JPH0119082Y2 - - Google Patents
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- JPH0119082Y2 JPH0119082Y2 JP1983052770U JP5277083U JPH0119082Y2 JP H0119082 Y2 JPH0119082 Y2 JP H0119082Y2 JP 1983052770 U JP1983052770 U JP 1983052770U JP 5277083 U JP5277083 U JP 5277083U JP H0119082 Y2 JPH0119082 Y2 JP H0119082Y2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2801—Testing of printed circuits, backplanes, motherboards, hybrid circuits or carriers for multichip packages [MCP]
- G01R31/2806—Apparatus therefor, e.g. test stations, drivers, analysers, conveyors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/06—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a liquid
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は電子機器例えば印刷回路板のイオン汚
染を測定する装置に関するものである。
染を測定する装置に関するものである。
本考案の第一の目的は先づ試験溶液を先決した
イオン純度の基準にもつてゆき、その後で既知の
容量の上記の溶液に既知面積を有する印刷回路板
を入れて印刷回路板のイオン汚染を測定する工程
を含む電子機器型の装置を提供することである。
イオン純度の基準にもつてゆき、その後で既知の
容量の上記の溶液に既知面積を有する印刷回路板
を入れて印刷回路板のイオン汚染を測定する工程
を含む電子機器型の装置を提供することである。
他の目的は、先決した一定間隔のある二点の間
で溶液の抵抗率を測定して溶液のイオン含量を測
定する電子機器型の装置を提供することである。
で溶液の抵抗率を測定して溶液のイオン含量を測
定する電子機器型の装置を提供することである。
その他の目的は均質性を与えるために試験槽の
中の流体を撹拌する工程を含む電子機器型の装置
を提供することである。
中の流体を撹拌する工程を含む電子機器型の装置
を提供することである。
他の目的は、電子機器例えば印刷回路板の正規
の清浄工程の信頼度を測定するために用いる電子
機器型の装置を提供することである。
の清浄工程の信頼度を測定するために用いる電子
機器型の装置を提供することである。
その他の目的は試験溶液を既知イオン含量にも
つてゆきその後で、この溶液の先決した静止容量
を用いて溶液中の機器のイオン汚染を測定する予
備工程を含む電子機器型の装置を提供することで
ある。
つてゆきその後で、この溶液の先決した静止容量
を用いて溶液中の機器のイオン汚染を測定する予
備工程を含む電子機器型の装置を提供することで
ある。
他の目的は以下の詳述、図面および特許請求の
範囲をみれば明かとなる。
範囲をみれば明かとなる。
試験槽は一般に１０で示されたテーパがある即
ちくさび形の構造でその片側に容量目盛１２があ
る。試験槽のこの形状は印刷回路板または記述し
た方法で取扱われるその他の電子機器を挿入する
のに特に好ましい。槽１０は排水流路１６と放出
流路１８によつて溶液貯槽１４と連結している。
ポンプ２０は溶液貯槽１４と並列結合した四つの
イオン除去塔２２の間で連結している。上記の塔
はマサチユセツ州ボストンのシブロン会社のバル
ンステツド部（Barnstead Division of Sybron
Corp.Boston.Mass.）で製作した型式のものであ
る。このようなイオン除去塔は〓混合床″型とし
て知られこの型では、塔の中の粒子は塔を通過す
る溶液から陽イオンと陰イオンの両方を除去す
る。塔２２の上端は流路２４によつて槽１０の底
と連結し流体回路を完成している。
ちくさび形の構造でその片側に容量目盛１２があ
る。試験槽のこの形状は印刷回路板または記述し
た方法で取扱われるその他の電子機器を挿入する
のに特に好ましい。槽１０は排水流路１６と放出
流路１８によつて溶液貯槽１４と連結している。
