JPH01188860A - 積層型感光体 - Google Patents
積層型感光体Info
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- JPH01188860A JPH01188860A JP1415288A JP1415288A JPH01188860A JP H01188860 A JPH01188860 A JP H01188860A JP 1415288 A JP1415288 A JP 1415288A JP 1415288 A JP1415288 A JP 1415288A JP H01188860 A JPH01188860 A JP H01188860A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/104—Bases for charge-receiving or other layers comprising inorganic material other than metals, e.g. salts, oxides, carbon
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は、アルミニウムあるいはアルミニウム合金で
構成された導電性基体上に、少なくとも電荷発生層と電
荷輸送層とが形成されてなるN層型感光体に係り、特に
、その電荷発生層が有機系電荷発生材料の樹脂分散膜で
構成されるものにおいて、静電特性を損なうことなく導
電性基体における欠陥を改善した積層型感光体に関する
ものである。
構成された導電性基体上に、少なくとも電荷発生層と電
荷輸送層とが形成されてなるN層型感光体に係り、特に
、その電荷発生層が有機系電荷発生材料の樹脂分散膜で
構成されるものにおいて、静電特性を損なうことなく導
電性基体における欠陥を改善した積層型感光体に関する
ものである。
[従来技術とその問題点]
電子写真等に使用する感光体としては、導電性基体上に
感光層を設けたものが従来より一般に使用されている。
感光層を設けたものが従来より一般に使用されている。
ここで、このような感光体に使用する導電性基体として
は、一般にアルミニウムあるいはA3003(A、R−
Mn−Cu系)やA 6063(A、R−Mg−3i系
)等のアルミニウム合金で構成された引抜管を、切削加
工したものが多用されている。
は、一般にアルミニウムあるいはA3003(A、R−
Mn−Cu系)やA 6063(A、R−Mg−3i系
)等のアルミニウム合金で構成された引抜管を、切削加
工したものが多用されている。
そして、このような導電性基体上に感光層を塗布によっ
て形成する場合、特にその表面の状態が均一であること
が要求されるため、従来より引抜管の製造時、特に鋳込
み時において脱ガスフィルタリングを入念に行い、その
組織中に不純物が混入しないように充分に注意がはられ
れていた。しかし、このようにして製造した場合であっ
ても、数〜数10μmの不純物が露出したり、また不純
物の脱落によって表面欠陥が発生したり、さらには合金
成分の偏析により不均一な表面となることがあった。ま
た、このような引抜管の寸法精度を向上させるため、組
織の微細化を促進する目的でチタンボロン等の元素を添
加することがあるが、この場合には、これらの元素が核
となって導電性基体表面における欠陥が増加する傾向が
あった。
て形成する場合、特にその表面の状態が均一であること
が要求されるため、従来より引抜管の製造時、特に鋳込
み時において脱ガスフィルタリングを入念に行い、その
組織中に不純物が混入しないように充分に注意がはられ
れていた。しかし、このようにして製造した場合であっ
ても、数〜数10μmの不純物が露出したり、また不純
物の脱落によって表面欠陥が発生したり、さらには合金
成分の偏析により不均一な表面となることがあった。ま
た、このような引抜管の寸法精度を向上させるため、組
織の微細化を促進する目的でチタンボロン等の元素を添
加することがあるが、この場合には、これらの元素が核
となって導電性基体表面における欠陥が増加する傾向が
あった。
一方、このような導電性基体上に形成する感光層として
は、従来よりセレン、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カド
ミウム等の無機系光電性材料が用いられていたが、これ
らの無機系光電性材料は一般に毒性が強いものが多く、
耐湿性等にも問題があり、また有機系光電性材料を用い
た場合には、未だ充分な感度が得られず、耐久性や環境
変化に対する安定性等の点においても問題があった。
