JPH01166328A

JPH01166328A - 拭取装置

Info

Publication number: JPH01166328A
Application number: JP32370887A
Authority: JP
Inventors: Fumihiko Sawase; 沢瀬　文彦; Shinichi Kaneko; 真一金子; Hiromitsu Tatemichi; 立道　博光
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi High Tech Corp
Priority date: 1987-12-23
Filing date: 1987-12-23
Publication date: 1989-06-30

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、拭取装置に係り、特に物体に液体等を塗布し
た後、余分の付着物を拭き取るに適した拭取装置に関す
る。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体に潤滑剤を塗布する場合を例として述べる
。磁気ディスクは、通常アルミ等の基板上に磁性膜がコ
ーティング、スパッタリング等の方法で形成されたもの
である。磁気ディスク装置は、磁気ディスクを高速回転
させ、この磁気ディスク上を磁気ヘッドが浮上し、磁気
ディスクに対して情報の記録／再生を行う装置である。

それ故。

磁気ヘッドは、磁気ディスクの回転開始及び停止時には
、磁気ディスクと接触する。そこで、磁性膜及び磁血ヘ
ッドの摩耗損傷を防止するため、磁気ディスクには廁滑
剤が塗布されている。

磁気ディスクに潤滑剤を塗布する方法は、特開昭５７−
９４９３２号に記載のように、フレオン等の溶剤に潤滑
剤を溶解した溶液に磁気ディスクを浸漬し、引き上げス
ピードを制御しながら磁気ディスクを引き上げ、磁気デ
ィスク面に所定の膜厚の潤滑剤膜を形成する方法が行わ
れている。磁気ディスクを生産性良く効率的に製造する
ためには、多数枚の磁気ディスクを同時に把持して、潤
滑剤塗布を行うことが一般的である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術は、磁気ディスク外周部の潤滑剤塗布が不
均一になるということについては配慮されていなかった
。これについて第２図を用いて説明する。

第２図Ａに示すように、モータ６の回転によりベルト７
を介して駆動軸５を回転する。駆動軸５の上部にはボー
ルネジが切っである。従ってマガジン２を支持するマガ
ジン支持部４は上下に移動することができ、これが下降
すると潤滑剤溶液を有する浴槽８内へ磁気ディスク１を
浸漬する。所定時間後、低速でマガジン支持部４を上昇
させることにより、潤滑剤を磁気ディスクに均一に塗布
することができる。また、第２図Ｂに示すように。

磁気ディスク１は支持部３に支持されて、多数枚が同時
に処理されることにより、生産性は向上する。しかし、
磁気ディスク１と支持部３の接触部に潤滑剤のたまり９
が発生し、磁気ディスク１の端面部に潤滑剤が付着する
。この付着した潤滑剤は、経時変化とともに、周囲に拡
散するため、磁気ディスク１の表面外周部の潤滑剤膜厚
の不均一さの原因となり、この部分の摩擦係数が不均一
となる。そのため、正常なヘッド浮上が不可能となると
いう問題があった。

本発明の目的は、被処理部材に不均一に付着する付着物
を拭き取るための拭取装置を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、被処理部材を回転させる回転手段と、該回
転手段により回転する上記被処理部材の所望の部分に、
弾性体を支持体として吸収材を実質的に更新しながら接
触させる拭取手段とを有することを特徴とする拭取装置
によって達成される。

弾性体よりなる支持体は、被処理部材の所定の部分の付
着物を拭き取るために、その部分に対応する所定の形状
であることが好ましい６例えば、前記磁気ディスク等の
円板状のものの潤滑剤拭き取りの場合は、支持体の形状
は、磁気ディスクの端面の形状に対応し、ｊＪｌつ磁気
ディスクの記録面に拭き取り用吸収材が当たらない形状
とすることが好ましい、また、磁気ディスクの内径寸法
と、回転手段の磁気ディスクと接する部分の寸法とは多
少差がある場合もあり、磁気ディスクが偏心して回転す
る。そのため１弾性体よりなる支持体は、さらにバネに
よって支持される構造をとることが好ましい。

吸収材としては、布１紙、スポンジ状材料等が用いられ
、連続体１例えばテープ状の形状であることが好ましい
、また、このようなテープ状の吸収材を、被処理部材の
回転方向と逆の方向に走行させると、常に新しい吸収材
が被処理部材に当たるので好ましい。

