imaging laser particle counter

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JPS56139530A (en) * 1980-02-22 1981-10-31 Gen Electric Ultraviolet ray stabilized polycarbonate resin
JPS60166322A (ja) * 1984-02-10 1985-08-29 Idemitsu Kosan Co Ltd 光学機器用素材
JPS62121724A (ja) * 1985-11-22 1987-06-03 Mitsui Petrochem Ind Ltd 新規なポリカ−ボネ−ト

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