JPH01186856A - ４−アルキルチオ置換フェノール化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は４−アルキルチオ−１−フェノール及び４−ア
ルキルチオ−１−ナフトール誘導体の製造方法に関する
ものである。

（従来の技術） ４−アルキルチオ−１−フェノール及び４−アルキルチ
オ−１−ナフトール誘導体は染料や生瑠活性を有する化
合物（医薬、農薬等）の合成中間体として重要である。

さらに、４−置換チオー１−フェノール及び４−アルキ
ルチオ−１−ナフトール誘導体は写真化学の分野で、２
当量塁シアン発色カプラーとして知られている０例えば
、米国特許第３，２２７゜５５４号、特開昭６０−５０
５３３号、特開昭６０−９１３５５号、特開昭６１−２
０１２４７！、　＄８１１１１６□−□７３４６１１ｅ
え。例を、にとができる。ところで、４−置換チオー１
−フェノール及び４−置換チオー１−ナフトール誘導体
の中て、４−ヘテロ環チオー１−フェノール％４−へテ
ロ環チオー１−ナフトール％４−アリールチオ−１−フ
ェノール及び４−アリールチオ−１−ナフトール誘導体
に比べて４−アルキルチオ−１−ナフトール誘導体が実
際に利用されている例はあまり多くは知られていない、
その最大の理由は合成の困難さ、あるいは合成収率の低
さにある。

一方、従来より１−フェノール及び１−ナフトール誘導
体の４位にアリールチオ基を導入する手法としてアリー
ルスルフェニルクロライドを用いる方法が一般に用いら
れている。

（米国特許第３，２２７，５５１辱；同第３，２２７，
５５４号）このアリールスルフェニルクロライドは比較
的安定なため、合成に用いることが可能である。これに
対して、アルキルスルフェニルクロライドは不安定なた
めに合成に用いることは困難とされていた。そのため、
１−フェノール及び１−ナフトールの４位のアルキルチ
オ化の手法として用いられることはなかった。

従来、１−フェノール及び！−ナフトールの４位をアル
キ“ルチオ化する方法としては以下の２つが知られてい
るに過ぎない。

すなわち、ｌ−デフトールあるいは１−フェノールに対
し、二塩化二イオウを作用させると、対応するスルフィ
ト、ジスルフィド、トリスルフィドの混合物が得られる
。ジスルフィド及びトリスルフィトを夏鉛で還元すると
対応するメルカプタンが得られる０次に塩基の存在下、
ハロゲノ化アルキルと反応を行い、４−アルキルチオ−
１−ナフトールを合成することができる。（米国特許第
３，４７９，４０７号：新実験化学講座ｍ。

１７４０：　Ｃｈｅｗ、　Ａｂｇｔｒ、、　７２．３１
４４５（１９７０）　）（ｘ−ｃ＊、　Ｂｒ）　　　　
　　　（Ｒｓはアルキル基）銅メルカプチドを４−ハロ
ゲノ−１−ナフトールと反応させ、４位をアルキルチオ
化する反応である（Ｃｈｅｌｌ、　Ａｂｇｔｒ、　５３
．１６！４５（１９５９））　。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、■ては１−ナフトールの種類により反応
が全く進行しなかったり、収率が低くなる場合がある（
新実験化学論座■、１７４０）及び、目的物を得るため
の工程数が長いという欠点がある。■では、副反応とし
て還元が起こるために収率が低いという欠点を、もつ。

以上、従来知られている４−アルキルチオ−ｌ−ナフト
ール誘導体の合成法では、４位が無置換であるｌ−フェ
ノールまたは１−ナフトール誘導体を収率よく、４−ア
ルキルチオ−１−フェノールまたは４−アルキルチオ−
１−ナフトール誘導体に変換することは不可能である。

