JPH01161202A - 偏光板 - Google Patents

偏光板

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JPH01161202A
JPH01161202A JP31862387A JP31862387A JPH01161202A JP H01161202 A JPH01161202 A JP H01161202A JP 31862387 A JP31862387 A JP 31862387A JP 31862387 A JP31862387 A JP 31862387A JP H01161202 A JPH01161202 A JP H01161202A
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伸治 鈴木
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達也 沼
Hideo Danjo
壇上 秀夫
Junji Toda
順治 戸田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は染料で塗布されてなる偏光板に関し更に詳しく
は任意の方向に偏光性を与え、かつその偏光部分が連続
的にパターン化された偏光板に関する。
従来の技術 従来、偏光板を製造する代表的な方法としては、延伸ポ
リビニルアルコール膜をヨウ素で着色したのち透明基板
に貼着する方法である。こ種の偏光板は高い偏光度、透
過率の均一性、材質の安定性において優れている。しか
し、この偏光板は、ポリビニルアルコール膜の延伸方向
にのみ偏光性が得られるものであり、この延伸 ゛が通
常一方向にしか出来ないため、偏光方向も一方向に限定
され、円状、放射状、波状等の偏光板を製造することが
出来ないという欠点がある。
従って、この種の偏光板を用いて例えば偏光軸が放射状
に伸びた偏光板を得るには、扇状形に切断された、半径
方向に偏光性を有する多数の偏光板を円状に貼着する等
の方法を採用しなければならないため、製作も困難であ
り、高価なものとなり、且つ連続的な偏光軸をもった偏
光板が得られにくいという欠点がある。
一方、ガラス、有機膜等に偏光性を直接形成させる方法
としては、例えば米国特許第2.400,877号等に
記載されている方法がある。
この方法は、ガラス、或いは有機膜を予め、布、紙、パ
フ等でラビングしておき、その後、二色性色素をコーテ
ィングしてラビングされた方向に二色性色素を配向させ
る方法である。
この方法は、二色性色素をコーティングする前に、ガラ
ス、或いは有機膜にラビング処理を行い、このラビング
方向に二色性色素を配向させるものであり、ラビング方
向を任意に変えることにより、連続的にパターン化され
た、むらの少ない偏光板を形成することが出来る。しか
し該米国特許記載の二色性色素を用いてガラス、或いは
有機膜に偏光性を直接形成させた場合、偏光能が低く、
コントラストが優れないという欠点がある。
発明が解決しようとする問題点 偏光能が高く、コントラストに優れ、任意の方向に偏光
性を与え、偏光部分が連続的にパターン化された、むら
の少ない偏光板が望まれている。
問題点を解決するための手段 染料を用いた偏光板において、偏光軸が任意の方向であ
って、偏光能力が高く、コントラストの優れた偏光板を
得るべく鋭意研究を重ねた結果、本発明に到った。
即ち、本発明は式(I) 〔式(I1において、Aは低級アルキル基、低級アルコ
キシ基又はスルホン酸基で置換されてぃてもよいフェニ
ル基を、R1とR4は水素原子、水酸基又は低級アルコ
キシ基を、1%、 R3+ &、 Lはそれぞれ独立に
水素原子、水酸基又はスルホン酸基を、R7は水素原子
、メチル基、アセチル基、カルバモイル基、置換されて
いてもよしくフェニル基又は置換されていてもよいベン
ゾイル基をそれぞれ表す。但し、RIとR4は同時に水
素原子を表すことはない。〕で表される化合物で塗布さ
れてなる偏光板を提供する。
本発明で用いる式(I1で表される化合物は、−射的に
は次の方法によって製造出来る。即ち、式(III A−NH2(■) 〔式(Illにおいて、Aは低級アルキル基、低級アル
コキシ基又はスルホン酸基で置換されていてもよいフェ
ニル基を表す。〕で表される化合物を常法によりジアゾ
化し、式(I’1l=5− 〔式(I[)において、R,は水素原子、水酸基又は低
級アルコキシ基を、R2とR3はそれぞれ独立に水素原
子、水酸基又はスルホン酸基を表す。〕で表される化合
物にカップリングし、式■〔式■中、A、R,、R2及
びR3前記と同じ意味を表される化合物を製造する。更
に、弐■の化合物を常法によりジアゾ化して式(9) 〔式(■において、R4は水素原子、水酸基又は低級ア
