JPH0445862A - 潤滑剤塗布装置 - Google Patents
潤滑剤塗布装置Info
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- JPH0445862A JPH0445862A JP15307790A JP15307790A JPH0445862A JP H0445862 A JPH0445862 A JP H0445862A JP 15307790 A JP15307790 A JP 15307790A JP 15307790 A JP15307790 A JP 15307790A JP H0445862 A JPH0445862 A JP H0445862A
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、例えば磁気ディスクに塗布形成される潤滑
層の膜厚が均一になる潤滑剤塗布方法ならびに塗布装置
に関するものである。
層の膜厚が均一になる潤滑剤塗布方法ならびに塗布装置
に関するものである。
[従来の技術]
最近、めっき、蒸着、スパッタなどによって成膜される
薄膜磁気記録媒体の耐磨耗等の機械的耐久性改善の要求
が高まっている。この耐久性は、潤滑処理技術に大きく
左右され、たとえ優れた潤滑性能を有する潤滑剤を用い
て処理したとしても、その処理方法(条件)が適切でな
いと十分な性能を発揮しない。そのため潤滑性能の優れ
た材料開発も急がれていることは言うまでもないが、そ
の材料特性を十分活かしきるための最適処理方法を開発
することは、より重要なテーマと考えられる。
薄膜磁気記録媒体の耐磨耗等の機械的耐久性改善の要求
が高まっている。この耐久性は、潤滑処理技術に大きく
左右され、たとえ優れた潤滑性能を有する潤滑剤を用い
て処理したとしても、その処理方法(条件)が適切でな
いと十分な性能を発揮しない。そのため潤滑性能の優れ
た材料開発も急がれていることは言うまでもないが、そ
の材料特性を十分活かしきるための最適処理方法を開発
することは、より重要なテーマと考えられる。
第2図は例えば刊行物(Dr、Pier、The sy
mposium on memory and adv
anced recording technolog
ies、 WS−3−C−1(1986))に示された
従来のディッピング塗布装置(潤滑剤塗布装置)の概略
構成を示す斜視図である。図において、(1)は潤滑剤
溶液(2〉を収容する潤滑剤溶液槽、(3)は潤滑剤溶
液〈2)が塗布される被塗物基板、〈4)は被塗物基板
〈3〉を支持する基板ホルダ、り5)は基板ホルダ(4
)を上下に動かずためのアクチュエータである。
mposium on memory and adv
anced recording technolog
ies、 WS−3−C−1(1986))に示された
従来のディッピング塗布装置(潤滑剤塗布装置)の概略
構成を示す斜視図である。図において、(1)は潤滑剤
溶液(2〉を収容する潤滑剤溶液槽、(3)は潤滑剤溶
液〈2)が塗布される被塗物基板、〈4)は被塗物基板
〈3〉を支持する基板ホルダ、り5)は基板ホルダ(4
)を上下に動かずためのアクチュエータである。
次にこの従来装置の作用について説明する。被塗物基板
<3〉を潤滑剤溶液槽(1)の潤滑剤溶液(2)の中に
浸漬した後、アクチュエータ(5)をゆっくり上方に移
動させ被塗物基板(3〉を引き上げることにより潤滑剤
溶液を被塗物基板(3)に塗布するものであり、このと
き溶液槽(1)から被塗物基板り3〉を引き上げた場合
には、被塗物基板(3〉に潤滑剤溶液(2)が付着して
持ち上げられ、時間の経過とともに潤滑剤溶液は重力に
よって下方に流れ落ち、平衡状態になった残存塗液が最
終的には潤滑膜として被塗物基板(3)に固着し、潤滑
層の厚さが決定される。
<3〉を潤滑剤溶液槽(1)の潤滑剤溶液(2)の中に
浸漬した後、アクチュエータ(5)をゆっくり上方に移
動させ被塗物基板(3〉を引き上げることにより潤滑剤
溶液を被塗物基板(3)に塗布するものであり、このと
き溶液槽(1)から被塗物基板り3〉を引き上げた場合
には、被塗物基板(3〉に潤滑剤溶液(2)が付着して
持ち上げられ、時間の経過とともに潤滑剤溶液は重力に
よって下方に流れ落ち、平衡状態になった残存塗液が最
終的には潤滑膜として被塗物基板(3)に固着し、潤滑
層の厚さが決定される。
[発明が解決しようとする課題]
上記のような従来のディッピング塗布装置を用いて被塗
物基板に潤滑剤を塗布する場合、潤滑溶液の表面張力等
のため、被塗物基板の端面に潤滑溶液が多く残存し、結
果的に潤滑層が端部に厚く形成されるいわゆる「液だれ
」現象が発生し、塗りむらの要因となるという問題点が
あった。
物基板に潤滑剤を塗布する場合、潤滑溶液の表面張力等
のため、被塗物基板の端面に潤滑溶液が多く残存し、結
果的に潤滑層が端部に厚く形成されるいわゆる「液だれ
」現象が発生し、塗りむらの要因となるという問題点が
あった。
第3図は従来のディッピング装置により、塗布された基
板の平面図であり、図中斜線部は液だれ部<6〉を示す
。
板の平面図であり、図中斜線部は液だれ部<6〉を示す
。
この様に、潤滑剤が局部的に多くついた部分にへ・ソド
が接触すると、ヘッドとディスク間に潤滑剤によるメニ
スカスが発生し、結果的にへ・ンドがディスクに吸着す
るようになる。この様なへ・ンド・ディスク吸着が生じ
ると、もはや磁気ディスクの回転による磁気ヘッドの浮