従って、本発明の目的は４−アルキルチオ−１−フェノ
ールまたは４−アルキルチオ−１−ナフトール誘導体を
、対応する１−フェノールまたはｌ−ナフトール誘導体
より収率よく得る一般的合成法を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明者は、こうした従来法の欠点を克服するため種湯
検討を行りた結果、チオグリコール酸エチルのスルフェ
ニルクロリドが比較的安定であるという知見（Ｃｈｅｗ
、　Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕｌｌ、、　！ＪＩ、　（１９８
５）、）を得％　１−フェノールまたは１−ナフトール
誘導体に対し、チオグリコール酸誘導体より合成したア
ルキルスルフェニルクロライドを反応させると収率よく
対応する４−アルキルチオ−１−フェノールまたは４−
アルキルチオ−１−ナフトール誘導体を合成することが
可能であることを見出し、これに基づき本発明を完成す
るに至フた。

すなわち本発明は、−数式（Ｉ−ａ）または−数式（Ｉ
−ｂ） で表わされるフェノール化合物と一般式（ｎ）で表わさ
れるアルキルスルフェニルクロリドとを反応させて 一般式（ｍ−ａ）または−数式（ｍ−ｂ）で表わされる
４−アルキルチオ置換フェノール化合物な得ることを特
徴とする４−アルキルチオ置換フェノール化合物の製造
方法を提供するものである。

（式中、Ｒ１は芳香族環に置換可能な基を示し、フェノ
ール及びナフトールの４位以外の位置に置換する０ｍは
０から４までの整数を示し、ｎは０から６までの整数を
示し、Ｒ２及びＲ３は水素原子、アルキル基、アリール
基またはアラルキル基を示し％Ｙはアルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基または置換アミノ基を示す、）次に
一般式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）、（Ｉｆ）、（ｍ　−ａ
　）及び（ｍ−ｂ）により表わされる化合物について詳
しく述べる。

一般式（Ｉ−ａ）または（Ｉ−ｂ）で表わされる化合物
において、Ｒ１は芳香族環に置換可能な基であり、例え
ばへロゲン原子：アルキル基、アルケニル基、アリール
基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、シア
ノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基
、カルボンアミド基、スルホンアミド基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、ヘテロ環基、アミノ基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシス
ルホニル基、アリールオキシスルホニル基、スルファモ
イルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アシル
基、ニトロ基等がある０ｍは０から４までの整数であり
、ｍが複数のとき、複数のＲ１は同じでも異なっていて
もよく、複数のＲ１が互いに結合していて芳香族炭化水
素環、脂肪族環またはへテロ環を形成していてもよい、
ｎは０から６までの整数であり、ｎが複数のとき複数の
Ｒ１は同じでも具なっていてもよく、複数のＲ１が互い
に結合していて芳香族炭化水素環、脂肪族環またはへテ
ロ環を形成していてもよい。

上記のＲ１の例示した基は、より詳細にはさらに置換基
を有するものを包含する意であり、そのような置換基と
しては、例えばへロゲン原子、アルキル基、アルケニル
基、アリール基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキ
シル基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基
、ウレイド基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環基、アミノ
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基
、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミ
ノ基、アシル基、ニトロ基等が挙げられる。

一般式（ＩＩ）で表わされる化合物においてＦｔ２゜Ｒ
３は水素原子または置換されていてもよい直鎖または分
岐鎖のアルキル基を示す、Ｙは前記の通りである。

一般式（１−ａ）または（Ｉ−ｂ）で表わされる化合物
の置換基として本発明に好ましく用いられるものは以下
の通りである。すなわち、Ｒ１としてはへロゲン原子（
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素
数１〜１９のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｉ−
プロピル、を−ブチル、トリフルオロメチル、ｎ−ドデ
シル、ｎ−オクタデシル）、炭素数７〜１９のアラルキ
ル基（例えばベンジル、フェネチル）、カルボキシル基
、スルホ基、ヒドロキシル基、シアノ基、炭素数１〜３
７のカルバモイル基（例えば、カルバモイル、Ｎ、Ｎ−
ジメチルカルバモイル、Ｎ。

Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、
Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−シクロへキシルカルバモ
イル％Ｎ、Ｎ−ジヘキシルカルバモイル、Ｎ−（２−カ
ルボキシルエチル）カルバモイル、Ｎ−ヘキサデシルカ
ルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−（３−ド
デシルオキシプロビル）カルバモイル、Ｎ−［３−（２
，４−ジ二１−ベンチＪレフエノキシ）プロピル］力Ｊ
レバモイル、Ｎ−（４−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフ
ェノキシ）ブチルカルバモイル）、炭素数０〜３６のス
ルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−メチルス
ルファモイル、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルスルファモイル、Ｎ、Ｎ−ジエチルスルファモイ
ル、Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−オクタデシルス
ルファモイル）、炭素数１〜３６のカルボンアミド基（
例えばホルムアミド基、アセトアミド基、トリフルオロ
アセトアミド基、プロピオンアミド主、ベンズアミド基
、ｐ−ニトロベンズアミド、ｎ−ドデカンアミド、ｎ−
オクタデカンアミド、ｉ−ブタンアミド、ｔ−ブタンア
ミド、２−エチルヘキサンアミド、２−　（２，４−ジ
−ｔ−ペンチルフェノキシ）ブタンアミド、トリクロロ
アセトアミド、ｐ−クロロベンズアミド、ペンタフルオ
ロベンズアミド、２−　（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフ
ェノキシ）ヘキサンアミド、２−（２，４−ジ−ｔ−ペ
ンチルフェノキシ）オクタンアミド、２−（３−ペンタ
デシルフェノキシ）ブタンアミド、２−（４−ドデシル
フェニルチオ）オクタンアミド、２−（４−ブタンスル
ホンアミドフェノキシ）テトラデカンアミド、２−　（
２，４−ジ−ｔ−オクチルフェノキシ）オクタンアミド
、２−　（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）テト
ラデカンアミド、２−（４−（ｐ−ヒドロキシベンゼン
スルホニル）フェノキシ）テトラデカンアミド、２−（
２−クロロ−４−（３’−クロロー４′−ヒドロキシベ
ンゼンスルホニル）フェノキシ）ドデカンアミド、２−
（２−クロロ−４−カルボキシルフェノキシ）テトラデ
カンアミド、２−　（３−を−ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）テトラデカンアミド）、炭素数１〜３６の
スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド、エタ
ンスルホンアミド、ｎ−ブタンスルホンアミド、トリフ
ルオロメタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド
、ｐ−）ルエンスルホンアミド、フェニルメタンスルホ
ンアミド、ｎ−ヘキサデカンスルホンアミド、ｎ−オク
タデカンスルホンアミド、ｍ−ニトロメタンスルホンア
ミド、ｐ−ドデシルベンゼンスルホンアミド）、炭素数
６〜３６のアリールオキシ基（例えばフェノキシ、ｐ−
メチルフェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ、ｐ−ニト
ロフェノキシ、Ｏ−クロロフェノキシ）、炭素数１〜３
６のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、メトキ
シエトキシ、ベンジルオキシ、２−ビラノキシ、ｎ−ブ
トキシ、ｎ−ドデシルオキシ、ｎ−オクタデシルオキシ
）、炭素数２〜３６のアルコキシカルボニル基（例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−オクチ
ルカルボニル、ｎ−オクタデジルカルボニル）、アミノ
基、炭素数１〜３６のアルキルアミノ基（例えばメチル
アミノ、ジメチルアミノ、モルホリノ、ｎ−オクチルア
ミノ）、ニトロ基、炭素数１〜３６のアシル基（例えば
ホルミル、アセチル、ベンゾイル、プロピオニル、ｎ−
ブチリル、シクロヘキサンカルボニル％ｎ−デカノイル
、ｎ−オクタデカノイル）、炭素数１〜３６のアルコキ
シカルボニルアミノ基（例えばメトキシカルボニルアミ
ノ。