磁気ディスクの潤滑剤は、液体状、ワックス状など種々
の形状のものがあるが、通常溶解し、溶液として磁気デ
ィスクに塗布し、また液体状のものはそのまま塗布する
こともある。このような溶液、液体又は溶剤が揮発して
ワックス状等になった付着物でも、本発明の装置により
拭き取りが可能である。

〔作用〕

前記磁気ディスクの端面部の潤滑剤拭き取りの場合、潤
滑剤付着の必要な磁気ディスク表面（記録面）の潤滑剤
は拭き取らずに端面部の不均一な潤滑剤を拭き取るため
、磁気ディスクへの潤滑剤塗布が均一になる。また吸収
材の常に新しい部分が磁気ディスクに当たるため、良好
な拭き取りが行われる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。

第１図Ａで１は磁気ディスク、１１は磁気ディスクを支
持する支持回転体、１２は装置基板部、１３はモータ、
　１４は拭取ユニット、１５は拭取ユニットのガイド、
１６は駆動エアシリンダーである。磁気ディスク１を支
持回転体１１に固定、モータ１３によって回転させ、駆
動エアシリンダー１６によって拭取ユニット１４を前進
させ、拭取作業を行う。その状態を第１図Ｂに示す、　
１７．２２は弾性支持体（ゴムなど）、　１８．２３は
弾性支持体ブロック、１９．２４はバネ、２０．２５は
ガイド捧、２１は拭取布供給リール、２６は拭取布巻取
リール、２７は拭取布（テープ）。

２８はガイドローラである。磁気ディスク１を時計方向
に回転させ（約３０Ｏｒｐｍ）、拭取ユニット１４を前
進させる。拭取布２７は１弾性支持体１７及び２２の形
状に似たカーブで磁気ディスク１に接触する。

この時、拭取布２７は、磁気ディスク１の回転方向と対
向する方向に走行（約１００ｍ５＋／ｍ１ｎ）　Ｌｔ、
磁気ディスク１の端面に付着している潤滑剤を３〜８秒
で拭き取ることができる。この時、磁気ディスク１の偏
心回転に対しては、拭取布２７及び弾性支持体１７．２
２は、バネ１９．２４によって、ならう構造となってい
るため、均一な拭き取りが可能となる。

拭き取り時のバネ荷重は５００ｇ〜９００ｇが適当であ
る。また、拭取布２７は、拭き取り時中、常に新しい布
が磁気ディスク１に接触するよう、使い捨て方式となっ
ている。第１図（Ｃ）では磁気ディスク１と拭取布２７
と弾性支持体１７を拡大した概略断面図を示している。

第１図（Ｃ）では、磁気ディスク１の上面の面取部２９
を拭き取る弾性支持体１７を示しているが、第１図（Ｂ
）に示す弾性支持体２２により、下面の面取部３０を拭
き取ることができる。

磁気ディスクの回転は２００〜５００ｒｐｍ、拭取布の
走行は５０〜３００ｍｍ／ｗｉｎであることが好ましい
、なお、弾性支持体１７．２２は１個でも拭き取りが可
能である。

また本発明は、磁気ディスクの他に光デイスク等円板状
材料を処理することができる。

〔発明の効果〕

本発明の拭取装置は、例えば磁気ディスクの潤滑剤塗布
時に、その端面部の余分な潤滑剤を拭き取り、均一な潤
滑剤塗布を行うことができる。また効率的な潤滑剤塗布
が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の拭取装置の概略構成図、
第２図は潤滑剤塗布装置の概略構成図である。１・・・磁気ディスク　　　２・・・マガジン３・・・
支持部　　　　　　４・・・マガジン支持部５・・・駆
動軸　　　　　　６・・・モータ７・・・ベルト　　　
　　　８・・・浴槽９・・・潤滑剤のたまり　　１１・
・・支持回転体１２・・・装置基板部　　　　１３・・
・モータ１４・・・拭取ユニット　　　１５・・・ガイ
ド１６・・・駆動エアシリンダー１７、２２・・・弾性支持体１８、２３・・・弾性支持体ブロック１９、２４・・・バネ　　　　　２０．２５・・・カイ
ト棒２１・・・拭取布供給リール　２６・・・拭取布巻
取リール２７・・・拭取布　　　　　　２８・・・ガイ
ドローラ２９、３０・・・面取部代理人弁理士　　中　村　純之助

Claims

【特許請求の範囲】

１、被処理部材を回転させる回転手段と、該回転手段に
より回転する上記被処理部材の所望の部分に、弾性体を
支持体として吸収材を実質的に更新しながら接触させる
拭取手段とを有することを特徴とする拭取装置。