JPH0283822A - 磁気ディスク媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 コンピュータシステムにおけるファイル装置として使用
される。磁気ディスク装置の、磁気ディスク媒体及びそ
の製造方法に関し。

磁気ディスク媒体の耐摩耗性を維持しながら。

磁気ヘッドの吸着及び汚れを解消し、磁気ディスク装置
の信幀性を向上することを目的とし。

磁気ディスク媒体の、ｌ気ヘッド浮上保証領域より内周
側の部分にのみ、飽和吸収量以上の潤滑剤を塗布するよ
うに構成し、 また、磁気ディスク媒体に、潤滑剤を飽和吸収量以上に
塗布し。

拭き取り部材を用いて、磁気ディスク媒体の磁気ヘッド
浮上保証領域と、該領域よりも外周側部分との潤滑剤を
拭きとり。

磁気ディスク媒体の、磁気ヘッド浮上保証領域よりも内
周側部分に、飽和吸収量以上の潤滑剤が残るようにして
製造する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、コンピュータシステムにおけるファイル装置
として使用される。磁気ディスク装置の。

磁気ディスク媒体及びその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

磁気ディスク媒体は、耐摩耗性を高めるため５その表面
に潤滑剤が塗布されている。

第９図は、デイツプ法による潤滑剤塗布方法を説明する
図である。

この方法は、まず磁気ディスク媒体を、潤滑剤溶液２中
に漬け、その後、磁気ディスク媒体を該溶液２より引き
上げることで、潤滑剤を塗布する。

この場合、潤滑剤の塗布量は、磁気ディスク媒体を引き
上げる速度により変わり、引き上げ速度を大きくすると
、塗布量が多くなる。

潤滑剤の塗布量は、第１０図に示す方法により測定して
いる。

磁気ディスク媒体１の、半径只の位置に１重りヘッド（
測定用ヘッド）３を乗せ、該重りヘッド３の吸着力を、
テンションメータ４で測定する。

第１１図は、磁気ディスク媒体の潤滑剤塗布量と。

該媒体表面の静摩擦係数の関係を示すグラフである９潤
滑剤塗布量が多くなる程、静摩擦係数は増大する。

したがって、第１０図に示す測定法を用いて、テンショ
ンメータ４の指示値より間接的に潤滑剤の塗布量を知る
ことができる。

また、第１１図において、静摩擦係数が急激に増大し始
める点Ｐの、潤滑剤塗布量のことを飽和吸収量と呼んで
おり、この量を越えて潤滑剤を塗布すると、磁気ディス
ク装置の停止時に、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体面に
吸着しやすくなる。

磁気ヘッドが吸着すると、磁気ディスク装置では、磁気
ヘッドが多数使用されるため、磁気ディスク装置起動時
に、スピンドルが回転不可能になる。

一方、潤滑剤塗布量が少なければ、磁気ディスク媒体の
耐摩耗性が低下してしまう。

したがって、潤滑剤の塗布量は、所定の適正量に管理し
ている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、潤滑剤の塗布量が管理されていても次の様な問
題点がある。

第１２図（ａ）（ロ）は、磁気ディスク媒体の切断部端
面図である。Ｃは磁気ディスク媒体の回転中心軸である
。ディスク基板６の表面上に、磁性塗膜７があり、その
厚さは、磁気記録特性上の理由から。

ディスク内側は薄く、ディスク外側は厚く形成されてい
る。このような磁気ディスク媒体に、デイツプ法により
潤滑剤を塗布すると、潤滑剤は磁気ディスク媒体面に均
一に塗布されるが、磁性塗膜に吸収される潤滑剤量は、
膜厚が大きい方が多いため、膜厚の大きい部分と小さい
部分とでは、飽和吸収量に対する塗布量の割合が異なる
。

したがって、第１２図（ａ）で示す９重りヘッド３が置
かれている吸着力測定位置において、所定の適正量の潤
滑剤が塗布されていても、該測定位置から中心軸Ｃ側は
、潤滑剤塗布量が飽和吸収量以上となり、潤滑剤８が表
面に、にじみ出てくる。

第１２図（ｂ）は、磁気ヘッド浮上保証領域Ｓを示した
図である。磁気ヘッド５は、この範囲内を移動する。

そのため、磁気へラド５が磁気ディスク媒体の内側に移
動すると、潤滑剤８によって磁気へラド５が汚れる。ま
た、この位置で磁気ディスク装置を停止すると、磁気ヘ
ッドの吸着を生じてしまう。