ポンプ２０は溶液貯槽１４と並列結合した四つの
イオン除去塔２２の間で連結している。上記の塔
はマサチユセツ州ボストンのシブロン会社のバル
ンステツド部（Barnstead Division of Sybron
Corp.Boston.Mass.）で製作した型式のものであ
る。このようなイオン除去塔は〓混合床″型とし
て知られこの型では、塔の中の粒子は塔を通過す
る溶液から陽イオンと陰イオンの両方を除去す
る。塔２２の上端は流路２４によつて槽１０の底
と連結し流体回路を完成している。
電動機２６は槽１０の底の真下に位置し撹拌機
２８と一直線に配列している。撹拌機は槽の底に
位置する磁石の形式をとることができる。電動機
が廻転するにつれて磁石は同様に廻転し試験槽１
０の中で溶液を撹拌する。
２８と一直線に配列している。撹拌機は槽の底に
位置する磁石の形式をとることができる。電動機
が廻転するにつれて磁石は同様に廻転し試験槽１
０の中で溶液を撹拌する。
電子感知器（electronic sensor）を３０に図
示する。これは先決した距離を保つて維持されて
印加電圧をもつ一対の間隔をおいた板または針を
有する型式である。このような感知器はマサチユ
ーセツツ州ヒンガムのバルスバウ研究所
（Balsbaugh Laboratories.Hingham.Mass.）で
製作される。
示する。これは先決した距離を保つて維持されて
印加電圧をもつ一対の間隔をおいた板または針を
有する型式である。このような感知器はマサチユ
ーセツツ州ヒンガムのバルスバウ研究所
（Balsbaugh Laboratories.Hingham.Mass.）で
製作される。
抵抗率監視回路を３２に図示するこれは電気結
線３４で感知器３０に連結している。さて、抵孔
率監視器は槽１０の中の溶液のイオン含量をオー
ム値で直接指示する。抵抗率監視器は感知器３０
の中の間隔を置いた素子３１の間の抵抗を測定す
る。この抵抗は槽の中の溶液のイオン含量によつ
て直接に決定される。清浄サイクル制御回路３６
は電気結線３８で電動機２６に、電気結線４０で
ポンプ２０に連結している。試験サイクル制御回
路４２は電気結線４４で清浄サイクル制御回路３
６に連結している。試験サイクル記録回路４８と
タイマ５０は各々抵抗率監視器３２と試験サイク
ル制御４２に連結している。同じように、抵抗率
監視器３２は清浄サイクル制御３６に連結してい
る。
線３４で感知器３０に連結している。さて、抵孔
率監視器は槽１０の中の溶液のイオン含量をオー
ム値で直接指示する。抵抗率監視器は感知器３０
の中の間隔を置いた素子３１の間の抵抗を測定す
る。この抵抗は槽の中の溶液のイオン含量によつ
て直接に決定される。清浄サイクル制御回路３６
は電気結線３８で電動機２６に、電気結線４０で
ポンプ２０に連結している。試験サイクル制御回
路４２は電気結線４４で清浄サイクル制御回路３
６に連結している。試験サイクル記録回路４８と
タイマ５０は各々抵抗率監視器３２と試験サイク
ル制御４２に連結している。同じように、抵抗率
監視器３２は清浄サイクル制御３６に連結してい
る。
ここに記載した方法と装置は電子機器例えば印
刷回路板のイオン汚染を測定するのに有用であ
る。このような板は、はんだ付作業の後に慣例
上、清浄にされる。この清浄作業ははんだ付工程
で生じた種々の汚染物をできるだけ多く除去する
ことである。陰陽両イオンを含むこの種のイオン
汚染を、印刷回路板から除去しないと引続いて腐
食を起こすこととなる。
刷回路板のイオン汚染を測定するのに有用であ
る。このような板は、はんだ付作業の後に慣例
上、清浄にされる。この清浄作業ははんだ付工程
で生じた種々の汚染物をできるだけ多く除去する
ことである。陰陽両イオンを含むこの種のイオン
汚染を、印刷回路板から除去しないと引続いて腐
食を起こすこととなる。
印刷回路板の製作者が用いる方法は常態では、
実質的に清浄な板を提供する。本考案は、このよ
うな清浄方法の信頼度を試験する手段を目的とし
ている。
実質的に清浄な板を提供する。本考案は、このよ
うな清浄方法の信頼度を試験する手段を目的とし
ている。
根本的には、本考案は別個の作業工程を企図し
ている。第一工程において、試験溶液を先決した
純度基準にもつてゆく。
ている。第一工程において、試験溶液を先決した
純度基準にもつてゆく。
第二工程において、先決した静止容量の上記の
基準純度を有する溶液に既知の露出横断面積をも
つ印刷回路板を入れる。上記の溶液のイオン含量
の変化を記録すると、正規の清浄工程後に印刷回
路板に残留するイオン汚染が直接指示される。
基準純度を有する溶液に既知の露出横断面積をも
