JPH01157928A - エチレン酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法 - Google Patents
エチレン酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法Info
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- JPH01157928A JPH01157928A JP63268375A JP26837588A JPH01157928A JP H01157928 A JPH01157928 A JP H01157928A JP 63268375 A JP63268375 A JP 63268375A JP 26837588 A JP26837588 A JP 26837588A JP H01157928 A JPH01157928 A JP H01157928A
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- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 36
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 title claims description 46
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims description 26
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 title claims description 25
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 26
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims abstract description 23
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims abstract description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 20
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 7
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 claims description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 12
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 10
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 10
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 5
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/81—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/32—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
- C07C45/33—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties
- C07C45/34—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties in unsaturated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、エチレンと酸素とをパラジウムおよび銅また
はそれらの化合物から塩酸水溶液の形で成り立っている
触媒系の存在下で反応させてアセトアルデヒドに変える
際に生じる廃ガスから有機塩素化合物を分離る、方法に
関る、(バイスメル(K、 Weissmel)/アル
ペ(H,J、 Arpe)、Industrielle
org、 Chemie、 1976年、第137頁
〜第139頁)。
はそれらの化合物から塩酸水溶液の形で成り立っている
触媒系の存在下で反応させてアセトアルデヒドに変える
際に生じる廃ガスから有機塩素化合物を分離る、方法に
関る、(バイスメル(K、 Weissmel)/アル
ペ(H,J、 Arpe)、Industrielle
org、 Chemie、 1976年、第137頁
〜第139頁)。
エチレンの酸化生成物は、共通にガス状生成物を用いて
反応器から取出される。アセトアルデヒドを水洗浄によ
って単離した後に、主にエチレンからなるガス流は、循
環して反応に戻される。循環ガス中でCO2、メタン、
エタンおよび有機塩素化合物のような望ましくない副生
成物ならびに窒素およびアルゴンのような不活性ガスの
含量が増大る、ことを阻止る、ために、部分流は、廃ガ
スとして排出される。この廃ガス流は、ガス相中での部
分圧力に相当して存在す、る有機塩素化合物を含有る、
。排出されるガス流の有機塩素化合物は、その中に含有