エトキシカルボニルアミノ、ｉ−ブトキシカルボニルア
ミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ。

ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ、ｎ−オクチルオキシカルボニルアミノ、ｎ−
ドデシルオキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオ
キシカルボニルアミノ）、炭素数１〜３６までのウレイ
ド基（例えばウレイド、Ｎ−メチルウレイド、Ｎ−エチ
ルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド、Ｎ−（ｐ−シアノ
フェニル）ウレイド、Ｎ−（ｍ−クロロ−ｐ−シアノフ
ェニル）ウレイド、Ｎ−プロパンスルホニルフェニ“ル
ウレイト、Ｎ−ブタンスルホニルフェニルウレイド、Ｎ
−（ｍ、ｐ−ジクロロフェニル）ウレイド、Ｎ−（ｏ−
クロロ−ｐ−シアノフェニル）ウレイド、Ｎ−（４−シ
アノナフチル）ウレイド、Ｎ−（ｍ−シアノフェニル）
ウレイド、Ｎ−メタンスルホニルフェニルウレイド、Ｎ
−（ｐ−クロロフェニル）ウレイド、Ｎ−（ｐ−メチル
フェニル）ウレイド、Ｎ−（ｍ−メタンスルホンアミド
フェニル）ウレイド）がそれぞれ好ましい。

置換基Ｒ１は、−数式（Ｉ−ａ）の化合物において少な
くとも２−及び５−位に導入されているのが好ましく、
−数式（Ｉ−ｂ）の化合物においても少なく七も２−及
び５−位に導入されているのが好ましい。

一般式（Ｉ−ａ）または（Ｉ−ｂ）て表わされる化合物
のうち、特に以下の構造を有するもの（Ｖ）、（Ｖｌ）
が好ましい。

ここでＲ１は前述のＲ１と同義である。Ａｒははアルキ
ルカルボンアミドを表わし、アルキルは置換されていて
もよい　Ｒ’−Ｎ−はモノ置換アミノ基を表わし、より
詳しくはアルキルカルボンアミド、アリールカルボンア
ミド、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカ
ルボニルアミノ、アルカンスルホンアミド、アリールス
ルホンアミド、等を表わし、アルキル及びアリールは置
換されていてもよい。

次に一般式（ＩＩ）、　　（ｍ−ａ）及び（ｍ−ｂ）に
おいてＲ及びＲ３としては、′水素原子、炭素数１〜３
６のアルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル、ｉ
−ブチル、ｎ−ブチル、ヒドロキシエチル、３−ヒドロ
キシプロピル、メトキシエチル％２−エチルヘキシル、
アリル、プロパルギル、ツェノキシエチル、ｐ−ニトロ
フェノキシエチル、クロロエチル、ブロモエチル、ｎ−
ヘキシル、ヒドロキシエトキシエチル）、炭素数６〜４
０のアリール基（例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル
、ｐ−ニトロフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル＆
２．４−ジニトロフェニル、ｐ　−クロロフェニル、０
−ブロモフェニル）または炭素数１〜３６のアラルキル
基（例えばベンジル、フェネチル、ｐ−二°トロベンジ
ル）が好ましい。

またＹとしては、炭素数１〜１９のアルキル基（例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、トリフルオロメチル、ベンジル、ｎ−オクチル、ｎ
−オクタデシル）、炭素数１〜３６のアルコキシ基（例
えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポ
キシ、ｎ−ブトキシ、メトキシエトキシ、ベンジルオキ
シ、２−ピラノキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−ドデシルオキ
シ、ｎ−オクタデシルオキシ）、炭素数１〜３６のアリ
ールオキシ基（例えばフェノキシ、ｐ−ニトロフェノキ
シ、Ｏ−ニトロフェノキシ、１−ナフトキシ、２−ナフ
トキシ、ｐ−メトキシフェノキシ、ｐ−クロロフェノキ
シ％ｐ−ブロモフェノキシ、ｐ−トルエンオキシ、２．
４−ジニトロフェノキシ）、炭素数１〜３６のアルキル
チオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ブチル
チオ、ｎ−オクチルチオ、ｎ−オクタデシルチオ）、炭
素数１〜３６のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ
％ｐ−メトキシフェニルチオ。