つ印刷回路板を入れる。上記の溶液のイオン含量
の変化を記録すると、正規の清浄工程後に印刷回
路板に残留するイオン汚染が直接指示される。
特に記述した方法の第一工程をみると、貯槽１
４からの溶液はイオン除去塔２２を通り流路２４
を通つて槽１０の底へ流れる。槽の中の溶液は漸
次に上昇し終に放出流路１８の頂部と同じ水準に
到達する。この点で放出流路による溶液貯槽１４
への吸引力が生じ槽がからになる。槽１０の中に
溶液がある期間は、溶液の抵抗率を感知器３０と
抵抗率監視器３２で測定する。清浄サイクル制御
３６は抵抗率監視器によつて測定される如く溶液
の純度が先決した基準に達する迄、ポンプ２０と
撹拌用電動機２６を作動させる。この基準は清浄
サイクル制御３６のスイツチコントロールで従来
の方法で調整することができる。所望の純度基準
が達成されるとポンプは停止し溶液は上記の仕方
でもはや循環しない。
４からの溶液はイオン除去塔２２を通り流路２４
を通つて槽１０の底へ流れる。槽の中の溶液は漸
次に上昇し終に放出流路１８の頂部と同じ水準に
到達する。この点で放出流路による溶液貯槽１４
への吸引力が生じ槽がからになる。槽１０の中に
溶液がある期間は、溶液の抵抗率を感知器３０と
抵抗率監視器３２で測定する。清浄サイクル制御
３６は抵抗率監視器によつて測定される如く溶液
の純度が先決した基準に達する迄、ポンプ２０と
撹拌用電動機２６を作動させる。この基準は清浄
サイクル制御３６のスイツチコントロールで従来
の方法で調整することができる。所望の純度基準
が達成されるとポンプは停止し溶液は上記の仕方
でもはや循環しない。
試験サイクル制御４２を活動させて清浄サイク
ル制御３６によりポンプ２０を動かし先決した容
量の試験溶液を貯槽１０に入れる。槽１０の中に
入れた容量は試験される印刷回路板（単または
複）の露出した横断面積によつて決定される。直
接に板の面積でよむように目盛１２を目盛ること
ができる。或は目盛を容量で目盛ることができ
る。少くとも、ポンプ２０が試験サイクル制御４
２と清浄サイクル制御３６で制御されるときに、
ポンプ２０は先決した容量の流体をタンク１０に
入れる。所望の容量の流体がタンクに入ると、ポ
ンプは停止する。印刷回路板または他の電子機器
をタンクの中に挿入する。抵抗率監視器３２は感
知器３０により、流体の抵抗率の変化を直接指示
する。上記の変化は挿入した板のイオン汚染によ
つて直接に生じる。タイマ５０と試験サイクル記
録器４８を用いて、抵抗率の変化を記録すること
ができるし、また抵抗率の変化を測定する時間を
制御することができる。タンク１０の中の溶液の
抵抗率の変化を先決した間隔で試験し記録した後
に、印刷回路板を除去する。板が慣例の清浄工程
を経て送られた後では、溶液の純度の変化は直接
に板のイオン汚染を示している。従つて、溶液の
純度の変化は清浄工程の信頼度と効率を直接に示
すものである。排出流路１６でタンク１０を排水
し溶液を貯槽１４に戻すことができる。
ル制御３６によりポンプ２０を動かし先決した容
量の試験溶液を貯槽１０に入れる。槽１０の中に
入れた容量は試験される印刷回路板（単または
複）の露出した横断面積によつて決定される。直
接に板の面積でよむように目盛１２を目盛ること
ができる。或は目盛を容量で目盛ることができ
る。少くとも、ポンプ２０が試験サイクル制御４
２と清浄サイクル制御３６で制御されるときに、
ポンプ２０は先決した容量の流体をタンク１０に
入れる。所望の容量の流体がタンクに入ると、ポ
ンプは停止する。印刷回路板または他の電子機器
をタンクの中に挿入する。抵抗率監視器３２は感
知器３０により、流体の抵抗率の変化を直接指示
する。上記の変化は挿入した板のイオン汚染によ
つて直接に生じる。タイマ５０と試験サイクル記
録器４８を用いて、抵抗率の変化を記録すること
ができるし、また抵抗率の変化を測定する時間を
制御することができる。タンク１０の中の溶液の
抵抗率の変化を先決した間隔で試験し記録した後
に、印刷回路板を除去する。板が慣例の清浄工程
を経て送られた後では、溶液の純度の変化は直接
に板のイオン汚染を示している。従つて、溶液の
純度の変化は清浄工程の信頼度と効率を直接に示
すものである。排出流路１６でタンク１０を排水
し溶液を貯槽１４に戻すことができる。
試験溶液ははなはだしく変化することができ
る。試薬級のイソプロピルアルコールとイオンを
除去した水の50−50混合した基本溶液が良いこと
が知られている。
る。試薬級のイソプロピルアルコールとイオンを
除去した水の50−50混合した基本溶液が良いこと
が知られている。
図示する如く、イオン除去塔２２は全部並列に
