JPH01201338A - 芳香族ポリカーボネートフイルム - Google Patents
芳香族ポリカーボネートフイルムInfo
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Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、各種の電子・電気機器の部品として用いられ
る芳香族ポリカーボネートフィルムに関するものである
。さらに詳しくは、本発明は、本質的に非品性であり、
透明性、耐熱性、機械的強度に優れるとともに、低透湿
性及び表面硬度において改良された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムに関するものである。
る芳香族ポリカーボネートフィルムに関するものである
。さらに詳しくは、本発明は、本質的に非品性であり、
透明性、耐熱性、機械的強度に優れるとともに、低透湿
性及び表面硬度において改良された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムに関するものである。
芳香族ポリカーボネートフィルムは、透明性、耐熱性、
機械的強度、電気的性質などにおいてバランスのとれた
ものとして知られており、電子・電気機器の部品等、各
種のエンジニアリングプラスチックとして使用されてい
る。従来一般に用いられてきた芳香族ポリカーボネート
フィルムは、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパン(ビスフェノールA)とホスゲン等のカーボネ
ート前駆体との反応から得られる式 しかし、近時、電子・電気機器の部品としてのフィルム
に要求される特性が高度化するにつれ、市販のポリカー
ボネートから成形されるフィルムの透湿度が大きい、表
面硬度が低い等の欠点が露顕するに至った。さらに、市
販のポリカーボネートには、溶剤などによるゲル化及び
結晶化傾向があり、フィルムの機械的強度や透明性の低
下を招くという問題があった。
機械的強度、電気的性質などにおいてバランスのとれた
ものとして知られており、電子・電気機器の部品等、各
種のエンジニアリングプラスチックとして使用されてい
る。従来一般に用いられてきた芳香族ポリカーボネート
フィルムは、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパン(ビスフェノールA)とホスゲン等のカーボネ
ート前駆体との反応から得られる式 しかし、近時、電子・電気機器の部品としてのフィルム
に要求される特性が高度化するにつれ、市販のポリカー
ボネートから成形されるフィルムの透湿度が大きい、表
面硬度が低い等の欠点が露顕するに至った。さらに、市
販のポリカーボネートには、溶剤などによるゲル化及び
結晶化傾向があり、フィルムの機械的強度や透明性の低
下を招くという問題があった。
本発明は、上記の欠点が解消され、低透湿性及び表面硬
度において改良されたものであって、その重合体材料の
溶剤などによるゲル化や結晶化傾向のない芳香族ポリカ
ーボネートフィルムを提供することを目的とするもので
ある。
度において改良されたものであって、その重合体材料の
溶剤などによるゲル化や結晶化傾向のない芳香族ポリカ
ーボネートフィルムを提供することを目的とするもので
ある。
すわなち、請求項1の発明は、一般式(I)〔式中、R
1及びR8はそれぞれハロゲン原子、又は炭素数1〜6
のアルキル基を表し、互いに同一であっても異なってい
てもよく、 R3及びR4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコキシ
基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 !及びmはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有するポリカーボネートから成形された芳香族ポリ
カーボネートフィルムを提供するものである。
1及びR8はそれぞれハロゲン原子、又は炭素数1〜6
のアルキル基を表し、互いに同一であっても異なってい
てもよく、 R3及びR4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコキシ
基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 !及びmはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有するポリカーボネートから成形された芳香族ポリ
カーボネートフィルムを提供するものである。
請求項2の発明は、一般式(I)及び一般式(II)
〔式中、Xは、
一〇−(ここで、R7及びR8はそれぞれ水素原子又は
炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一であって
も異なっていてもよい。)、 )、 −(CH□汁 (ここで、pは2〜10の整数を表す。
炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一であって
も異なっていてもよい。)、 )、 −(CH□汁 (ここで、pは2〜10の整数を表す。
)、
単結合、−o−、−s−、−5o−1又は−5OZ−を
表し、R1,RZ、R5、及びR6はそれぞれハロゲン
原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一
であっても異なっていてもよく、 R3及びR4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコキシ
基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 !及びmはそれぞれO〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、 S及びtはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有し、−i式(I)で表される繰り返し単位のモル
分率をqとし、一般式(n)で表される繰り返し単位の
モル分率をrとしたとき、□の値が0.05以上のもの
であq+r るポリカーボネートから成形された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムを提供するものである。
表し、R1,RZ、R5、及びR6はそれぞれハロゲン
原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一
であっても異なっていてもよく、 R3及びR4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコキシ
基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 !及びmはそれぞれO〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、 S及びtはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有し、−i式(I)で表される繰り返し単位のモル
分率をqとし、一般式(n)で表される繰り返し単位の
モル分率をrとしたとき、□の値が0.05以上のもの
であq+r るポリカーボネートから成形された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムを提供するものである。
請求項2の発明のフィルムの成形に用いられるポリカー