ｐ−メチルフェニルチオ、ｌ−ナフチルチオ％２−ナフ
チルチオ、ｐ−ニトロフェニルチオ）、炭素数１〜３６
の置換アミノ基（例えばＮ、Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ、
Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ、Ｎ
−メチルフェニルアミノ、Ｎ、Ｎ−エチルフェニルアミ
ノ、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−（ｎ−
ブチル）アミノ、Ｎ−シクロヘキシルアミノ、Ｎ−（ｎ
−ドデシル）アミノ、Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ、Ｎ、
Ｎ−ジナフチルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノ、Ｎ
−ベンジルアミノ、Ｎ−ナフチルアミノ、Ｎ−フェニル
アミノ、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）アミノ、Ｎ−（
ｐ−ニトロフェニル）アミノ）、または炭素数１〜３６
のアリール基（例えばフェニル、１−ナフチル％２−ナ
フチル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−メトキシフェニル、
ｐ−ブロモフェニル）が好ましい。

次に本発明の反応の反応条件について詳細に述べる。

本発明における一般式（ＩＩ）で表わされるアルコール
類の反応基質すなわち一般式（Ｉ−ａ）または（Ｉ−ｂ
）で示される化合物に対するモル比は０．０１〜１００
０であり、好ましくは０．１〜１００、さらに好ましく
は０．９〜５．０である。

本発明め反応における溶媒としては塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，２−ジクロロエタン、アセトニトリル、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリド
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジグライム、エーテル、ベンゼン、トルエン、ヘキ
サメチルホス本リルトリアミド、スルホラン、ジエチル
カーボネート、１．３−ジメチル−２−イミダゾリトン
ｉを挙げることができるが、中でも塩化メチレン、クロ
ロホルム、１．２−ジクロロエタンがより好ましい。

反応温度は一７８℃〜２００℃、好ましくは一４５℃〜
１００℃、さらに好ましくは一１０℃〜４５℃である。

反応にあたつては、ルイス酸を添加してもよい、ルイス
酸としては、塩化アルミニウム、四塩化スズ、五フッ化
ホウ素エーテラート、四塩化チタン、塩化至鉛、真北亜
鉛、ヨウ化夏鉛、臭化マグネシウム、テトラブトキシチ
タンが挙げられるが、これ５限定されるものではない。

次に一般式（ｎ）で示される化合物は次の反応に従フて
合成することができる。

（Ｉｆ）　　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）（ｎ
）に対応するチオール（ＩＶ）に対するクロル化剤のモ
ル比は０．０１〜１０００であり、好ましくは０．１〜
１００．さらに好ましくは０．８〜３．０である。

反応溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、１，
２−ジクロロエタン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、テ・トラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジグライ
ム、エーテル、ベンゼン、トルエン、ヘキサメチルホス
ホリルトリアミド、スルホラン、ジエチルカーボネート
、１．３−ジメチル−２−イミダゾリトン等を挙げるこ
とができるが、中でも塩化メチレン、クロロホルムが好
ましい。

反応温度は、−７８°Ｃ〜Ｚｏｏ℃、好ましくは一４５
°Ｃ〜１００℃、さらに好ましくは一１０℃〜２５℃で
ある。

（ＩＶ）に対し塩化スルフリルを加えた後、反応温度と
同じ温度で溶媒を留去して残留物をそのまま次の反応に
用いてもよい。

クロル化剤としては、塩化スルフリル、塩化チオニル、
塩素、Ｎ−クロロこはく酸イミド等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。

