JPH01174521A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPH01174521A
JPH01174521A JP33508787A JP33508787A JPH01174521A JP H01174521 A JPH01174521 A JP H01174521A JP 33508787 A JP33508787 A JP 33508787A JP 33508787 A JP33508787 A JP 33508787A JP H01174521 A JPH01174521 A JP H01174521A
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JP
Japan
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resin composition
photosensitive resin
acid
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sensitizer
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JP33508787A
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Katsushige Tsukada
塚田 勝重
Kenji Hattori
健治 服部
Katsunori Tsuchiya
勝則 土屋
Tadashi Fujii
正 藤井
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
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    • H05K3/285Permanent coating compositions
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは印刷配
線板製造、金属精密加工等に使用し得る保護膜形成用の
感光性樹脂組成物に関する。
(従来の技術) 従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク、化学め
っき用レジスト等に使用可能な優れた特性を有する感光
性樹脂組成物が知られている。ソルダマスクの主な目的
は、はんだ付は時のはんだ付は領域を限定し、はんだブ
リッジ等を防ぐこと、裸の銅導体の腐食を防止すること
及び長期にわたって導体間の電気絶縁性を保持すること
である。
通常、ソルダマスクとしては、エポキシ樹脂、アミノプ
ラスト樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする印刷マスク
が用いられる。
しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり、また導
体間の電気絶縁性の要求も厳しくなり、それに用いるソ
ルダマスクも厚膜で寸法精度の優れたものが要求される
ようになり、スクリーン印刷方式のものでは対処できな
くなっている。
そこで写真法(像状露光に続く現像により画像を形成す
る方法)で厚膜(通常導体上25μmが望まれている)
で、かつ寸法精度の優れた高信頼性のソルダマスクを形
成する感光性樹脂組成物の出現が望まれている。
従来、ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としては、
アクリル系ポリマー及び光重合性モノマ □−を主成分
とする感光性樹脂組成物(特開昭53−56018号公
報、特開昭54−1018号公報等)が知られている。
しかしながら、これらの感光性樹脂組成物にはフィルム
性付与のためアクリル系ポリマーを多量に使用している
ため、硬化皮膜の耐熱性が十分でないという欠点がある
一方、耐熱性の良好な感光性樹脂組成物として主鎖にカ
ルコン基を有する感光性エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂
硬化剤を主成分とする組成物(特開昭54−82073
号公報、特開昭58−62636号公報等)が提案され
ている。しかし、これら光二量化型感光性樹脂組成物は
感度が低いため厚膜のレジスト形成が困難であり、更に
、現像液としてシクロヘキサノン等の可燃性有機溶剤を
使用する必要があるため、安全上も好ましくない。
厚膜硬化可能なソルダマスク形成用感光性樹脂組成物と
しては、エポキシ基を含有するノボラック型エポキシア
クリレート及び光重合開始剤を主成分とする組成物(特
開昭61−272号公報等)が提案されている。これら
の組成物は耐熱性も優れており、有用であるが、現像液
として1,1゜1−トリクロルエタン/低級アルコール
混合液を用いる必要があり、現像液管理に問題がある。
また、1,1.1−)リクロルエタンの使用は地下水汚
染の恐れがあり、環境保全上好ましくない。
安全性及び経済性に優れたアルカリ水溶液で現像可能な
ソルダマスク形成用感光性樹脂組成物としてはカルボキ
シル基含有ポリマー、単量体、光重合開始剤及び熱硬化
性樹脂を主成分とする組成物(特開昭48−73148
号公報、時開軸57−178237号公報、特開昭58
−42040号公報、特開昭59−151152号公報
等)が知られている。これらの組成物では、熱硬化性樹