ボネートは、重合体の主鎖が、前記一般式(I)で表さ
れる繰り返し単位と、前記一般式(II)で表される繰
り返し単位とからなる構造を有し、かつ前記式−l−の
値が0.05以上のものq+r である。この値が0.05未満であると、フィルムの低
透湿性化、表面硬度の改良の効果が得られなくなる。ま
た、重合体材料の溶剤などによるゲル化及び結晶化の防
止の効果が得られなくなる。
ボネートは、重合体の主鎖が、前記一般式(I)で表さ
れる繰り返し単位と、前記一般式(II)で表される繰
り返し単位とからなる構造を有し、かつ前記式−l−の
値が0.05以上のものq+r である。この値が0.05未満であると、フィルムの低
透湿性化、表面硬度の改良の効果が得られなくなる。ま
た、重合体材料の溶剤などによるゲル化及び結晶化の防
止の効果が得られなくなる。
請求項1及び2の発明のフィルムには、一般にいう薄膜
の他、物品の表面を薄く被覆する膜も含まれる。
の他、物品の表面を薄く被覆する膜も含まれる。
請求項1及び2の発明において用いられる芳香族ポリカ
ーボネートの分子量は、フィルムの種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度0.5g/d1の塩化メチレン溶
液の20℃における還元粘度〔ηsp/c〕が0.3〜
3.0 dfl/g、好ましくは0.4〜2.5dl/
gとなるようなものであることが望ましい。
ーボネートの分子量は、フィルムの種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度0.5g/d1の塩化メチレン溶
液の20℃における還元粘度〔ηsp/c〕が0.3〜
3.0 dfl/g、好ましくは0.4〜2.5dl/
gとなるようなものであることが望ましい。
この還元粘度が0.3OZg未満のものを用いた場合、
得られるフィルムの強度が不十分となることがある。ま
た、3. Oa/gを超えると、フィルムの成形が実質
的に困難となることがある。
得られるフィルムの強度が不十分となることがある。ま
た、3. Oa/gを超えると、フィルムの成形が実質
的に困難となることがある。
前記R1、R2、RS、及びR6の各々の具体例として
は、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子
、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基、
tert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基、ヘ
キシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
は、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子
、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基、
tert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基、ヘ
キシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
前記R3及びR4の各々の具体例としては、水素原子;
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基
、n−ブチル基、イソブチル基、seC−ブチル基、t
ert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基、ヘキ
シル基、イソヘキシル基等のアルキル基;塩素原子、フ
ッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子;n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ
基、5ec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−
ベンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基、イソへキシルオキシ基等のアルコキシ基が挙げ
られる。
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基
、n−ブチル基、イソブチル基、seC−ブチル基、t
ert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基、ヘキ
シル基、イソヘキシル基等のアルキル基;塩素原子、フ
ッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子;n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ
基、5ec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−
ベンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基、イソへキシルオキシ基等のアルコキシ基が挙げ
られる。
前記X中のR7及びR8の各々の具体例としては、水素
原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル
基、tert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基
、ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル
基、tert−ブチル基、n−アミル基、イソアミル基
、ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
?)l゛
Xの特に好適なものとしては、例えば−C−H3
が挙げられる。
請求項1及び2の発明で用いられる芳香族ポリカーボネ
ートは、従来公知の様々な方法により製造することがで
きるが、例えば一般式(III)a 〔式中、xl、R1,R2、R3、R4、!、及びmは
先に規定したと同じ意味を有する〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲン、又は前記
一般式(I[I)で表される二価フェノール化合物及び
一般式(IV) 〔式中、X、Rゝ、R6、S、及びtは先に規定したと
同じ意味を有する。〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反
応、或いは前記二価フェノール化合物とビスアリールカ
ーボネートとのエステル交換反応などの方法を採用する
ことができる。
ートは、従来公知の様々な方法により製造することがで
きるが、例えば一般式(III)a 〔式中、xl、R1,R2、R3、R4、!、及びmは
先に規定したと同じ意味を有する〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲン、又は前記
一般式(I[I)で表される二価フェノール化合物及び
一般式(IV) 〔式中、X、Rゝ、R6、S、及びtは先に規定したと
同じ意味を有する。〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反
応、或いは前記二価フェノール化合物とビスアリールカ
ーボネートとのエステル交換反応などの方法を採用する
ことができる。
前者の二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反応法