上が不可能になる。
が接触すると、ヘッドとディスク間に潤滑剤によるメニ
スカスが発生し、結果的にへ・ンドがディスクに吸着す
るようになる。この様なへ・ンド・ディスク吸着が生じ
ると、もはや磁気ディスクの回転による磁気ヘッドの浮
上が不可能になる。
これに対し、無理に磁気ディスクの回転を加え磁気ヘッ
ド浮上をはかると、磁性層部分に、剥離や傷が発生した
り、あるいは磁気ヘッド支持体が変形したり、引きちぎ
れたりするという課題がありた。
ド浮上をはかると、磁性層部分に、剥離や傷が発生した
り、あるいは磁気ヘッド支持体が変形したり、引きちぎ
れたりするという課題がありた。
二の発明は、かかる課題を解決するためになされたもの
で、基板に潤滑剤を塗布する場合、従来の様な液だれを
示さず、基板に均質に塗布できる潤滑剤塗布装置を得る
ことを目的とする3、[課題を解決するための手段] この発明にかかる潤滑剤塗布装置は、潤滑剤溶液に浸漬
した被塗物基板を引き上げる時に、一端が上記被塗物基
板側面に接触追従できるガイド棒を備えるものである。
で、基板に潤滑剤を塗布する場合、従来の様な液だれを
示さず、基板に均質に塗布できる潤滑剤塗布装置を得る
ことを目的とする3、[課題を解決するための手段] この発明にかかる潤滑剤塗布装置は、潤滑剤溶液に浸漬
した被塗物基板を引き上げる時に、一端が上記被塗物基
板側面に接触追従できるガイド棒を備えるものである。
[作用]
この発明によれば、被塗物基板の液だれ部側面にガイド
棒を接触させることで、側面部や端面部に集まった潤滑
剤溶液は上記ガイド棒を伝って潤滑剤溶液面に流れるた
め、液だれは発生しなくなり、所定の目的を達成するこ
とができる。
棒を接触させることで、側面部や端面部に集まった潤滑
剤溶液は上記ガイド棒を伝って潤滑剤溶液面に流れるた
め、液だれは発生しなくなり、所定の目的を達成するこ
とができる。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を図をもとに説明する。
第1図は、この発明の一実施例による潤滑剤塗布装置を
前面部を取り除いて示す斜視図である。
前面部を取り除いて示す斜視図である。
図において、(1)は潤滑剤溶液〈2)を収容する潤滑
剤溶液槽、(3)は潤滑剤溶液〈2)によって塗布され
る被塗物基板、〈4〉は被塗物基板を支持する基板ホル
ダ、(5)は基板ホルダ〈4〉を上下に動かすためのア
クチュエータ、(12)は基板端面ならびに側面部に発
生ずる液だれを除去するためのガイド棒であり、一端を
潤滑剤溶液槽<1〉に接続されている。なおこのガイド
棒〈12〉は被塗物基板〈3〉の上昇に伴って変化する
側面位置に追従するように伸び縮みする。この追従の制
御は制御装置<]3〉で行なう。また二〇制帥装置(1
3)において、被塗物基板(3)の追従性判断回路とし
ては、ガイド棒〈12〉間に電位差を設けておき、これ
の電気抵抗を測定することで行なっている。すなわち被
塗物基板〈3)とガイド棒〈12)が接触している間の
電気抵抗はほとんど発生しないのに対し、両者が非接触
になると著しく電気抵抗が大きくなることを利用した物
である。
剤溶液槽、(3)は潤滑剤溶液〈2)によって塗布され
る被塗物基板、〈4〉は被塗物基板を支持する基板ホル
ダ、(5)は基板ホルダ〈4〉を上下に動かすためのア
クチュエータ、(12)は基板端面ならびに側面部に発
生ずる液だれを除去するためのガイド棒であり、一端を
潤滑剤溶液槽<1〉に接続されている。なおこのガイド
棒〈12〉は被塗物基板〈3〉の上昇に伴って変化する
側面位置に追従するように伸び縮みする。この追従の制
御は制御装置<]3〉で行なう。また二〇制帥装置(1
3)において、被塗物基板(3)の追従性判断回路とし
ては、ガイド棒〈12〉間に電位差を設けておき、これ
の電気抵抗を測定することで行なっている。すなわち被
塗物基板〈3)とガイド棒〈12)が接触している間の
電気抵抗はほとんど発生しないのに対し、両者が非接触
になると著しく電気抵抗が大きくなることを利用した物
である。
なお、ガイド棒は用いる溶媒に対して塗れ性の良い材質
で表面コートした物が望ましいるまた、棒状に限るもの
ではなく、例えば板状であってもよい。
で表面コートした物が望ましいるまた、棒状に限るもの
ではなく、例えば板状であってもよい。
この様な装置で塗布された被塗物基板(3)は潤滑剤塗
布中に発生する側面部や端面部の液だれが、ガイド棒〈
12)を介して流れ落ちる為に結果的に、塗りむらな(
均質に塗布される。
布中に発生する側面部や端面部の液だれが、ガイド棒〈
12)を介して流れ落ちる為に結果的に、塗りむらな(
均質に塗布される。
具体的な実施例として、直径30 mn+、 内径1
0の、厚さ3 mmのアルマイト製ドーナツ状被塗物基
板端に直径4 mmの表面テフロンコートしたアルミ製
のガイド棒を接触させて、フッ素変成オイルの)・・ノ
素系潤滑剤(商品名KRYTOX143AD、 デュ
ポン社製)を塗布した時の塗布基板上の塗布膜厚分布を
測定した結果を表1に示す。
0の、厚さ3 mmのアルマイト製ドーナツ状被塗物基
板端に直径4 mmの表面テフロンコートしたアルミ製
のガイド棒を接触させて、フッ素変成オイルの)・・ノ
素系潤滑剤(商品名KRYTOX143AD、 デュ
ポン社製)を塗布した時の塗布基板上の塗布膜厚分布を
測定した結果を表1に示す。
ただし塗布は第1図に示すような装置を用いKRYTO
X]、43八りをトリフルオロトリクロロエタンイキン