（化合物の具体例） 以下に本発明方法を適用する化合物の具体例を示すが、
これらに限定されるものではない。

−数式（Ｉ−ａ）または（ｒ−ｂ）で表わされる化合物
の具体例を示す。なお、以下の構造式で（ｔ）Ｃ５Ｈ１
、は−Ｃ（ＣＨ３）　２Ｃ２Ｈ５を（ｔ）Ｃ８Ｈ１７は
−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２Ｃ：（ＣＨ３）３をそれぞれ表
わす。

（ｌ−７） Ｈ （Ｉ−１９） ＯＨ （Ｉ−２０） ＯＨ （Ｉ−２２） ＯＨ ＣＦ３ＣＯＮＨ 一〇 （Ｉ−２６） （Ｉ−２８） Ｈ ＯＭ ０Ｍ ｒ ０■ （Ｉ−３４） ｕ （［−３６） （Ｉ−３７） ０Ｍ Ｈ ＣＩ−４１） （Ｉ−４５） ＯＲ Ｈ Ｈ Ｈ Ｈ Ｌ；ｆ１３５（Ｊ２Ｎ１１ １Ｊ ＣＩ−５６） Ｈ １ｉ１Ｃ；４８ｇ０Ｌ；０Ｎｔｌ ＣＩ−５９） ０■ ＣＩ−６１） ＯＣ ｌ−６１）Ｏ ０Ｍ 。□　　　　　　　　（■−６“） （Ｉ−６５） ｕ （Ｉ−６６） ０Ｍ 一般式（ＩＩ）で表わされる化合物の具体例を示す。

（表つづき） （表つづき） （表つづき） （表つづき） （化合物の具体例） 以下に本発明を適用する化合物の具体例を示すが、これ
らに限定されるものではない。

−数式（ｍ−ａ）または（ｍ−ｂ）で表わされる化合物
の具体例を示す、なお、以下の構造式テ（ｔ）Ｃ５ｎ、
１は−Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ２Ｈ，を（ｔ）Ｃ８１１１７は
−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）、をそれでれ表わ
す。

（璽−１） ０甘 Ｈ Ｒ Ｈ Ｈ （厘−１２） Ｒ ５ＣＨ２ＣＯ２Ｃ４ＨｇｌｉＪ （Ｒ５ＣＨ２ Ｃ０２Ｃ４Ｈ ０Ｍ ｌ （夏−１７） Ｏｕ ０Ｍ Ｈ ０■ ０Ｍ Ｈ （Ｆ３（υＮｔｌ　　５ＬＩｎ２レリＬＪＬ、ｎ３ＣＩ
−２６） Ｒ （ＩＩ−２９） ＾Ｕ （夏−３３） ＡＭ し１！ｆｉｔｇ四 （Ｎ−３７） Ｒ Ｈ （璽−４３） ＣＩ−４５） Ｈ Ｈ ０甘 ＯＭ （夏−５０） ０甘 ０Ｍ ＣＨ３ＳＯｔＮＨ５ＣＨ２ＧＯ（４Ｈ１７１ｎｌ０Ｍ ＩＪ ０甘 Ｈ １１１Ｌ、４１’ｌｌりしυＮｎ　ｂＬＪ１２１．、υ
りし２１１Ｂ０Ｍ Ｈ ０Ｍ ＯＨ ｓｃｕｚｃｏｓａｃｔｉ２ｃｌｏｕｔ （発明の効果） 本発明によれば１−フェノールもしくはｌ−ナフトール
誘導体のようなフェノール化合物の４−位にアルキルチ
オ基を導入して目的の４−アルキルチオフェノール化合
物を低温で好収率で得ることができる。さらに本発明に
よれば合成工程が一工程で済み、工業的に実施する方法
として極めて好適である。