においては、通常、酸結合剤及び溶媒の存在下において
、前記二価フェノール化合物とホスゲンとを反応させる
。酸結合剤としては、例えばピリジンや水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物など
が用いられ、また、溶媒としては、例えば塩化メチレン
、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。さらに
、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのよ
うな第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒
を、また、重合度を調整するために、p−t−ブチルフ
ェノールやフェニルフェノールなどの分子量調節剤を添
加して反応を行うことが望ましい。また、所望に応じ、
亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイドなどの酸化防
止剤を少量添加してもよい。反応は通常0〜150°C
1好ましくは5〜40°Cの範囲の温度で行われる。反
応時間は反応温度によって左右されるが、通常0.5分
〜10時間、好ましくは1分〜2時間である。また、反
応中は、反応系のpHを10以上に保持することが望ま
しい。
においては、通常、酸結合剤及び溶媒の存在下において
、前記二価フェノール化合物とホスゲンとを反応させる
。酸結合剤としては、例えばピリジンや水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物など
が用いられ、また、溶媒としては、例えば塩化メチレン
、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。さらに
、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのよ
うな第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒
を、また、重合度を調整するために、p−t−ブチルフ
ェノールやフェニルフェノールなどの分子量調節剤を添
加して反応を行うことが望ましい。また、所望に応じ、
亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイドなどの酸化防
止剤を少量添加してもよい。反応は通常0〜150°C
1好ましくは5〜40°Cの範囲の温度で行われる。反
応時間は反応温度によって左右されるが、通常0.5分
〜10時間、好ましくは1分〜2時間である。また、反
応中は、反応系のpHを10以上に保持することが望ま
しい。
一方、後者のエステル交換法においては、前記二価フェ
ノール化合物とビスアリールカーボネートとを混合し、
減圧下で高温において反応させる。
ノール化合物とビスアリールカーボネートとを混合し、
減圧下で高温において反応させる。
反応は通常150〜350°C1好ましくは200〜3
00°Cの範囲の温度において行われ、また減圧度は最
終で好ましくはlmmHg以下にして、エステル交換反
応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来
するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応
温度や減圧度などによって左右されるが、通常1〜4時
間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じて前
記の分子量調節剤や酸化防止剤などを添加して、反応を
行ってもよい。
00°Cの範囲の温度において行われ、また減圧度は最
終で好ましくはlmmHg以下にして、エステル交換反
応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来
するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応
温度や減圧度などによって左右されるが、通常1〜4時
間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じて前
記の分子量調節剤や酸化防止剤などを添加して、反応を
行ってもよい。
前記一般式(I[[)で表される二価フェノール化合物
であればどれでも用いることができるが、その具体例と
しては、例えば4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン、3.3′−ジエチル−4,4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’ 、5
.5’ −テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフェニルメタン、3−メチル−4,4′−ジヒドロキ
シテトラフェニルメタン、2.2′−ジメチル−4゜4
′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3゜3’、5
.5’−テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシテトラ
フエニルメタン、3−エチル−4゜4′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン、2゜2′−ジエチル−4,4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、4,4′−ジヒ
ドロキシ−41−メチルテトラフェニルメタン、3.3
’、4“−トリメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラ
フェニルメタン、3.3′−ジエチル−4,4’−ジヒ
ドロキシ−4“−メチルテトラフェニルメタン、3.3
’、4’、5.5’ −ペンタメチル−4,4′−ジヒ
ドロキシテトラフェニルメタン、3.4“−ジメチル−
4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、2.2
’ 、4″−)リフチル−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフエニルメタン、3.3’、5.5’−テトラエチル
−4,4′−ジヒドロキシ−4“−メチルテトラフェニ
ルメタン、3−エチル−4,4′−ジヒドロキシ−4″
−メチルテトラフェニルメタン、2.2’−ジエチル−
4,4′−ジヒドロキジー4“−メチルテトラフェニル
メタン、4.4’ −ジヒドロキシ−4“、4#−ジメ
チルテトラフェニルメタン、3.3’、4“、4#−テ
トラメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフエニルメ
タン、3,3′−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−
4”、41−ジメチルテトラフェニルメタン、3.3’
。
であればどれでも用いることができるが、その具体例と
しては、例えば4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン、3.3′−ジエチル−4,4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’ 、5
.5’ −テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフェニルメタン、3−メチル−4,4′−ジヒドロキ
シテトラフェニルメタン、2.2′−ジメチル−4゜4