製、フッ素変成希釈溶液)で、濃度が1〔gl) 、
2 [:gl:] 、 5 (gl)となるように
希釈した溶液中に基板を浸漬し、基板引き上げ速度0.
2〔m/分〕で引き」二げることにより行なった。
X]、43八りをトリフルオロトリクロロエタンイキン
製、フッ素変成希釈溶液)で、濃度が1〔gl) 、
2 [:gl:] 、 5 (gl)となるように
希釈した溶液中に基板を浸漬し、基板引き上げ速度0.
2〔m/分〕で引き」二げることにより行なった。
フン素糸潤滑剤KRYTOX143ADの塗布膜厚はF
T−IRによる高感度反射法を用いることで測定した。
T−IRによる高感度反射法を用いることで測定した。
この方法の詳細は文献(日本潤渭学会、秋季大会、予稿
集(1987>P、 485〜488)に示されている
。
集(1987>P、 485〜488)に示されている
。
比較例としてガイド棒を被塗物基板に接触させないこと
以外は実施例と同し条件で、直径30釦。
以外は実施例と同し条件で、直径30釦。
内径10m、厚さ 3n+n+のドーナツ状アルマイト
被塗物基板にKRYTOX]43ADを塗布した場合の
塗布膜厚を測定し、表2に示す。
被塗物基板にKRYTOX]43ADを塗布した場合の
塗布膜厚を測定し、表2に示す。
これらの結果から、この発明の潤滑剤塗布装置を用いる
ことにより、潤滑剤が基板に均一に塗布されることがわ
かる。
ことにより、潤滑剤が基板に均一に塗布されることがわ
かる。
[発明の効果]
以上のように、この発明にj;れば、潤滑剤溶液に浸漬
した被塗物基板を引き上げる時に、一端が上記被塗物基
板側面に接触追従できるガイド棒を表1 各測定位置での塗布膜厚 〔A 〕 表2 各測定位置での塗布膜厚 〔A 〕 備えるので、被塗物基板に均質に潤滑剤を塗布できる効
果がある。
した被塗物基板を引き上げる時に、一端が上記被塗物基
板側面に接触追従できるガイド棒を表1 各測定位置での塗布膜厚 〔A 〕 表2 各測定位置での塗布膜厚 〔A 〕 備えるので、被塗物基板に均質に潤滑剤を塗布できる効
果がある。
第1図はこの発明の一実施例による潤滑剤塗布装置の前
面を取り除いて示す斜視図、第2図は従来の潤滑剤塗布
装置の斜視図、第3図は第2図に示す従来の装置により
塗布された基板の平面図である。 図において、(3〉は被塗物基板、(12)はガイド棒
、(13)は制御装置である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を下す。
面を取り除いて示す斜視図、第2図は従来の潤滑剤塗布
装置の斜視図、第3図は第2図に示す従来の装置により
塗布された基板の平面図である。 図において、(3〉は被塗物基板、(12)はガイド棒
、(13)は制御装置である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を下す。
Claims (1)
- 潤滑剤溶液に浸漬した被塗物基板を引き上げる時に、一
端が上記被塗物基板側面に接触追従できるガイド棒を備
える潤滑剤塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15307790A JPH0445862A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 潤滑剤塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15307790A JPH0445862A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 潤滑剤塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0445862A true JPH0445862A (ja) | 1992-02-14 |
Family
ID=15554477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15307790A Pending JPH0445862A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 潤滑剤塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0445862A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007058935A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1990
- 1990-06-11 JP JP15307790A patent/JPH0445862A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007058935A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP4534906B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2010-09-01 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
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