連結することができる。或は一対の塔または他の
塔を通して溶液を流す適当なバルブ手段がある。
そこで塔が消耗したときバルブ手段で簡易に交替
ができる。
連結することができる。或は一対の塔または他の
塔を通して溶液を流す適当なバルブ手段がある。
そこで塔が消耗したときバルブ手段で簡易に交替
ができる。
ここに本考案の好適な型を示し記載したがこれ
に対して多くの変形、代用、および変更が可能で
あることは了解されるべきである。
に対して多くの変形、代用、および変更が可能で
あることは了解されるべきである。
添付した略図によつて、本考案を概略に図示す
る。 主要部分の符号の説明、１０……試験槽、１２
……容量目盛、１４……溶液貯槽、１６……排水
流路、１８……放出流路、２０……ポンプ、２２
……イオン除去塔、２６……電動機、２８……撹
拌機、３０……電子感知器、３２……抵抗率監視
回路、３６……清浄サイクル制御回路、４２……
試験サイクル制御回路、４８……試験サイクル記
録回路、５０……タイマ。
る。 主要部分の符号の説明、１０……試験槽、１２
……容量目盛、１４……溶液貯槽、１６……排水
流路、１８……放出流路、２０……ポンプ、２２
……イオン除去塔、２６……電動機、２８……撹
拌機、３０……電子感知器、３２……抵抗率監視
回路、３６……清浄サイクル制御回路、４２……
試験サイクル制御回路、４８……試験サイクル記
録回路、５０……タイマ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 電子機器のイオン汚染を測定する装置で、電
子機器を入れるために成形し適合させた試験
槽、上記の試験槽と共に流体回路をつくる溶液
貯槽とイオン除去手段、上記の回路と試験槽を
通し流体を循環させるポンプ、上記の試験槽の
中の溶液のイオン汚染を測定する手段、上記の
ポンプをして上記の試験槽、イオン除去手段お
よび貯槽を通して流体を循環させるための制御
手段を含み、更に前記制御手段は上記のポンプ
が上記の試験槽の中に先決した静止容量の流体
を入れるための手段を有し、又前記の制御手段
は上記ポンプをして、測定したイオン汚染が所
定のレベルに到達するまで、これらの諸構成要
素を通つてかゝる流体を循環させるようにする
ことを特徴とする装置。 ２ 上記の測定手段が一定の間隔をおいた一対の
電極の間で上記の溶液の抵抗率を測定する電子
感知器を有することを特徴とする実用新案登録
請求の範囲第１項記載の装置。 ３ 均質な流体を準備するため上記の試験槽の中
の溶液を撹拌する手段を有することを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第１項記載の装置。 ４ 上記の撹拌手段は、試験槽の中に置いた磁石
と、試験槽の外に且つ直接に磁石に隣接して置
いた電動機を有することを特徴とする実用新案
登録請求の範囲第３項記載の装置。 ５ 上記のイオン除去手段は上記の貯槽と試験槽
の間に並列に連結した複数のイオン塔を有する
ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１
項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/658,182 US4023931A (en) | 1976-02-17 | 1976-02-17 | Means and method for measuring levels of ionic contamination |
| US658182 | 1976-02-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58175451U JPS58175451U (ja) | 1983-11-24 |
| JPH0119082Y2 true JPH0119082Y2 (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=24640230
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP504277A Pending JPS5299894A (en) | 1976-02-17 | 1977-01-21 | Measuring apparatus and process for standard of ion contamination |