′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3゜3’、5
.5’−テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシテトラ
フエニルメタン、3−エチル−4゜4′−ジヒドロキシ
テトラフェニルメタン、2゜2′−ジエチル−4,4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、4,4′−ジヒ
ドロキシ−41−メチルテトラフェニルメタン、3.3
’、4“−トリメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラ
フェニルメタン、3.3′−ジエチル−4,4’−ジヒ
ドロキシ−4“−メチルテトラフェニルメタン、3.3
’、4’、5.5’ −ペンタメチル−4,4′−ジヒ
ドロキシテトラフェニルメタン、3.4“−ジメチル−
4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、2.2
’ 、4″−)リフチル−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフエニルメタン、3.3’、5.5’−テトラエチル
−4,4′−ジヒドロキシ−4“−メチルテトラフェニ
ルメタン、3−エチル−4,4′−ジヒドロキシ−4″
−メチルテトラフェニルメタン、2.2’−ジエチル−
4,4′−ジヒドロキジー4“−メチルテトラフェニル
メタン、4.4’ −ジヒドロキシ−4“、4#−ジメ
チルテトラフェニルメタン、3.3’、4“、4#−テ
トラメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフエニルメ
タン、3,3′−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−
4”、41−ジメチルテトラフェニルメタン、3.3’
。
4“、4″”、5.5’−へキサメチル−4,4′−ジ
ヒドロキシテトラフェニルメタン、3.4”。
ヒドロキシテトラフェニルメタン、3.4”。
4#−トリメチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン、2.2’、4″、4”−テトラメチル−4
,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’
、5.5’ −テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシ
−4″、4”−ジメチルテトラフェニルメタン、3−エ
チル−4,4’ −ジヒドロキシ−4“、4′#−ジメ
チルテトラフェニルメタン、2,2′−ジエチル−4,
4′−ジヒドロキシ−4”、4”−ジメチルテトラフェ
ニルメタン、4,4′−ジヒドロキシ−4“−メトキシ
テトラフェニルメタン、3.3′−ジメチル−4,4’
−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメタン
、3.3′−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“
−メトキシテトラフェニルメタン、3.3’ 、5.5
’ −テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“−
メトキシテトラフェニルメタン、3−メチル−4,4′
−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメタン
、2.2′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“
−メトキシテトラフェニルメタン、3.3”。
ニルメタン、2.2’、4″、4”−テトラメチル−4
,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’
、5.5’ −テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシ
−4″、4”−ジメチルテトラフェニルメタン、3−エ
チル−4,4’ −ジヒドロキシ−4“、4′#−ジメ
チルテトラフェニルメタン、2,2′−ジエチル−4,
4′−ジヒドロキシ−4”、4”−ジメチルテトラフェ
ニルメタン、4,4′−ジヒドロキシ−4“−メトキシ
テトラフェニルメタン、3.3′−ジメチル−4,4’
−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメタン
、3.3′−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“
−メトキシテトラフェニルメタン、3.3’ 、5.5
’ −テトラメチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“−
メトキシテトラフェニルメタン、3−メチル−4,4′
−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメタン
、2.2′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシ−4“
−メトキシテトラフェニルメタン、3.3”。
5.5′−テトラエチル−4,4′−ジヒドロキシ−4
“−メトキシテトラフェニルメタン、3−エチル−4,
4′−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメ
タン、2.2’−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−
4“−メトキシテトラフェニルメタン、2.2′−ジブ
チル−4,4′−ジヒドロキシ−5,5′−ジメチルテ
トラフェニルメタン、2.2′−ジ−t−アミル−4,
4′−ジヒドロキシ−5,5′−ジメチルテトラフェニ
ルメタン、3.3′−ジクロロ−4,4’−ジヒドロキ
シテトラフェニルメタン、3.3’。
“−メトキシテトラフェニルメタン、3−エチル−4,
4′−ジヒドロキシ−4“−メトキシテトラフェニルメ
タン、2.2’−ジエチル−4,4′−ジヒドロキシ−
4“−メトキシテトラフェニルメタン、2.2′−ジブ
チル−4,4′−ジヒドロキシ−5,5′−ジメチルテ
トラフェニルメタン、2.2′−ジ−t−アミル−4,
4′−ジヒドロキシ−5,5′−ジメチルテトラフェニ
ルメタン、3.3′−ジクロロ−4,4’−ジヒドロキ
シテトラフェニルメタン、3.3’。
5.5′−テトラブロモ−4,4′−ジヒドロキシテト
ラフェニルメタン、3.3′−ジクロロ−4,4′−ジ
ヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3′−ジフルオ
ロ−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3
,3′−ジブロモ−4゜4′−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン、3゜3’、5.5’−テトラクロロ−4,
4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’、
5゜5′−テトラフルオロ−4,4′−ジヒドロキシテ
トラフェニルメタン、3.3’ 、5.5’ −テトラ
ブロモ−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジヒドロキシ−5,
5′−ジクロロテトラフェニルメタン、3.3’、5.