本発明の技術的課題は、磁気ディスク媒体の耐摩耗性を
維持しながら、磁気ヘッドの吸着及び汚れを解消し、磁
気ディスク装置の信転性を向上することにある。

〔課題を解決するための手段〕 １、磁気ディスク媒体 第１図は２本発明磁気ディスク媒体の基本原理を説明す
る図である。

磁気ディスク媒体１の、磁気ヘッド浮上保証領域Ｓより
も内側に、飽和吸収量以上の潤滑剤８を塗布し、その他
の部分は、所定の適正量の潤滑剤を塗布している。

２、磁気ディスク媒体の製造方法 第２図は５本発明磁気ディスク媒体の製造方法の基本原
理を説明する図である。

まず２図には書かれていないが、磁気ディスク媒体に飽
和吸収量以上の潤滑剤を塗布する。

次に１図に示す様に、拭き取り部材９を用いて。

磁気ディスク媒体１の磁気ヘッド浮上保証領域Ｓと、該
領域Ｓよりも外周部分との潤滑剤を拭きとる。

〔作用〕

１、磁気ディスク媒体 第３図（ａ）（ハ）は１本発明磁気ディスク媒体の作用
を説明する図である。

（ａ）図に示されるように、飽和吸収量を越えた潤滑剤
８は、磁気ヘッド浮上保証領域Ｓ外にあるため、磁気ヘ
ッド５の吸着や汚れが解消される。

５）図は、ｍ気ディスク媒体が、ディスクエンクロージ
ャ内で高速回転（３，０００〜３．６０Ｏｒｐｍ程度）
する時に、飽和吸収量以上の潤滑剤８が、マイグレーシ
ヨンによって矢印１１のように、少量づつゆっくりとデ
ィスクの外側に流れて行くことを説明している。この作
用により、磁気ヘッド浮上保証領域Ｓの耐摩耗性が、長
期間に渡り維持される。

２、磁気ディスク媒体の製造方法 磁気ディスク媒体１に、潤滑剤を塗布した後に拭き取り
部材９を用いて、潤滑剤を拭き取るため。

まず必要とする最大の潤滑剤量、すなわち、飽和吸収量
以上の潤滑剤８に合わせて、磁気ディスク媒体１の全体
に潤滑剤を塗布する。

次に、多量の潤滑剤を必要としない部分の潤滑剤を拭き
取ることにより、必要とされる。飽和吸収量以上の潤滑
剤８の領域と、飽和吸収量以下の領域とを形成すること
ができる。

〔実施例〕

次に２本発明による磁気ディスク媒体が、実際上どのよ
うに具体化されるかを５実施例で説明する。

まず、磁気ディスク媒体であるが、飽和吸収量以上の潤
滑剤８の領域については１例えば飽和吸収量の２００％
程度の潤滑剤を塗布し、それ以外の領域では、飽和吸収
量の８０〜１００％程度の潤滑剤を塗布することで実現
できる。

次に、磁気ディスク媒体の製造方法である。第４図（ａ
）（ｂ）は、第一実施例を示し、第５図は３第一実施例
の設備例を示す。また、第４回出）は、（ａ）の側面図
である。

まず、磁気ディスク媒体に、必要とする飽和吸収量以上
の潤滑剤を塗布し９次に図に示すように。

この磁気ディスク媒体ｌを矢印１４の方向に回転させ、
テープ状の拭き取り部材１３を、ゴムローラ１５で磁気
ディスク媒体１に押し当て、拭き取り部材１３を矢印１
６の方向に一定速度で送り、拭き取りの必要な部分の潤
滑剤を拭き取る。また、この時。

ゴムローラ１５と拭き取り部材１３を１前後に移動され
ながら拭き取り作業を行なっても良い。

第５図は、設備例である。磁気ディスク媒体１をスピン
ドル１８にチャックで固定し、拭き取り部１９をエアシ
リンダ２０で移動させる。１７は操作パネルである。

第６図は、第二実施例を示し、第７図は、第二実施例の
設備例を示す。

まず、磁気ディスク媒体に、必要とする飽和吸収量以上
の潤滑剤を塗布し１次に図に示すように。

この磁気ディスク媒体１を、中心軸Ｃを中心に矢印２３
の方向に回転させ、テープ状の拭き取り部材２２を、ゴ
ムバッド２１で磁気ディスク媒体１に押し当て、ゴムパ
ッド２１と拭き取り部材２２を、矢印２４の方向に前後
移動させて、拭き取りの必要な部分の潤滑剤を拭き取る
。