は、従来よりセレン、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カド
ミウム等の無機系光電性材料が用いられていたが、これ
らの無機系光電性材料は一般に毒性が強いものが多く、
耐湿性等にも問題があり、また有機系光電性材料を用い
た場合には、未だ充分な感度が得られず、耐久性や環境
変化に対する安定性等の点においても問題があった。
このため、近年においては、感光層における電荷の発生
と電荷の輸送という機能を分離させた機能分離型の積層
感光体が提案され、このような機能分離型の積層感光体
が広く使用されるようになった。
と電荷の輸送という機能を分離させた機能分離型の積層
感光体が提案され、このような機能分離型の積層感光体
が広く使用されるようになった。
そして、このような機能分離型の積層感光体として、最
近では、フタロシアニン系化合物、ペリレン系化合物、
アゾ系化合物あるいはその他の各種有機系染料や顔料か
らなる有機系電荷発生材料を用い、これを樹脂と共に分
散させた分散溶液を゛導電性基体上に塗布し、乾燥させ
て電荷発生層を形成し、次いで、ピラゾリン誘導体、ヒ
ドラゾン誘導体、ジフェニルメタン誘導体、トリフェニ
ルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ベンゾオキ
サゾール誘導体、スチリル染料ベース誘導体等の化合物
を含む樹脂溶液を塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成
した有機系の機能分離型積層感光体が多用されるように
なってきた。
近では、フタロシアニン系化合物、ペリレン系化合物、
アゾ系化合物あるいはその他の各種有機系染料や顔料か
らなる有機系電荷発生材料を用い、これを樹脂と共に分
散させた分散溶液を゛導電性基体上に塗布し、乾燥させ
て電荷発生層を形成し、次いで、ピラゾリン誘導体、ヒ
ドラゾン誘導体、ジフェニルメタン誘導体、トリフェニ
ルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ベンゾオキ
サゾール誘導体、スチリル染料ベース誘導体等の化合物
を含む樹脂溶液を塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成
した有機系の機能分離型積層感光体が多用されるように
なってきた。
ここで、このような有機系の機能分離型積層感光体にお
いては、その電荷発生層の膜厚が通常0.2〜0.3μ
mときわめて薄く、またその形成にあたっては、一般に
浸漬引き上げ法によってこれを塗布するため、導電性基
体表面の状態によって大きな影響を受けるという特徴を
有していた。
いては、その電荷発生層の膜厚が通常0.2〜0.3μ
mときわめて薄く、またその形成にあたっては、一般に
浸漬引き上げ法によってこれを塗布するため、導電性基
体表面の状態によって大きな影響を受けるという特徴を
有していた。
このため、上記のように導電性基体の表面に表面欠陥等
がある場合には、このような電荷発生層をうまく形成す
ることができず、電荷発生層が不均一になり、コピーし
た場合その画像中に黒スジや黒斑点等のノイズが発生す
るという問題があった。
がある場合には、このような電荷発生層をうまく形成す
ることができず、電荷発生層が不均一になり、コピーし
た場合その画像中に黒スジや黒斑点等のノイズが発生す
るという問題があった。
この発明は、上記のような問題を解決することを目的と
してなされたものであり、有機系の機能分離型積層感光
体において、その静電特性を損なうことなく、電荷発生
層を形成に用いる分散溶液と導電性基体とのぬれ性を改
善し、導電性基体の表面に均一に電荷発生層を形成でき
るようにしたものである。
してなされたものであり、有機系の機能分離型積層感光
体において、その静電特性を損なうことなく、電荷発生
層を形成に用いる分散溶液と導電性基体とのぬれ性を改
善し、導電性基体の表面に均一に電荷発生層を形成でき
るようにしたものである。
「問題点を解決するための手段及び作用]この発明にお
いては、アルミニウムやアルミニウム合金で構成された
導電性基体上に、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層と
が形成されてなる111層型感光体において、」二足電
荷発生層を有機系電荷発生材料の樹脂分散膜で構成する
と共に、導電性基体として、その表面をエツチングした
後に陽極酸化処理し、さらに封孔処理を施したものを使
用するようにしたのである。
いては、アルミニウムやアルミニウム合金で構成された