（実施例） 次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に゛説明する。

原料の製法（一般式（ｎ）で表わされる化合物の合成） 窒素気流下、対応するメルカプタン（１，０■ｇａｏｌ
）の塩化メチレン溶液に０℃にて塩化スルフリル（１，
１■■ｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴下し、１時間攪拌
する。さらに、室温にて３０分攪拌する。−圧下、０℃
にて溶媒および過剰の塩化スルフリルを留去する。残留
物に塩化メチレンを加え、一般式（ＩＩ）て表わされる
化合物の塩化メチレン溶液として反応に用いる。

実施例１（例示化合物ｍ−１の合成） 窒素気流下、化合物Ｉ−１（２４，０ｇ、４０■ｍｏｌ
）の塩化メチレン溶液に０℃にて化合物ｎ−６（１８，
３ｇ、１００謹■ｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴下し、
１時間攪拌する。さらに室温にて１２時間攪拌する。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンて
３回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水て洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサ
ン：酢酸エチル冨２：１）で精製すると化合物ｍ−１（
１２，０ｇ。

４０％）が得られた。

実施例２（例示化合物ｍ−７の合成） 窒素気流下、化合物Ｉ−７（６５，１ｇ、１００謹■ｏ
ｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃にて化合物Ｉｆ−８（
７１，４ｇ％３００■■ｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴
下し、１時間攪拌する。さらに室温にて６時間攪拌する
。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで
３回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水て洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝３：１）て精製すると化合物ｍ−７（
５９，８ｇ、■、９．１６３℃、７０％）が得られた。

実施例３（例示化合物ｍ−９の合成） 窒素気流下、化合物Ｉ−９（６３，３ｇ、１００謹■ｏ
ｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃にて化合物ｌｌ−３（
４６，２ｇ、３００謹■ｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴
下し、１時間攪拌する。さらに室温にて９時間攪拌する
。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで
３回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水で洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサ
ン：酢酸エチル＝３＝１）で精製すると化合物ｍ−９（
３６，０ｇ、ｍ、ｐ、２０３℃、４８Ｘ）が得られた。

実施例４（例示化合物Ｉ［［−１１の合成）窒素気流下
、化合物Ｉ−１１（４，４ｇｇ、５．９■ｍｏｌ）の塩
化メチレン溶液に、０℃にて化合物ｌｌ−１４（５，５
７ｇ、１４．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴下し
、１時間攪拌する。さらに室温にて８時間攪拌する。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで
３回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水で洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサ
ン：酢酸エチル−４：１）で精製すると化合物ｍ−１１
（２，５９ｇ、４０％）が得られた。　　　　゛ 実施例５（例示化合物ｍ−２５の合成）窒素気流下、化
合物ｌ−２５（特開昭６０−２３７４４８号に記載の合
成法に従い合成した。

５．１９ｇ、１０．０■■ｏｌ）の塩化メチレン溶液に
、室温にて化合物ｎ−６（４，５１ｇ、２４．６臘鳳ｏ
１）の塩化メチレン溶液を滴下し、１時間攪拌する。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで
３回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水で洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、メ
タノ、−ルより再結晶すると化合物ｍ−２５（５，６５
ｇ％謹、９．１６２℃。

８５％）が得られた。

実施例６（例示化合物ｍ−２６の合成）窒素気流下、化
合物ｌ−２６（特開昭６０−２３７４４８号に記載の合
成法に従い合成した。

５．５５ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に
、０℃にて化合物■−３（３，１ｇ、０．０２■−ｏｌ
）の塩化メチレン溶液を滴下し、１時間攪拌する。さら
に室温にて１時間攪拌する。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで
３回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水で洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、メ
タノールより再結晶すると化合物ｍ−２６（５，９９ｇ
、ｍ、ｐ、１４９℃、８９％）が得られた。