5’−テトラクロロ−4゜4′−ジヒドロキシテトラフ
ェニルメタン等を挙げることができる。
ラフェニルメタン、3.3′−ジクロロ−4,4′−ジ
ヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3′−ジフルオ
ロ−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3
,3′−ジブロモ−4゜4′−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン、3゜3’、5.5’−テトラクロロ−4,
4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、3.3’、
5゜5′−テトラフルオロ−4,4′−ジヒドロキシテ
トラフェニルメタン、3.3’ 、5.5’ −テトラ
ブロモ−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジヒドロキシ−5,
5′−ジクロロテトラフェニルメタン、3.3’、5.
5’−テトラクロロ−4゜4′−ジヒドロキシテトラフ
ェニルメタン等を挙げることができる。
なかでも、原料の入手の容易さ等の見地から、4.4′
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン及び3,3′−ジ
メチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
が好適に用いられる。
−ジヒドロキシテトラフェニルメタン及び3,3′−ジ
メチル−4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
が好適に用いられる。
前記一般式(IV)で表される二価フェノール化合物で
あれば、どれでも用いることができるが、その具体例と
しては、例えばビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン
、1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1
.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2.2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、4.4−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)へブタン、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホキシド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンク
ン、1゜1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、2.2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2− (3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホキシド、ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタン、1.l−ビス(3−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4
.4′−ジヒドロキシビフェニル、2.2−ビス(2−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1.1−
ビス(2−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)ブタン、1゜l−ビス(2−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)エタン、1.1−ビス(
2−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)プロパン、1.1−ビス(2−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1.1−ビス(
2−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)イソブタン、1,1−ビス(2−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)へブタン、l、1−ビ
ス(2−t−アミル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ブタン、ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、2.2−ビス(3−クロロ−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2゜2−ビス(3−フ
ルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2.2−ビス(3,5−ジフルオロ
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビ。
あれば、どれでも用いることができるが、その具体例と
しては、例えばビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン
、1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1
.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2.2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、4.4−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)へブタン、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホキシド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンク
ン、1゜1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、2.2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2− (3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルホキシド、ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタン、1.l−ビス(3−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4
.4′−ジヒドロキシビフェニル、2.2−ビス(2−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1.1−
ビス(2−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)ブタン、1゜l−ビス(2−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)エタン、1.1−ビス(
2−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)プロパン、1.1−ビス(2−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1.1−ビス(
2−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル
)イソブタン、1,1−ビス(2−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)へブタン、l、1−ビ
ス(2−t−アミル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ブタン、ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、2.2−ビス(3−クロロ−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2゜2−ビス(3−フ
ルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2.2−ビス(3,5−ジフルオロ
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビ。
ス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシ−5
−クロロフェニル)プロパン、2゜2−ビス(3,5−
ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2.2−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)ブ
タン、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)
エーテル、3.3′−ジフルオロ−4,4′−ジヒドロ
キシビフェニル等を挙げることができる。
パン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシ−5
−クロロフェニル)プロパン、2゜2−ビス(3,5−
ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2.2−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)ブ
タン、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)
エーテル、3.3′−ジフルオロ−4,4′−ジヒドロ
キシビフェニル等を挙げることができる。
請求項1及び2の発明に用いられる芳香族ポリカーボネ
ートには、フィルムの特性を損なわない範囲で、他の二
価フェノール化合物を加えて製造される変性ポリカーボ
ネートも含まれる。上記の他の二価フェノール化合物と
しては、レゾルシン、ハイドロキノン等が挙げられる。
ートには、フィルムの特性を損なわない範囲で、他の二
価フェノール化合物を加えて製造される変性ポリカーボ
ネートも含まれる。上記の他の二価フェノール化合物と
しては、レゾルシン、ハイドロキノン等が挙げられる。
さらに、少量の、例えば、使用した二価フェノール化合
物の0.05〜2.0モル%程度のポリヒドロキシ化合
物などを加えることにより製造された分岐を有する芳香
族ポリカーボネートも含まれる。
物の0.05〜2.0モル%程度のポリヒドロキシ化合
物などを加えることにより製造された分岐を有する芳香
族ポリカーボネートも含まれる。
請求項1及び2の発明のフィルムを製造するにあたって
は、上記の1種又は2種以上の芳香族ポリカーボネート
に、必要に応じ、ポリアルキレンテレフタレート、ポリ
オレフィン、他のポリカーボネート、ポリエーテルサル
ホン、ボリアリレート、ポリサルホン、ポリフェニレン
サルファイドなどの熱可塑性樹脂を配合することができ
る。
は、上記の1種又は2種以上の芳香族ポリカーボネート
に、必要に応じ、ポリアルキレンテレフタレート、ポリ
オレフィン、他のポリカーボネート、ポリエーテルサル
ホン、ボリアリレート、ポリサルホン、ポリフェニレン
サルファイドなどの熱可塑性樹脂を配合することができ
る。
また、これら芳香族ポリカーボネートには、必要に応じ
、公知の添加剤、例えば、難燃剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、充填剤、耐衝撃性改良剤、紫外線吸収剤、可塑剤
、加水分解安定剤、顔料、染料、着色安定剤等を配合す
ることができる。
、公知の添加剤、例えば、難燃剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、充填剤、耐衝撃性改良剤、紫外線吸収剤、可塑剤
、加水分解安定剤、顔料、染料、着色安定剤等を配合す
ることができる。
請求項1及び2の発明のフィルムの成形方法としては、
従来公知の製膜法を用いることができる。
従来公知の製膜法を用いることができる。
例えば、熱プレス成形などのプレス成形;キャストロー
ル法、インフレーション法、チュブラ−法などの押出法
;ポリマー溶液をベルト上で流延し、溶媒を蒸発除去し
て薄膜化する方法;ポリマー溶液を物品に塗布した後溶
剤除去するコーティング法などが挙げられる。
ル法、インフレーション法、チュブラ−法などの押出法
;ポリマー溶液をベルト上で流延し、溶媒を蒸発除去し
て薄膜化する方法;ポリマー溶液を物品に塗布した後溶
剤除去するコーティング法などが挙げられる。
ポリマー溶液の調整に用いられる溶剤としては、lyo
ロホルム、塩化メチレン等のハロゲン系溶剤、トルエン
等の芳香族系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系
溶剤等が挙げられる。
ロホルム、塩化メチレン等のハロゲン系溶剤、トルエン
等の芳香族系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系
溶剤等が挙げられる。
また、このようにして製膜されたフィルムは、必要に応
じ、従来慣用されている延伸法、例えばテンター法、チ
ューブラ−法、多段延伸法などにより延伸してもよい。
じ、従来慣用されている延伸法、例えばテンター法、チ
ューブラ−法、多段延伸法などにより延伸してもよい。
また、必要に応じ、熱処理を行うこともできる。
請求項1及び2の発明のフィルムの厚さについては、特
に制限はないが、通常0.1〜1000μm、好ましく
は1〜500μmの範囲で選ばれる。
に制限はないが、通常0.1〜1000μm、好ましく
は1〜500μmの範囲で選ばれる。
このようにして成形されたフィルムは、耐熱性、機械的
強度、電気絶縁性等においても、従来の芳香族ポリカー
ボネートフィルムと同様に優れているのみならず、低透
湿性及び表面硬度において著しく改良されたものである
。従って、耐熱性フィルム、低透湿フィルム、電気絶縁
性フィルムとして、各種の電子・電気機器の部品として
好適に用いることができる。さらに、重合体材料の溶剤
等によるゲル化、結晶化が解消されたため、重合体溶液
を用いる製膜法による製膜が可能となった。
強度、電気絶縁性等においても、従来の芳香族ポリカー
ボネートフィルムと同様に優れているのみならず、低透
湿性及び表面硬度において著しく改良されたものである
。従って、耐熱性フィルム、低透湿フィルム、電気絶縁
性フィルムとして、各種の電子・電気機器の部品として
好適に用いることができる。さらに、重合体材料の溶剤
等によるゲル化、結晶化が解消されたため、重合体溶液
を用いる製膜法による製膜が可能となった。
以下、請求項1及び2の発明を実施例に基づいてさらに
詳細に説明するが、これの発明は下記の実施例によりな
んら限定されるものではない。
詳細に説明するが、これの発明は下記の実施例によりな
んら限定されるものではない。
実施例1
金弐±
七ツマ−として4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン90g(0,256モル)を、8%NaOH水溶
液550d、塩化メチレン400d、分子量調節剤とし
てp−t−ブチフェノール1g、及び触媒としてトリエ
チルアミンの10%水溶液3dと共にじゃま板付き反応
器内で激しく攪拌しながらホスゲンガスを10分間吹き
込んで縮合を行った。反応混合物を塩化メチレン1/!