ルコキシ基を、R5とR6はそれぞれ独立に水素原子、
水酸基又はスルホン酸基を表す。〕で表される化合物に
カップリングし、式(Vl)6一 〔式(Vl)中、A、 R1,R2,R3,R4,Rs
及びルは前記と同じ意味を表す。但し、R1とR4は同
時に水素原子を表さない。〕で表される化合物を製造す
る。次いで、式(Vl)の化合物を常法によとジアゾ化
して式(■1) 〔式(■)において、R7は水素原子、メチル基、アセ
チル基、カルバモイル基、置換されていてもよいフェニ
ル基又は置換されていてもよいベンゾイル基を表す。〕
で表される化合物とカップリングすることによって製造
する。もちろんこれ以外の製造ルートによっても式(I
)で表される化合物を製造することが出来る。
式(I1で表される化合物は通常ナトリウム塩として利
用するが、それらは遊離酸として、或いは、カリウム塩
、リチウム塩、アンモニウム塩、アルキルアミン類、エ
タノールアミン類の塩トしても利用することが出来る。
式(II)で表される化合物の具体例としては、等を挙
げることが出来る。(式中「S」は[5O3H1を意味
する。以下同じ。) 式(III)及び(■で表される化合物の具体例とじは
等を挙げることが出来る。
式(■)で表される化合物の具体例としては、等を挙げ
ることが出来る。
弐(I)で表される化合物は単独で使用さ゛れるほかそ
れら同志あるいは他の染料と配合することにより種々の
色相を有する偏光板を製造することが出来る。
本発明の偏光板は、−射的には予めラビング処理を施し
た基材上に、式(I)で表される化合物を含有した溶液
を塗布することにより得られる。
本発明の偏光板に用いられる基材としては、ガラスの他
、トリアセチルセルローズフィルム(以下TACフィル
ムといつ)、ジアセチルセルローズフィルム、セルロー
ズアセテートフィルム、ホリエステルフィルム、塩化ビ
ニールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレ
ンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィル
ム、ポリエーテルスルホンフィルム、アクリル系フィル
ム等が用いられるが、これらのうち好ましいものは、T
ACフィルム、ポリエステルフィルム等が挙げることが
できる。これらの基材は場合により、コロナ処理、シラ
ンカップリング処理等の表面処理を行ってから用いるこ
とが出来る。
ラビング剤としては、布、紙、皮革、綿、フェルト、パ
フ等を、場合によりクレー、ジルコニア、アルミナ等の
研磨剤と共に用いることが出来る。また、ラビングの程
度はラビング剤によって異なるが、ラビングの回数は1
〜30回が望ましい。
式(’I)で表される化合物を溶かすための溶剤として
は水及び水と混合しうる有機溶剤類が適しその具体例と
しては、水、メチ、ルアルコール、エチルア)レコール
、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のア
ルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の
セロソルブ類、アセトン、ジメチルホルムアミド等の単
独又は二種以上の混合溶剤を挙げることが出来る。
式(I)で表される化合物を溶解すべき濃度は溶媒によ
り異なるが、0.5〜10%が望ましい。
更に、場合により界面活性剤等の添加剤を加えることが
出来る。
式(I1で表される化合物溶液を基材に塗布する塗布法
としては例えば、バーコーター、スプレー、ロール等の
コート法にて塗布出来る。コート時の温度は通常O〜8
0℃、好ましくは25〜40℃である。乾燥温度は通常
25〜120℃、好ましくは50〜80℃である。
このようにして製造された偏光板はそのまま使用される
他、耐久性を要求される分野゛においてはポリエステル
、□塩化ビニール、トリアセチルセルローズ、アクリル
樹脂、ポリエーテルスルホン等の支持フィルムを接着し
たり、特殊アクリル樹脂等でコーティングして高耐久性
の偏光板として使用に供される。
本発明の偏光板は各種ティスプレィ、装飾材料、透過防
止、フィルター等に用いることができる。
り下実施例により本発明を更に詳しく説明する。尚、実
施例において部は重量部をあられし、スルホン酸基は遊
離酸の形で表すものとする。
また、Sは5O3Hを表すものとする。なお波長380
〜700 nmの範囲で求めた三刺激値をY値で表し、
そのうち二枚を平行位に配した場合をY、、、二枚を直
行位に配した場合をY土で表すと平均偏光率ρはYll
、Y土を用いて次式によって定義される。
特に有彩色の偏光板の場合、極大吸収波長λmaxでの
偏光率ρ(may)はその波長での平行位透過率T、、
 (max )、直行位透過率T土(max)を用いて
次式によって表すことも出来る。