| JP1983052770U Granted JPS58175451U (ja) | 1976-02-17 | 1983-04-11 | イオン汚染の基準を測定する装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP504277A Pending JPS5299894A (en) | 1976-02-17 | 1977-01-21 | Measuring apparatus and process for standard of ion contamination |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4023931A (ja) |
| JP (2) | JPS5299894A (ja) |
| DE (1) | DE2706834C2 (ja) |
| FR (1) | FR2342005A1 (ja) |
| GB (1) | GB1516812A (ja) |
| NL (1) | NL7701496A (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4434233A (en) | 1981-03-03 | 1984-02-28 | Carrier Corporation | Method of testing oil for ionic contaminants |
| GB2128335A (en) * | 1982-08-13 | 1984-04-26 | Omnium Assets Trust Syndicate | Measuring conductivity of a soil sample |
| JPS59214750A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-04 | Mitsubishi Electric Corp | ナトリウムイオン物質濃度の連続モニタ−装置 |
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| WO1988004962A1 (en) * | 1986-12-24 | 1988-07-14 | Fry Metals Inc. | Apparatus and method for determining surface ionic contamination levels of electronic assemblies such as printed circuit assemblies |
| US4996160A (en) * | 1987-06-09 | 1991-02-26 | The Dow Chemical Company | Method and apparatus for quantitative measurement of ionic and organic contaminants remaining on cleaned surfaces |
| US4922205A (en) * | 1989-06-08 | 1990-05-01 | Rikagaku Kenkyusho | Apparatus for detecting contamination on probe surface |
| US5359282A (en) * | 1990-11-16 | 1994-10-25 | Nichimen Kabushiki Kaisha | Plasma diagnosing apparatus |
| US5201958A (en) * | 1991-11-12 | 1993-04-13 | Electronic Controls Design, Inc. | Closed-loop dual-cycle printed circuit board cleaning apparatus and method |
| JPH08211592A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-08-20 | Nikon Corp | 洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置 |
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| JP2004077378A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-11 | Somakkusu Kk | 電解洗浄液の劣化測定装置及び該装置を用いた電解洗浄液の劣化度評価方法 |
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