導電性基体上に、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層と
が形成されてなる111層型感光体において、」二足電
荷発生層を有機系電荷発生材料の樹脂分散膜で構成する
と共に、導電性基体として、その表面をエツチングした
後に陽極酸化処理し、さらに封孔処理を施したものを使
用するようにしたのである。
このように、この発明においては、導電性基体として、
その表面をエツチングした後、これに陽極酸化処理を行
い、さらに封孔処理を施したものを用いるようにしたた
め、感光体の静電特性や画像特性に悪影響を及ぼずこと
なく、電荷発生層の形成に用いる分散溶液と導電性基体
に面との間のぬれ性が改善され、導電性基体のに面に有
機系電荷発生材料の樹脂分散膜で構成される電荷発生層
を均一に形成されるようになった。
その表面をエツチングした後、これに陽極酸化処理を行
い、さらに封孔処理を施したものを用いるようにしたた
め、感光体の静電特性や画像特性に悪影響を及ぼずこと
なく、電荷発生層の形成に用いる分散溶液と導電性基体
に面との間のぬれ性が改善され、導電性基体のに面に有
機系電荷発生材料の樹脂分散膜で構成される電荷発生層
を均一に形成されるようになった。
なお、導電性基体の表面にエツチングのみを行った場合
には、導電性基体の表面が活性化されて電荷の注入が多
くなり、表面電位の低下や暗減衰の増大を招き、白斑点
等のノイズが増加し、静電特性や画像特性に悪影響を及
ぼす。−方、エツチングを行わずに陽極酸化処理を行っ
た場合には、導電性基体の表面が不均一な状態のままで
アルマイト層が形成され、アルマイト層にムラを生じ、
有機系電荷発生材料の樹脂分散膜からなる電荷輸送層を
導電性基体の表面に均一に形成できなくなる。また、陽
極酸化後に封孔処理を行わなければ、陽極酸化によって
形成されたアルマイト層の多孔質層内における空気層が
障壁となって、電荷の輸送か妨げられ、残留電位が増大
して感度が低下したり、カブリ等が発生し、静電特性や
画像特性に悪影響を及ぼすようになる。
には、導電性基体の表面が活性化されて電荷の注入が多
くなり、表面電位の低下や暗減衰の増大を招き、白斑点
等のノイズが増加し、静電特性や画像特性に悪影響を及
ぼす。−方、エツチングを行わずに陽極酸化処理を行っ
た場合には、導電性基体の表面が不均一な状態のままで
アルマイト層が形成され、アルマイト層にムラを生じ、
有機系電荷発生材料の樹脂分散膜からなる電荷輸送層を
導電性基体の表面に均一に形成できなくなる。また、陽
極酸化後に封孔処理を行わなければ、陽極酸化によって
形成されたアルマイト層の多孔質層内における空気層が
障壁となって、電荷の輸送か妨げられ、残留電位が増大
して感度が低下したり、カブリ等が発生し、静電特性や
画像特性に悪影響を及ぼすようになる。
従って、感光体の静電特性や画像特性に影響を与えるこ
となく、導電性基体の表面に有機系電荷発生材料の樹脂
分散膜で構成される電荷発生層を均一に形成するために
は、この発明のように、導電性基体として、その表面に
エツチング、陽極酸化処理、封孔処理をセットして行っ
たものを用いることが必要になる。
となく、導電性基体の表面に有機系電荷発生材料の樹脂
分散膜で構成される電荷発生層を均一に形成するために
は、この発明のように、導電性基体として、その表面に
エツチング、陽極酸化処理、封孔処理をセットして行っ
たものを用いることが必要になる。
ここで、アルミニウムやアルミニウム合金で構成された
導電性基体の表面をエツチングするにあたっては、アル
カリ、酸、フッ化物等を用いることができ、アルカリで
は苛性ソーダを、酸ではリン酸を使用するのが一般的で
ある。
導電性基体の表面をエツチングするにあたっては、アル
カリ、酸、フッ化物等を用いることができ、アルカリで
は苛性ソーダを、酸ではリン酸を使用するのが一般的で
ある。
次に、このように表面がエツチングされた導電性基体に
、陽極酸化処理を施すにあたっては、一般に電解液とし
て硫酸あるいはシュウ酸を使用し、この導電性基体を陽
極に用いて電解処理を行い、導電性基体の表面にアルマ
イト層を形成する。
、陽極酸化処理を施すにあたっては、一般に電解液とし
て硫酸あるいはシュウ酸を使用し、この導電性基体を陽
極に用いて電解処理を行い、導電性基体の表面にアルマ
イト層を形成する。
このようにして形成されたアルマイト層は、バリヤ層と
多孔質層の二層からなり、このバリヤ層の厚みは、電解
電圧を調整することによって調整でき、また多孔質層の
厚みは、電解時間を調整することによって調整できる。
多孔質層の二層からなり、このバリヤ層の厚みは、電解
電圧を調整することによって調整でき、また多孔質層の