脂としてエポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂等が用
いられ、トリグリシジルイソシアヌレート等、有機溶剤
に不溶性のエポキシ樹脂を分散使用する例も開示されて
いる。しかし、これらの組成物は解像度、耐溶剤性、吸
湿時の半田耐熱性等の特性が必ずしも充分とはいえない
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し、安全性
及び経済性に優れたアルカリ水溶液により現像でき、か
つ解像度及び吸湿時の半田耐熱性にも優れた高信頼性ソ
ルダマスクを形成することのできる感光性樹脂組成物を
提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、 (a)アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不溶性
である高分子結合剤、 (b)トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有
モノカルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.9〜
1.05の範囲として付加反応させて得られる不飽和化
合物、 (C)アミノ樹脂及び (d)活性光線の照射により遊、離ラジカルを生成する
増感剤及び/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
本発明になる感光性樹脂組成物は、必須成分(a)とし
てアルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不溶性であ
る高分子結合剤を含有する。このような高分子結合剤は
既に公知であり、カルボキシル基、無水カルボン酸基、
スルホン酸基、スルホンアミド基等のアルカリ可溶性付
与基を有する高分子結合剤が使用される。これらは例え
ば、特開昭59−151152号公報、特開昭58−4
2040号公報、特開昭48−73148号公報等に記
載される。
好ましい高分子結合剤としては、例えばメタクリル酸、
アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、無水マレイン酸
からなる群から選ばれる不飽和基を1個有するカルボン
酸又は酸無水物とビニル単量体との共重合体を挙げるこ
とができる。
共重合されるビニル単量体の例としては、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、アク
リル酸ブチル、2−エチルへキシルメタクリレート、2
−エチルへキシルアクリレート、α−メチルスチレン、
ビニルトルエン、2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、テトラフル
オロプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメ
タクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、2
.3−ジブロモプロピルメタクリレート、アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、ブタジェン等を挙げることがで
きる。
特に好ましい高分子結合剤の例としては、メチルメタク
リレート/エチルアクリレート/メタクリル酸共重合体
、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリ
ル酸共重合体、メチルメタクリレート/メタクリ、ル酸
ブチル/2−ヒドロキシエチルアクリレート/メタクリ
ル酸ブチル/メタクリル酸共重合体、メチルメタクリレ
ート/トリブロモフェニルアクリレート/メタクリル酸
共重合体等を挙げることができる。これらの高分子結合
剤はカルボキシル基含有量が20〜50モル%であるこ
とが好ましい。
本発明になる感光性樹脂組成物は、必須成分(b)とし
て、トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有モ
ノカルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.9〜1
.05の範囲として付加反応させて得られる不飽和化合
物を含有する。トリグリシジルイソシアヌレートは公知
の化合物であり、商業的にも入手可能であり、例えば日
照化学工業■が製造販売しているTEP I C−3S
TEP IC−GSTEP I C−P等を使用するこ
とができる。不飽和基含有モノカルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸等が用いられる。
本発明において、トリグリシジルイソシアヌレートと不
飽和基含有モノカルボン酸との付加反応は酸当量/エポ
キシ当量比を0.9〜1.05の範囲として常法により
行われる。酸当量/エポキシ当量比が0.9未満ではイ
メージ露光後の現像処理により光硬化被膜が膨潤しやす
く、また、酸当量/エポキシ当量比カ月、05を超える
場合には、密着性、半田耐熱性等の特性が低下する。
本発明の感光性樹脂組成物は、アミノ樹脂を必須成分(
c)として含有する。
本発明においてアミノ樹脂とは、メラミン、尿素、ベン
ゾグアナミン等のアミノ基含有化合物にアルデヒドを反