で希釈した後、水1i!、、0.01規定NaOH水溶
液50〇−1水500d、0.01規定HCI水溶液5
00成、水500dの順で洗浄した。得られた重合体の
塩化メチレン溶液を3iのメタノール中に注ぎ再沈精製
して下記の繰り返し単位を有する白色粉末状の高分子量
体を得た。
メタン90g(0,256モル)を、8%NaOH水溶
液550d、塩化メチレン400d、分子量調節剤とし
てp−t−ブチフェノール1g、及び触媒としてトリエ
チルアミンの10%水溶液3dと共にじゃま板付き反応
器内で激しく攪拌しながらホスゲンガスを10分間吹き
込んで縮合を行った。反応混合物を塩化メチレン1/!
で希釈した後、水1i!、、0.01規定NaOH水溶
液50〇−1水500d、0.01規定HCI水溶液5
00成、水500dの順で洗浄した。得られた重合体の
塩化メチレン溶液を3iのメタノール中に注ぎ再沈精製
して下記の繰り返し単位を有する白色粉末状の高分子量
体を得た。
この重合体のテトラヒドロフラン10重量%溶液を調製
し、常温で1ケ月間放置した後も白濁、ゲルの発生は起
こらず、まったく粘度変化は見られなかった。
し、常温で1ケ月間放置した後も白濁、ゲルの発生は起
こらず、まったく粘度変化は見られなかった。
ス盃土ムq底長
つぎに、得られた重合体1重量部あたり50重量部のク
ロロホルムを加えて溶解し、得られた溶液をガラス板上
にドクターナイフを用いてキャストした。ついで、これ
を減圧下に120 ’Cで24時間乾燥することにより
、肉厚20μmのフィルムを得た。
ロロホルムを加えて溶解し、得られた溶液をガラス板上
にドクターナイフを用いてキャストした。ついで、これ
を減圧下に120 ’Cで24時間乾燥することにより
、肉厚20μmのフィルムを得た。
このようにして得られたフィルムについて、オートグラ
フを用いて引張物性試験を行った。また、JIS−Z−
0208、力・ンブ法B(40°C、ン!度90%)に
より、透湿度を測定した。さらに、JIS−に−540
0に準じて鉛筆硬度を測定した。これら結果をまとめて
第1表に示す。
フを用いて引張物性試験を行った。また、JIS−Z−
0208、力・ンブ法B(40°C、ン!度90%)に
より、透湿度を測定した。さらに、JIS−に−540
0に準じて鉛筆硬度を測定した。これら結果をまとめて
第1表に示す。
実施例2
モノマーとして3.3′−ジメチル−4,4′−ジヒド
ロキシテトラフェニルメタン97g(0゜255モル)
を用いた以外はすべて実施例1の合成例と同様に実施し
、下記構造の繰り返し単位を有する高分子量体を得た。
ロキシテトラフェニルメタン97g(0゜255モル)
を用いた以外はすべて実施例1の合成例と同様に実施し
、下記構造の繰り返し単位を有する高分子量体を得た。
この重合体のテトラヒドロフラン10重量%溶液を調整
し、常温で1ケ月間放置し、溶液粘度を測定した。1ケ
月放置後も、白濁、ゲルの発生は起こらず、まったく粘
度変化はみられなかった。
し、常温で1ケ月間放置し、溶液粘度を測定した。1ケ
月放置後も、白濁、ゲルの発生は起こらず、まったく粘
度変化はみられなかった。
この重合体を用い、実施例1のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第1表に示す。
実施例3
モノマーとして4.4′−ジヒドロキシテトラフェニル
メタン70g(0,20モル)、2.2−ビス(4−ヒ
ドロキシェフェニル)プロパン13g(0,057モル
)を用いた以外はすべて実施例1の合成例と同様に実施
し、下記構造の繰り返し単位を有する高分子量体を得た
。
メタン70g(0,20モル)、2.2−ビス(4−ヒ
ドロキシェフェニル)プロパン13g(0,057モル
)を用いた以外はすべて実施例1の合成例と同様に実施
し、下記構造の繰り返し単位を有する高分子量体を得た
。
この重合体のテトラヒドロフラン10重量%溶液を調整
し、常温で1ケ月間放置し、溶液粘度を測定した。1ケ
月放置後も、白濁、ゲルの発生は起こらず、まったく粘
度変化はみられ々かった。
し、常温で1ケ月間放置し、溶液粘度を測定した。1ケ
月放置後も、白濁、ゲルの発生は起こらず、まったく粘
度変化はみられ々かった。
この重合体を用い、実施例1のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第1表に示す。
比較例1
市販ポリカーボネート〔出光石油化学■製:出光ポリカ
ーボネートA2500)のテト5ヒビ0フ5フ10重四
%溶液を調整し、常温で1ケ月間放置したところ、白濁
、ゲルの発生が起こった。
ーボネートA2500)のテト5ヒビ0フ5フ10重四
%溶液を調整し、常温で1ケ月間放置したところ、白濁
、ゲルの発生が起こった。
この市販のポリカーボネートを用い、実施例1のフィル
ムの成形と同様の操作を行い、フィルムを得た。
ムの成形と同様の操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第1表に示す。
請求項1及び2の発明により、低透湿性で表面温度も高
く、耐熱性、機械的特性等において従来の芳香族ポリカ
ーボネートフィルムと比較して遜色なく、またはそれを
上回る芳香族ポリカーボネートフィルムを得ることがで
きた。このような芳香族ポリカーボネートフィルムは各
種の電子・電気機器の部品、塗膜として極めて有用であ
る。また、重合体が本質的に非品性であることから、溶
剤等によるゲル化や結晶化がなく、フィルムの機械的強
度や透明性の低下を招くようなことがない。
く、耐熱性、機械的特性等において従来の芳香族ポリカ
ーボネートフィルムと比較して遜色なく、またはそれを
上回る芳香族ポリカーボネートフィルムを得ることがで
きた。このような芳香族ポリカーボネートフィルムは各
種の電子・電気機器の部品、塗膜として極めて有用であ
る。また、重合体が本質的に非品性であることから、溶
剤等によるゲル化や結晶化がなく、フィルムの機械的強
度や透明性の低下を招くようなことがない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1及びR^2はそれぞれハロゲン原子、又
は炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同一であっ
ても異なっていてもよく、 R^3及びR^4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の
アルキル基、ハロゲン原子、又は炭素数1〜6のアルコ
キシ基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよ
く、 l及びmはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有するポリカーボネートから成形された芳香族ポリ
カーボネートフィルム。 2、一般式( I )及び一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Xは、 ▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、R^7及
びR^6はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい
。)、▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、n
は5〜10の整数を表 す。)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、pは2〜
10の整数を 表す。)、 単結合、−O−、−S−、−SO−、又は−SO_2−
を表し、 R^1、R^2、R^5、及びR^6はそれぞれハロゲ
ン原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、互いに同
一であっても異なっていてもよく、 R^3及びR^4はそれぞれ水素原子、炭素数1〜6の
アルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ
基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 l及びmはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、 s及びtはそれぞれ0〜4の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有し、一般式( I )で表される繰り返し単位のモル分率をqとし、一
般式(II)で表される繰り返し単位のモル分率をrとし
たとき、q/(q+r)の値が0.05以上のものであ
るポリカーボネートから成形された芳香族ポリカーボネ
ートフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2275388A JPH01201338A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2275388A JPH01201338A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01201338A true JPH01201338A (ja) | 1989-08-14 |
Family
ID=12091450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2275388A Pending JPH01201338A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01201338A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991008459A1 (en) * | 1989-11-28 | 1991-06-13 | Tsi Incorporated | Non-imaging laser particle counter |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56139530A (en) * | 1980-02-22 | 1981-10-31 | Gen Electric | Ultraviolet ray stabilized polycarbonate resin |
JPS60166322A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-29 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 光学機器用素材 |
JPS62121724A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-03 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 新規なポリカ−ボネ−ト |
-
1988
- 1988-02-04 JP JP2275388A patent/JPH01201338A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56139530A (en) * | 1980-02-22 | 1981-10-31 | Gen Electric | Ultraviolet ray stabilized polycarbonate resin |
JPS60166322A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-29 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 光学機器用素材 |
JPS62121724A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-03 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 新規なポリカ−ボネ−ト |
Cited By (1)
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