厚みは、電解時間を調整することによって調整できる。
ここで、バリヤ層については、これを厚くしすぎると、
残留電位の上昇を招き、感度の低下や繰り返し時におこ
ろカブリ等の原因となる一方、薄くしすぎると、電荷の
注入に対する効果が弱くなり、表面電位の低下や暗減衰
の増大を招き、白斑点等のノイズが増加するため、通常
はその厚みを100〜1000人、好ましくは100〜
500人にする。また。多孔質層については、その厚み
が厚すぎると、残留電位の上昇や暗電流の増加を招くた
め、通常は1〜157xm、好ましくは2〜10μm、
より好ましくは2〜8μmの厚みに形成する。
残留電位の上昇を招き、感度の低下や繰り返し時におこ
ろカブリ等の原因となる一方、薄くしすぎると、電荷の
注入に対する効果が弱くなり、表面電位の低下や暗減衰
の増大を招き、白斑点等のノイズが増加するため、通常
はその厚みを100〜1000人、好ましくは100〜
500人にする。また。多孔質層については、その厚み
が厚すぎると、残留電位の上昇や暗電流の増加を招くた
め、通常は1〜157xm、好ましくは2〜10μm、
より好ましくは2〜8μmの厚みに形成する。
このようにして導電性基体に陽極酸化処理を施した後は
、通常酢酸ニッケル溶液を使用し、この酢酸ニッケル溶
液中で導電性基体に形成されたアルマイト層に封孔処理
を施す。なお、封孔度は、封孔処理の処理時間や、酢酸
ニッケル溶液の濃度や液温等によって調整することがで
きる。
、通常酢酸ニッケル溶液を使用し、この酢酸ニッケル溶
液中で導電性基体に形成されたアルマイト層に封孔処理
を施す。なお、封孔度は、封孔処理の処理時間や、酢酸
ニッケル溶液の濃度や液温等によって調整することがで
きる。
[実施例]
次に、この発明の具体的な実施例について説明すると共
に比較例を挙げ、この発明の実施例に係るものが比較例
のものに比べて優れていることを明らかにする。
に比較例を挙げ、この発明の実施例に係るものが比較例
のものに比べて優れていることを明らかにする。
まず、この実施例においては、アルミニウム合金A 6
063で形成された引抜管を切削加工し、外径が80龍
、長さが340+on、肉厚が1關になった導電性基体
を得た。
063で形成された引抜管を切削加工し、外径が80龍
、長さが340+on、肉厚が1關になった導電性基体
を得た。
そして、この導電性基体の表面をエツチングするにあた
り、濃度55g/12.液温40±2°Cの苛性ソーダ
溶液を用い、この苛性ソーダ溶液によって導電性基体の
表面を19秒間エツチング処理した。
り、濃度55g/12.液温40±2°Cの苛性ソーダ
溶液を用い、この苛性ソーダ溶液によって導電性基体の
表面を19秒間エツチング処理した。
次いで、この導電性基体を陽極に用い、15%硫酸溶液
中で15分間電解処理し、エツチングされた導電性基体
上に陽極酸化皮膜を形成し、さらに、この導電性基体を
、濃度7g/ρ、液温70℃の酢酸ニッケル溶液中に5
分間浸漬させて封孔処理を行った。なお、導電性基体上
に形成された皮膜の膜厚は6μmであった。
中で15分間電解処理し、エツチングされた導電性基体
上に陽極酸化皮膜を形成し、さらに、この導電性基体を
、濃度7g/ρ、液温70℃の酢酸ニッケル溶液中に5
分間浸漬させて封孔処理を行った。なお、導電性基体上
に形成された皮膜の膜厚は6μmであった。
一方、比較例においては、その導電性基体として、アル
ミニウム合金A 6063で形成された引抜管を切削加
工しただけで、上記のような処理を行わないものを使用
した。
ミニウム合金A 6063で形成された引抜管を切削加
工しただけで、上記のような処理を行わないものを使用
した。
そして、上記のような処理を行ったこの実施例における
導電性基体と、処理を行わなかった比較例の導電性基体
とについて、分散溶液のぬれ性を評価した。
導電性基体と、処理を行わなかった比較例の導電性基体
とについて、分散溶液のぬれ性を評価した。
なお、このぬれ性を評価するにあたっては、J l5K
−6768(ポリプロピレンフィルムのぬれ性試験)に
準処し、以下の様な条件で測定した。
−6768(ポリプロピレンフィルムのぬれ性試験)に
準処し、以下の様な条件で測定した。
まず、試薬としてはエチレングリコールモノエチルエー
テルとホルムアミドとを混合させたものを用い、これら
の混合比を変えて表面張力が36.41.47dyn/
−になった、3種類の溶液を調製した。そして、これら
の溶液の液温を室温と同じ17℃にし、湿度64%の条
件下で、上記の各導電性基体上に、これらの溶液をマイ
クロシリングを用いて1滴滴下させ、30秒後にその接
触角度を読み取った。
テルとホルムアミドとを混合させたものを用い、これら