13一 実施例1゜ 水100部に式 で表される染料を5部、非イオン性界面活性剤エマルゲ
ン920(化工アトラス社製)0.5部を加え、加熱溶
解後冷却し、濾過して不溶解分を除去することにより染
料溶液を得た。
TACフィルム(厚さ80μ)の全面を縦方向にフェル
トで10回ラビングし、その後一定間隔で横方向に20
回ラビングした後、水洗、乾燥した。得られたフィルム
上に前記染料溶液をノ<−コーターで塗布した後、60
℃で乾燥することによって偏光板を得た。得られた偏光
板の極太吸収波長λmaxは5 Q 5 nm、単板−
過率’r、(max)は38.1%で、そのρ(max
)は702係であった。
このものはデイスプレーとして有用であっjもなお上記
式の化合物は次のようにして製造した。
水200部にクレープ−7−酸223部を10%苛性ソ
ーダ水溶液を用いて溶解させ、更にこの中に、20%ソ
ーダ灰水溶液で中和しながら、メタニル酸17.3部を
常法にてジアゾ化した液を加え、カップリングした。反
応が終了したら、塩化ナトリウムで塩析し、濾過、乾燥
すると、モノアゾ化合物(次式)381部が得られた。
このモノアゾ化合物381部を水1ooo部にに加え、
10係苛性ソーダ水溶液で溶解せしめ、この液に40係
亜硝酸ソ一ダ水溶液169部を加え、氷で10℃以下に
冷却した後、濃塩酸22部を加え、10℃以下でジアゾ
化した。ジアゾ化が終了したらスルファミノ酸を加えて
過剰の亜硝酸イオンを消去する。2−エトキシクレープ
−7−酸249部を10%苛性ソーダ水溶液を用いて溶
解せしめた液に、前記ジアゾニウム塩を加え、10〜1
5℃でカップリングした。−夜攪拌後生成した沈澱を戸
別し、乾燥すると、次式で表される化合物47.5部か
えられた。
上記の化合物47.5部を前記と同様の方法でジアゾ化
する。別に、フェニルJ酸21.8部をピリジン500
部、水500部に溶解し、その液に、前記ジアゾ液を1
0〜15℃で加え、カップリングした。−夜攪拌後、生
成した沈澱を戸別し、乾燥すると次式で表される化合物
350部が得られた。
実施例2 水95部、イソプロピルアルコール5部の混合溶媒に式 %式%) で表される染料を3部加え、加熱溶解後冷却し、濾過し
て不溶解分を除去することにより染料溶液を得た。
TACフィルム(厚さ80μ)の全面を縦方向に工業用
ワイピング材キムヮイプ(十條キンバリー社製、ワイパ
ーS−200)で1部回ラビングし、その後一定間隔で
横方向に20回ラビングした後、水洗、乾燥した。得ら
れたフィルム上に前記染料溶液をバーコーク−で塗布し
た後、60℃で乾燥することによって偏向板を得た。
得られた偏光板の極太吸収波長λmaxは625部m、
単板透過率T+ (max)は405係で、そのρ(m
ax)は70.0係であった。
水100部に式 %式%) で表、される染料を5部、非イオン性界面活性剤エマル
ゲンL−70(化工アトラス社ff)o5部を加え、加
熱溶解後冷却し、濾過して不溶解分を除去することによ
り染料溶液を得た。
TACフィルム(厚さ80μ)を実施例2と同様にラビ
ングした後、水洗、乾燥した。得られたフィルム上に前
記染料溶液をバーコーターで塗布した後、熱風ドライヤ
ーで40℃で乾燥することによって偏光板を得た。
得られた偏光板の極太吸収波長λmaxは53 Q n
m、単板透過率T、(max)は385係で、そのρ(
maX)は69.8%であった。
実施例4〜6゜ 実施例2において使用された染料に替えてA。
R1−R7が第1表に示すものである下記式[株]に相
当する染料を用いた他は実施例2と同様の方法により偏
光板を得た。得られた偏光板の単板透過率T、(max
)、偏光率(ρ(maX))を表に示した。
発明の効果 偏光軸が任意の方向に、かつ連続的に、かつ連続的にパ
ターン化された高い偏光率を有する偏光板が容易にかつ
安価に製作出来るようになった。
特許出願人  日本化薬株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式( I )において、Aは低級アルキル基、低級アル
    コキシ基又はスルホン酸基で置換されていてもよいフェ
    ニル基を、R_1とR_4は水素原子、水酸基又は低級
    アルコキシ基を、R_2、R_3、R_5、R_6はそ
    れぞれ独立に水素原子、水酸基又はスルホン酸基を、R
    _7は水素原子、メチル基、アセチル基、カルバモイル
    基、置換されていてもよいフェニル基又は置換されてい
    てもよいベンゾイル基をそれぞれ表す。但し、R_1と
    R_4は同時に水素原子を表すことはない〕で表される
    化合物で塗布されてなる偏光板。
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