実施例７（例示化合物■−５６の合成）窒素気流下、化
合物ｌ−５６（１０，６ｇ。

２０．１■−ｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃にて化
合物ｌｌ−３（６，１６ｇ％４０．０ｍｍｏｌ）の塩化
メチレン溶液を滴下し、１時間攪拌する。さらに室温に
て６時間攪拌する。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで
３回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水で洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、ア
セトニトリルから再結晶すると化合物ｍ−５８（１０，
０ｇ、ｍ、ｐ、１２０℃、７７％）が得られた。

比較例１（例示化合物■−５６の合成）窒素気流下、化
合物ｌ−５６（５２，８ｇ。

０．１ｍｏｌ）の塩化メチレン（５００ｍ）溶液に室温
にて二塩化二イオウ（６，８０ｇ、０．０５■ｏｌ　）
を加え１２時間加熱還流する。冷却後水を加え、塩化メ
チレンにて２回抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝４
：ｌ）で精製すると、目的とするジスルフィド体は得ら
れず原料回収に終った。このように二塩化二イオウを用
いる従来法により例示化合物ｍ−５ｓを合成することは
不可能でありた。

比較例２（例示化合物ｍ−５６の合成）窒素気流下、４
−ブロモ−５−イソブトキシカルボニルアミノ−２−（
３−ドデシルオキシプロピルアミノカルボニル）−１−
ナフトール（６０，８ｇ、０．１０ｍｏｌ　）のキノリ
ン（２００１ｎｌｉ）溶液に室温にて２−メトキシカル
ボニルメタンチオールの銅メルカプチド（１８，５ｇ、
　０．１１ｍｏｌ　）のピリジン（ｌ　Ｏ′ＷＩｌ）溶
液を加え、８０℃にて１時間加熱攪拌する。

冷却後０．１規定塩酸を加え酢酸エチルで３回抽出する
。有機層を飽和食塩水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝４：１
）で精製すると、５−イソブトキシカルボニルアミノ−
２−（３−ドデシルオキシプロビルカルバモイル）−１
−ナフトール（４８，０ｇ、９１％）が得られた。この
ように４位のハロゲン原子の還元が進行するために銅メ
ルカプチドを用いる合成法により例示化合物ｌｌｌ−５
６を合成することは不可能であった。

比較例３（例示化合物（■）の合成） 窒素気流下、化合物ｌ−５６（１０，６ｇ、２０．１■
ｊｏｌ）の塩化メチレン溶液に、０℃にて、β−メルカ
プトプロピオン酸メチルのスルフェニルクロリド（４８
，０ｇ、４０．０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液を滴下
し１時間攪拌する。さらに室温にて６時間攪拌する。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え塩化メチレンて３
回抽出する。有機層を水、次に飽和食塩水で洗い無水硫
酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）で精製すると化合物（■’）（０
，１３ｇ、鵬、ｐ、　１２０℃、１％）が得られた。

比較例３より、β−メルカプトプロピオン酸メチルのス
ルフェニルクロリドは不安定なために目的物（■）の収
率が低いと考えることができる。

これに対し実施例７では化合物ｎ−３が比較的安定であ
るために取り扱いが容易であり、かつ十分な反応性を持
っているため、化合物ｌ−５６と反応し、高収率でｍ−
５ａが得られた。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I −ａ）または一般式（ I −ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ で表わされるフェノール化合物と一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるアルキルスルフェニルクロリドとを反応さ
   せて 一般式（III−ａ）または一般式（III−ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ で表わされる４−アルキルチオ置換フェノール化合物を
   得ることを特徴とする４−アルキルチオ置換フェノール
   化合物の製造方法。 （式中、Ｒ＿１は芳香族環に置換可能な基を示し、フェ
   ノール及びナフトールの４位以外の位置に置換する。ｍ
   は０から４までの整数を示し、ｎは０から６までの整数
   を示し、Ｒ＿２及びＲ＿３は水素原子、アルキル基、ア
   リール基またはアラルキル基を示し、Ｙはアルキル基、
   アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキ
   ルチオ基、アリールチオ基または置換アミノ基を示す。 ）