応させて得られる初期縮合物であり、例としてはトリメ
チロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ヘキサ
メチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、
ヘキサブトキシメチルメラミン、N、N’ −ジメチロ
ール尿素、三井東圧すイメル社製メラミン樹脂(サイメ
ル300、サイノル301.サイメル303、サイメル
325、サイノル350等)、日立化成工業■製メラミ
ン樹脂(メラン523、メラン623、フラン2000
等)、日立化成工業■製尿素樹脂(フラン18等)、日
立化成工業■製ベンゾグアナミン樹脂(フラン362A
等)等が挙げられる。
特に好ましいアミノ樹脂としては、ヘキサメトキシメチ
ルメラミン及びメラミン樹脂が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線の照射により遊
離ラジカルを生成する増感剤及び/又は増感剤系を必須
成分(d)として含有する。
増感剤としては、置換又は非置換の多核キノン類、例え
ば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアント
ラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.2−ベン
ズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン
等、ジアセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、ベ
ンゾイン、ビバロン等のα−ケタルドニルアルコール類
及びエーテル類、α−炭化水素置換芳香族アシロイン類
、例えばα−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェトキ
シアセトフェノン等、ベンゾフェノン、4゜4′−ビス
ジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、
2−メチルチオキサントン、2゜4−ジエチルチオキサ
ントン、2−クロルチオキサントン、2−イソプロピル
チオキサントン、2−エチルチオキサントン等のチオキ
サントン類、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フ
ェニル〕−2−モルホリノ−プロパノン−1が用いられ
、これらは単独でも、組み合わせて使用してもよい。
増感剤系としては、例えば2.4.5−)リアリルイミ
ダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール、ロ
イコクリスタルバイオレット、トリス(4−ジエチルア
ミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組み合わせが
用いられる。また、それ自体で光開始性はないが、前記
物質と組み合わせて用いることにより全体として光開始
性能のより良好な増感剤系となるような添加剤、例えば
、ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の三
級アミン、チオキサントン類に対するジメチルアミノ安
息香酸イソアミル、N−メチルジエタールアミン、ビス
エチルアミノベンゾフェノン等を用いることもできる。
本発明の感光性樹脂組成物は、上記の高分子結合剤(a
)100重量部に対し不飽和化合物(b)を40〜38
0重量部、アミノ樹脂(C)を10〜60重量部、増感
剤及び/又は増感剤系(d)を0.1〜40重量部の範
囲で用いることが、解像度、半田耐熱性及び耐煮沸性に
優れたソルダマスクを形成する上で好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、上記不飽和化合物に加え
て、他の不飽和化合物を含有してもよい。
他の不飽和化合物としては、例えばトリメチロールプロ
パン、トリメチロールエタン、ペンタエリトリット、ジ
ペンタエリトリット、1.3−ブチレングリコール、1
.4−ブチレングリコール、1.5−ベンタンジオール
、ポリカプロラクトンジオール、ポリプロピレングリコ
ール、デカメチレングリコール、グリセリン、ネオペン
チルグリコール、2,2−ビス(4,4’ −(2−ヒ
ドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン、トリス(2−
ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸等の多価アルコール
とアクリル酸又はメタクリル酸とのエステル、無水フタ
ル酸−ジエチレングリコール−アクリル酸(1/2/2
のモル比)縮合物、トリメチロールプロパン−テトラヒ
ドロ無水フタル酸−アクリル酸(2/1/4モル比)縮
合物等の末端にアクリロイルオキシ基及び(又は)メタ
クリロイルオキシ基を有する低分子ポリエステル樹脂等
が挙げられる。特公昭52−43092号公報等に記載
されているジオールモノアクリレート又はジオールモノ
メタクリレートとジイソシアネートとの反応生成物、特
開昭57−55914号公報等に記載されているジオー
ルモノアクリレート/2価アルコール/トリメチルへキ
サメチレンジイソシアナート反応物、イソシアナートエ
チルメタクリレート/水(2/1モル比)反応物、1.