の混合比を変えて表面張力が36.41.47dyn/
−になった、3種類の溶液を調製した。そして、これら
の溶液の液温を室温と同じ17℃にし、湿度64%の条
件下で、上記の各導電性基体上に、これらの溶液をマイ
クロシリングを用いて1滴滴下させ、30秒後にその接
触角度を読み取った。
そして、この結果を第1図に示した。なお、同図におい
ては、上記のような処理を行ったこの実施例の導電性基
体の結果を実線で示し、比較例の導電性基体の結果を破
線で示した。
ては、上記のような処理を行ったこの実施例の導電性基
体の結果を実線で示し、比較例の導電性基体の結果を破
線で示した。
この結果、上記のような処理を行ったこの実施例におけ
る導電性基体は、比較例の導電性基体に比べて各試薬溶
液の接触角が小さくなっており、ぬれ性に優れているこ
とがわかった。
る導電性基体は、比較例の導電性基体に比べて各試薬溶
液の接触角が小さくなっており、ぬれ性に優れているこ
とがわかった。
次に、上記の場合と同様に、アルミニウム合金A 60
63で形成された引抜管を切削加工し、外径が80mm
、長さが340mm、肉厚が1開になった導電性基体を
多数作製した。なお、この作製にあたっては、鋳込み等
の条件を同一にして、各導電性基体の内部に組織的な差
がないようにした。
63で形成された引抜管を切削加工し、外径が80mm
、長さが340mm、肉厚が1開になった導電性基体を
多数作製した。なお、この作製にあたっては、鋳込み等
の条件を同一にして、各導電性基体の内部に組織的な差
がないようにした。
そして、上記実施例の場合と同様に、導電性基体表面を
エツチングした後、陽極酸化処理を行い、さらに封孔処
理を施して導電性基体上に皮膜を形成し、その皮膜の膜
厚が1μmになったもの、6μmになったものをそれぞ
れ100本作製した。また、これらのものと比較するた
めに、上記のような処理を行わずに切削加工しただけの
導電性基体も100本用意した。
エツチングした後、陽極酸化処理を行い、さらに封孔処
理を施して導電性基体上に皮膜を形成し、その皮膜の膜
厚が1μmになったもの、6μmになったものをそれぞ
れ100本作製した。また、これらのものと比較するた
めに、上記のような処理を行わずに切削加工しただけの
導電性基体も100本用意した。
そして、これらの各導電性基体の表面を顕微鏡観察した
ところ、皮膜が形成されていない比較例のものにおいて
は、5〜20μmの表面欠陥が線状に連なったストリン
ガ−欠陥が観察された。
ところ、皮膜が形成されていない比較例のものにおいて
は、5〜20μmの表面欠陥が線状に連なったストリン
ガ−欠陥が観察された。
次に、有機系電荷発生材料としてビスアゾ顔料を使用し
、このビスアゾ顔料とポリエステル樹脂とシクロヘキサ
ンとを重量比1:1:90の割合で加え、これをサンド
グライダ−を用いて分散処理し、この分散溶液中に上記
の各導電性基体を浸漬させ、膜厚が0.2〜0.3μm
となるようにして浸漬引き上げ法により、上記の各導電
性基体上にこの分散溶液を塗布し、その状態を目視観察
した。
、このビスアゾ顔料とポリエステル樹脂とシクロヘキサ
ンとを重量比1:1:90の割合で加え、これをサンド
グライダ−を用いて分散処理し、この分散溶液中に上記
の各導電性基体を浸漬させ、膜厚が0.2〜0.3μm
となるようにして浸漬引き上げ法により、上記の各導電
性基体上にこの分散溶液を塗布し、その状態を目視観察
した。
この結果、上記のように処理を行って皮膜が形成された
この実施例の各導電性基体においては、形成された電荷
発生層の欠陥は皆無であった。これに対し、処理を行わ
なかった比較例の導電性基体においては、分散溶液が線
状にはじかれて塗布されず、電荷発生層が形成されてい
ない部分を持つものが多数存在した。
この実施例の各導電性基体においては、形成された電荷
発生層の欠陥は皆無であった。これに対し、処理を行わ
なかった比較例の導電性基体においては、分散溶液が線
状にはじかれて塗布されず、電荷発生層が形成されてい
ない部分を持つものが多数存在した。
このように、この発明の実施例のものにおいては、静電
特性に悪影響を及ぼすことなく、電荷発生層を形成する
分散溶液と導電性基体とのぬれ性が改善され、また表面
欠陥が存在する導電性基体表面においても均一に電荷発
生層が塗布できるようになった。
特性に悪影響を及ぼすことなく、電荷発生層を形成する
分散溶液と導電性基体とのぬれ性が改善され、また表面
欠陥が存在する導電性基体表面においても均一に電荷発
生層が塗布できるようになった。
[発明の効果コ
以上詳述したように、この発明に係る積層感光体におい
ては、アルミニウムあるいはアルミニウム合金で構成さ