第７図は、設備例である。磁気ディスク媒体１をスピン
ドル２９にチャック２６で固定し、拭き取り部材２７を
モータ２８により、矢印３０方向に前後に移動させる。

２５は操作パネルである。

また、第一実施例、第二実施例において、拭き取り部材
に部材等を含浸させて、拭き取り作業を行なってもよい
。

また、拭き取り式のほかに、第８図に示す回転デイツプ
法を使用して、飽和吸収量以上の潤滑剤８の領域を形成
することも可能である。参考までに簡単に説明すると、
（ａ）の工程で、半径Ｒ１とする位置まで磁気ディスク
媒体１を、潤滑剤溶液２中に浸し、速度■１で１回転さ
せ２次に（ロ）工程で半径Ｒ１とする位置で磁気ディス
ク媒体１を、速度ｖｔで１回転させる。潤滑剤の塗布量
は回転速度で決まるので、速度ｖ１およびｖ２を、必要
とする潤滑剤塗布量に合わせて設定することで、飽和吸
収量以上の潤滑剤８の領域（Ｒ１−Ｒ１の領域）と、そ
れ以下の潤滑剤量の部分を形成できる。

〔発明の効果〕

以上のように１本発明によれば、Ｉ気ヘッド浮上保証Ｎ
域に、飽和吸収量以上の潤滑剤が現われることが無いの
で、磁気ヘッドの吸着及び汚れが無くなる。また、磁気
ヘッド浮上保証領域よりもディスク内側の位置に、飽和
吸収量以上の潤滑剤があり、磁気ディスク装置使用状！
１Ｍ（Ｍｌ気ディスク媒体が高速で回転する）では、該
潤滑剤がマイグレーションにより、磁気ヘッド浮上保証
領域内へ、少量づつ、ゆっくりと移動して行くので１Ｍ
１気デイスク媒体の耐摩耗性が、長期間に渡り維持され
る。これらの結果、磁気ディスク装置の信顛性が向上す
る。

また１本発明磁気ディスク媒体の製造方法では飽和吸収
量以上の潤滑剤を、必要とする部分にのみ残すことがで
きるので１本発明の磁気ディスク媒体を製造する場合、
容易にその製造が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は２本発明磁気ディスク媒体の基本原理を説明す
る図。 第２図は１本発明磁気ディスク媒体の製造方法の基本原
理を説明する図。 第３図は１本発明磁気ディスク媒体の作用を説明する図
。 第４図は２第一実施例を説明する同 第５図は、第一実施例の設備例を説明する図。 第６図は、第二実施例を説明する図。 第７図は、第二実施例の設備例を説明する図。 第８図は１回転デイツプ法を説明する図。 第９図は、デイツプ法による潤滑剤塗布方法を説明する
図。 第１０図は、［気ヘッドと磁気ディスク媒体間の吸着力
を測定する方法を説明した図。 第１１図は、磁気ディスク媒体に塗布する潤滑剤量と、
それに対応する該媒体表面の静摩擦係数の関係を説明す
る図。 第１２図は、磁気ディスク媒体の磁性塗膜の厚さと、潤
滑剤の飽和吸収量の関係を説明する図である。 図において、１は磁気ディスク媒体、２は潤滑剤溶液、
３は重りヘッド（測定用ヘッド）、４はテンションメー
タ、５は磁気ヘッド、６はディスク基板、７は磁性塗膜
、８は飽和吸収量以上の潤滑剤、９は拭き取り部材、１
０は回転方向、　１１は潤滑剤のマイグレーション、１
５はゴムローラ、２１はゴムパッドをそれぞれ示す。 特許出願人　　　　　富士通株式会社 復代理人　弁理士　　福　島　康　文 似！ −ｍ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁気ディスク媒体（１）の、磁気ヘッド浮上保証領
   域（Ｓ）より内周側の部分にのみ、飽和吸収量以上の潤
   滑剤（８）を塗布したことを特徴とする磁気ディスク媒
   体。 ２、磁気ディスク媒体（１）に、潤滑剤を飽和吸収量以
   上に塗布し、 拭き取り部材（９）を用いて、磁気ディスク媒体（１）
   の磁気ヘッド浮上保証領域（Ｓ）と、該領域（Ｓ）より
   も外周側部分との潤滑剤を拭きとり、 磁気ディスク媒体（１）の、磁気ヘッド浮上保証領域（
   Ｓ）よりも内周側部分に、飽和吸収量以上の潤滑剤（８
   ）が残るようにしたことを特徴とする磁気ディスク媒体
   の製造方法。