6−ヘキサンジオールジアクリレート/モノエタノール
アミン(3/2モル比)反応物等を用いることもできる
更に、本発明の感光性樹脂組成物は、微粒状充填剤を含
有してもよい。
微粒状充填剤としては、例えばタルク、シリカ、酸化チ
タン、クレイ、炭酸カルシウム、含水珪酸、水酸化アル
ミニウム、アルミナ、硫酸バリウム、三酸化アンチモン
、炭酸マグネシウム、マイカ粉、珪酸アルミニウム、珪
酸マグネシウム等が用いられる。微粒状充填剤の粒径は
、解像度、硬化被膜の密着性等の低下防止の点から、好
ましくは0.01〜10um1より好ましくは0.01
/1.5μmt’ある。微粒状充填剤は感光性樹脂組成
物中に均一に分散されていることが好ましい。充填剤と
前記光重合性不飽和化合物との間の接着力を増すために
、充填剤の表面を、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビ
ニル基等の官能基を有するシランカップリング剤で処理
することもできる。シランカップリング剤としては、例
えばT−アミノプロピルトリエトキシシラン、β−アミ
ノエチル−T−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドオキシプロビルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ
る。
更に、本発明になる感光性樹脂組成物は、他の副次的成
分を含有していてもよい。副次的成分としては、p−メ
トキシフェノール等の熱重合防止剤、ベンゾトリアゾー
ル、5−アミノ−1,3゜4−チアジアゾール−2−チ
オール、5−メルカプト−LH−1,2,4−)リアゾ
ール等の密着性向上剤、フタロシアニングリーン等の顔
料、二酸化アンチモン等の難燃剤、エポキシ樹脂の潜在
性硬化剤等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、デイツプコート法、ロー
ルコート法、フローコート法、スクリーン印刷法等の常
法により、加工保護すべき基板上に直接塗工し、厚さ1
0〜150μmの感光層を容易に形成することができる
。塗工にあたり、必要ならば組成物を溶剤に溶解させて
行うこともできる。溶剤としては、例えばメチルエチル
ケトン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテート、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
塩化メチレン、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル等を挙げることができる。
こうして形成された感光層の露光及び現像は、常法によ
り行われる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高圧
水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接又はポ
リエチレンテレフタレートフィルム等の透明フィルムを
介し、ネガマスクを通して像状に露光する。露光後、透
明フィルムが残っている場合には、これを剥離した後現
像する。
現像処理に用いられる現像液としては、アルカリ水溶液
が用いられ、その塩基としては、リン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウム等のアルカリ金属リン酸塩、炭酸ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩等が例示でき、特に炭酸ナト
リウムの水溶液が好ましい。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常のエツチ
ング、めっき等のための耐食膜としての特性を持ってい
るが、現像後に80〜200°Cで加熱処理を行うこと
により、密着性、耐熱性、耐溶剤等の特性を向上でき、
ソルダマスクとしての特性を満足する永久的な保護膜が
得られる。
(実施例) 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、本発明は
これに限定されるものではない、なお、例中「部」は特
に断らない限り「重量部」を意味する。
実施例1 (a)不飽和化合物(b)の合成 A、TEP IC−G (日照化学工業■ 1100部
製トリグリシジルイソシアヌレート、 エポキシ基当量110) B、アクリル酸           720部p−メ
トキシフェノール      1部C,プロピレングリ
コールモノメチ 527部ルエーテルアセテート 温度計、撹拌装置、冷却管及び滴下器の付いた加熱及び
冷却可能な22の反応器に、前記Aを加え、撹拌しなが
ら140℃に昇温し、均一に溶解させた後、110°C
に冷却し、反応温度を110°Cに保ちながら1時間か
けて均一にBを滴下した。
Bの滴下後、110°Cで約10時間撹拌を続け、反応
系の酸価を1以下にした後、Cを添加し、不揮発分7−