れた導電性基体の表面をエツチングした後、陽極酸化処
理を行い、さらに封孔処理を施したものを用い、その上
に有機系電荷発生材料の樹脂分散膜で構成される電荷発
生層を形成するようにしたため、感光体の静電特性や画
像特性に悪影響を与えることなく、電荷発生層の形成に
用いる分散溶液と導電性基体表面とのぬれ性が改善され
、導電性基体上に上記のような電荷発生層を均一に形成
できるようになった。
ては、アルミニウムあるいはアルミニウム合金で構成さ
れた導電性基体の表面をエツチングした後、陽極酸化処
理を行い、さらに封孔処理を施したものを用い、その上
に有機系電荷発生材料の樹脂分散膜で構成される電荷発
生層を形成するようにしたため、感光体の静電特性や画
像特性に悪影響を与えることなく、電荷発生層の形成に
用いる分散溶液と導電性基体表面とのぬれ性が改善され
、導電性基体上に上記のような電荷発生層を均一に形成
できるようになった。
この結果、この発明に係る積層感光体においては、従来
のように、導電性基体トに形成された電荷発生層が不均
一で、コピーした際に、その画像中に黒スジや黒斑点等
のノイズが発生するということがなく、高品質な画(’
Aが得られるようになった。
のように、導電性基体トに形成された電荷発生層が不均
一で、コピーした際に、その画像中に黒スジや黒斑点等
のノイズが発生するということがなく、高品質な画(’
Aが得られるようになった。
第1図はこの発明の実施例に係る感光体に使用した導電
性基体と比較例に使用した導電性基体とにおいて、分散
溶液のぬれ性を比較した図である。
性基体と比較例に使用した導電性基体とにおいて、分散
溶液のぬれ性を比較した図である。
Claims (1)
- 1、アルミニウムあるいはアルミニウム合金で構成され
た導電性基体上に、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層
とが形成されてなる積層型感光体において、上記電荷発
生層を有機系電荷発生材料の樹脂分散膜で構成すると共
に、上記導電性基体として、その表面をエッチングした
後に陽極酸化処理し、さらに封孔処理を施したものを用
いたことを特徴とする積層型感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1415288A JPH01188860A (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 積層型感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1415288A JPH01188860A (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 積層型感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01188860A true JPH01188860A (ja) | 1989-07-28 |
Family
ID=11853178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1415288A Pending JPH01188860A (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 積層型感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01188860A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0588614A2 (en) * | 1992-09-16 | 1994-03-23 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP1415288A patent/JPH01188860A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0588614A2 (en) * | 1992-09-16 | 1994-03-23 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
EP0588614A3 (en) * | 1992-09-16 | 1994-11-02 | Mitsubishi Chem Ind | Electrophotographic photoreceptor. |
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