8重量%のトリグリシジルイソシアヌレート/アクリル
酸(酸当I/エポキシ当量比=1)不飽和化合物の溶液
(1)を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた不飽和化合物の溶液(り36部(不揮
発分28部)、APG700(新中村化学製ポリプロピ
レングリコールジアクリレート)14部、ヘキサメトキ
シメチルメラミン10部、メタクリル酸メチル/アクリ
ル酸n−ブチル/メタクリル酸(7015/25重量比
)共重合体(分子量約8万、カルボキシル基含有量27
モル%)45部、2−メチル−1−(4−(メチルチオ
)フェニルツー2−モノホリノ−プロペン−1,8部、
2−イソプロピルチオキサントン0.8部、5−アミノ
−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール0.1部
及びプロピレングリコールモノメチルエーテル230部
を配合し、均一に撹拌溶解して本発明の感光性樹脂組成
物の溶液を調製した。
(c)硬化被膜の形成 (b)で得られた感光性樹脂組成物の溶液を銅張り積層
板状に塗布し、室温で20分、80℃で20分間乾燥し
、厚さ40μmの感光層を形成した0次いで、ネガマス
クを通してオーク製作所■製フェニックス3000型露
光機を用い、400mJ/cdで露光した。露光後、8
0℃で5分間加熱し、常温で30分放置した後、1%炭
酸ナトリウム水溶液を用いて、30℃で60秒間スズレ
ー現像し、直ちに60秒間スプレー水洗した。次いで1
50℃で30分間加熱処理して、ネガマスクに相応する
寸法精度の優れたソルダマスクを得た。
このソルダマスクは吸湿後の半田耐熱性に優れ、沸騰水
に1時間浸漬後、ロジン系フランクA−226(タムラ
化研■製)を用いて260℃で60秒間半田処理しても
マスクの剥がれ、フクレは認められなかった。更に、こ
のソルダマスクは耐溶荊性にも優れ、塩化メチレン/メ
タノール(3/1重量比)混合溶剤に25°Cで10分
間浸漬しても被膜の膨潤や剥がれは認められなかった。
また、この感光性樹脂組成物は貯蔵安定性に優れ、40
℃で3週間以上安定であった。
実施例2 (a)エポキシ基含有不飽和化合物(b)の合成A、T
EP IC−3(0産化学工業■ 1050部製トリグ
リシジルイソシアヌレート、 ユポキシ基当量105) B、メタクリル酸         860部p−メト
キシフェノール      1部C,プロピレングリコ
ールモノメチ 494部ルエーテルアセテート A−Cを用い、その他は実施例1(a)と同様にして、
不揮発分80重量%のトリグリシジルイソシアヌレート
/メタクリル酸(酸当量/エポキシ当量比−1,0)系
エポキシ基含有不飽和化合物の溶液(n)を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた不飽和化合物の溶液(n)26部(不
揮発分20部)、日立化成工業■製FA731A((2
−ヒドロキシエチル)イソシアヌール酸トリアクリレー
ト〕24部、ヘキサメトキシメラミン5部、メタクリル
酸メチル/テトラヒドロフ′ルフリルメタクリレート/
2−ヒドロキシエチルメタクリレート/メタクリレート
酸(58/10/7/25重量比)共重合体(分子量約
5万、カルボキシル基含有量29モル%)40部、2−
メチル−1−・〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−
モルホリノ−プロペン−1,8部、2.4−ジメチルチ
オキサントン0.8部、5−アミノ−1,3,4−チア
ジアゾール−2−チオール0.1部及びプロピレングリ
コールモノメチルエーテル240部を撹拌溶解して、本
発明の感光性樹脂組成物の溶液を調製した。以下、実施
例1(C)と同様にして、耐熱性に優れた硬化被膜が得
られた。また、貯蔵安定性も実施例1と同様に優れてい
た。
実施例3 (a)エポキシ基含有不飽和化合物(b)の合成A、T
EPIC−31050部 B、アクリル酸          360部メタクリ
ル酸         430部p−メトキシフェノー
ル      1部C,プロピレングリコールモノメチ
 456部ルエーテルアセテート A−Cを用い、その他は実施例1(a)と同様−にして
、不揮発分80重量%のトリグリシジルイソシアヌレー
ト/アクリル酸/メタクリル酸系(酸当量/エポキシ当
量比= 1.0 )エポキシ基含有不飽和化合物の溶液
(I[)を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製 (a)で得られた不飽和化合物の溶液(I)12.5部
(不揮発分10部)、FA731A、33部、APG7
00 14部、サイメル325.10部、メタクリル酸
メチル/アクリル酸ブチル/メタクリル酸(60/20
/20重量比)共重合体(分子量約8万、カルボキシル
基含有量24モル%)40部、2−メチル−1−(4−
(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロペン
−1,8部、2.4−ジメチルチオキサントン0、8部
、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾールー2−チオ
ール0.1部及びプロピレングリコールモノメチルエー
テル250部を撹拌溶解して、本発明の感光性樹脂組成
物を得た。
以下、実施例1(c)と同様にして、耐熱性に優れた硬
化被膜が得られた。貯蔵安定性も実施例1と同様に優れ
ていた。
実施例4 メタクリル酸メチル/トリブロモフェニルアクリレート
/2−ビトロキシエチルメタクリレート/メタクリル酸
(64/1015/21重量比)共重合体(分子量約3
万、カルボキシル基含有量20モル%)35部を7”ロ
ピレングリコールモノメチルエーテル80部及びキシレ
ン40部に溶解し、これに三酸化アンチモン2部、ミク
ロエースP−4(日本タルク製タルク、平均粒径1.5
μm)10部及びフタロシアニングリーン1部を配合し
、三本ロールを用いてフィラー分散液を調製した。
次に、実施例1(a)で得られたエポキシ基含有不飽和
化合物の溶液(I)36部(不揮発分27部)、FA7
31A、20部、メラン523.10部、2−メチル−
1−(4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ
−プロペン−1,8部、4.4’ −ビスジエチルアミ
ノベンゾフェノン0.8部及びプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル20部を撹拌溶解し、次いで上記フィ
ラー分散液167部を配合し、撹拌分散して本発明の感
光性樹脂組成物を得た。以下、実施例1(a)と同様に
して、耐熱性に優れた硬化被膜が得られた。
実施例より明らかなように、本発明の感光性樹脂組成物
を用いることにより、写真法による厚膜の画像形成が可
能であり、また、アルカリ水溶液を用いて、解像度及び
耐熱性に優れた高信頬性のソルダマスクを形成すること
ができる。
(発明の効果) 本発明の感光性樹脂組成物を用いることにより、安全性
及び経済性に優れたアルカリ水溶液により現像でき、か
つ解像度及び吸湿時の耐熱性にも優れた高信幀性のソル
ダマスクを形成することができる。しかも、本発明の感
光性樹脂組成物を用いれば、写真法により厚膜のソルダ
マスクを形成することもできる。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保護
被膜は塩化メチレン、メタノール、トリクレン、メチル
エチルケトン、イソプロピルアルコール、トルエン等の
有機溶剤に十分耐え、酸性水溶液にも耐える。更に、こ
の保護被膜は耐熱性や耐冷熱衝撃性等の機械的特性にも
優れているため、ソルダマスク等の永久的な保護膜とし
て充分な特性を有するものである。
更に、本発明の感光性樹脂組成物を用いて得られる保護
被膜は、優れた化学的及び物理的特性を有し、このため
多層印刷配線板の眉間絶縁層、感光性接着剤、塗料、プ
ラスチックレリーフ、印刷版材料、金属精密加工材料等
にも使用することができる。
代理人 弁理士 若 林 邦 彦

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不
    溶性である高分子結合剤、 (b)トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和基含有
    モノカルボン酸とを酸当量/エポキシ当量比を0.9〜
    1.05の範囲として付加反応させて得られる不飽和化
    合物、 (c)アミノ樹脂及び (d)活性光線の照射により遊離ラジカルを生成する増
    感剤及び/又は増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物。 2、アルカリ水溶液に可溶性であり、かつ水に不溶性で
    ある高分子結合剤がメタクリル酸、アクリル酸、イタコ
    ン酸、クロトン酸及び無水マレイン酸からなる群から選
    ばれるカルボン酸又は酸無水物とビニル単量体との共重
    合体である特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂組成
    物。 3、アミノ樹脂がメラミン樹脂である特許請求の範囲第
    1項又は第2項記載の感光性樹脂組成物。 4、アミノ樹脂がヘキサメトキシメチルメラミンである
    特許請求の範囲第1項又は第2項記載の感光性樹脂組成
    物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6555290B1 (en) 1995-04-19 2003-04-29 Hitachi Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same

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