されている成分、殊にエチレンの後使用に不利に作用る
、。従って、廃ガス流からの有機塩素化合物ノ分離は、
含有されているエチレンを後続ノ反応に供給し、他面浄
化された廃ガスを燃焼により環境中に導出させることが
できるようにる、ために不可欠なことである。有機塩素
化合物は、ガス流中で主として塩化エチルとして塩化メ
チルとして存在る、。
反応器から取出される。アセトアルデヒドを水洗浄によ
って単離した後に、主にエチレンからなるガス流は、循
環して反応に戻される。循環ガス中でCO2、メタン、
エタンおよび有機塩素化合物のような望ましくない副生
成物ならびに窒素およびアルゴンのような不活性ガスの
含量が増大る、ことを阻止る、ために、部分流は、廃ガ
スとして排出される。この廃ガス流は、ガス相中での部
分圧力に相当して存在す、る有機塩素化合物を含有る、
。排出されるガス流の有機塩素化合物は、その中に含有
されている成分、殊にエチレンの後使用に不利に作用る
、。従って、廃ガス流からの有機塩素化合物ノ分離は、
含有されているエチレンを後続ノ反応に供給し、他面浄
化された廃ガスを燃焼により環境中に導出させることが
できるようにる、ために不可欠なことである。有機塩素
化合物は、ガス流中で主として塩化エチルとして塩化メ
チルとして存在る、。
発明を達成る、ための手段
本発明は、アセトアルデヒドへのエチレン酸化の際に生
じる廃ガスからの有機塩素化合物の殆ど定量的な分離を
極性有機溶剤を用いる向流抽出によって可能ならしめる
。
じる廃ガスからの有機塩素化合物の殆ど定量的な分離を
極性有機溶剤を用いる向流抽出によって可能ならしめる
。
ところで、本発明方法は、反応生成物の単離後に排出さ
れる廃ガスを2.33K〜323にの温度および1〜1
0バールの圧力で極性有機溶剤との向流で洗浄除去る、
ことを特徴とる、。
れる廃ガスを2.33K〜323にの温度および1〜1
0バールの圧力で極性有機溶剤との向流で洗浄除去る、
ことを特徴とる、。
更に、本発明方法は、有利でありかつ選択的a)N−メ
チルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、ジエチレングリコールジメチルエーテルまた
はトリエチレングリコールジメチルエーテルを極性有機
溶剤として使用し; b)向流洗浄の場合の廃ガスと溶剤との容量比が(10
〜300):1、特に(50〜200): 1であり; C)向流洗浄を253K〜303にの温度および1〜5
バールの圧力で実施し; d)廃ガスがエチレン、二酸化炭素、酸素、アルコン、
窒素、メタン、エタンならびに塩化メチルおよび塩化エ
チルの群からの少なくとも1つの有機塩素化合物を含有
し; e)向流洗浄の経過中に有機塩素化合物で負荷される溶
剤を分離工程に供給し、有機塩素化合物を蒸気状で分離
し、こうして有機塩素化合物を分離した溶剤を再び向流
洗浄に装入し;f)溶剤を窒素でストリッピングる、こ
とによって有機塩素化合物を分離る、ことを示すことが
できる。
チルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、ジエチレングリコールジメチルエーテルまた
はトリエチレングリコールジメチルエーテルを極性有機
溶剤として使用し; b)向流洗浄の場合の廃ガスと溶剤との容量比が(10
〜300):1、特に(50〜200): 1であり; C)向流洗浄を253K〜303にの温度および1〜5
バールの圧力で実施し; d)廃ガスがエチレン、二酸化炭素、酸素、アルコン、
窒素、メタン、エタンならびに塩化メチルおよび塩化エ
チルの群からの少なくとも1つの有機塩素化合物を含有
し; e)向流洗浄の経過中に有機塩素化合物で負荷される溶
剤を分離工程に供給し、有機塩素化合物を蒸気状で分離
し、こうして有機塩素化合物を分離した溶剤を再び向流
洗浄に装入し;f)溶剤を窒素でストリッピングる、こ
とによって有機塩素化合物を分離る、ことを示すことが
できる。
本発明方法によれば、有機塩素化合物は、殆ど定量的に
廃ガス流から除去される。浄化された廃ガスは、主とし
てエチレンを二酸化炭素、メタンおよびエタン、不活性
ガスおよび酸素を含有る、。この廃ガス流は、後続の反
応に使用る、ことができる。
廃ガス流から除去される。浄化された廃ガスは、主とし
てエチレンを二酸化炭素、メタンおよびエタン、不活性
ガスおよび酸素を含有る、。この廃ガス流は、後続の反
応に使用る、ことができる。
抽出によって廃ガスから除去された有機塩素化合物は、
1つの分離工程で共通に廃ガスの溶解された含量と一緒
に溶剤から分離される。この有機塩素化合物は、蒸留に
よって浄化る、ことができるかまたは場合によっては燃
焼装置中で燃料として使用る、ことができる。
1つの分離工程で共通に廃ガスの溶解された含量と一緒
に溶剤から分離される。この有機塩素化合物は、蒸留に
よって浄化る、ことができるかまたは場合によっては燃
焼装置中で燃料として使用る、ことができる。
次に、本発明を図面につき詳説る、:
パラジウムおよび銅ないしはそれらの化合物から塩酸水
溶液の形で成り2立っている触媒系の存在下でエチレン
を酸素で酸化る、際に得られる反応生成物は、循環ガス
と一緒に反応器がら取出され、かつ導管1を介して洗浄
塔2に供給される。洗浄塔2は、1〜5バールの圧カニ
保持される。導管1を通じて供給される生成物の流れは
、洗浄塔2中で水で向流で洗浄され、かつ導管3を介し
て取出される液状含量と、ガス状含量とに分離される。
溶液の形で成り2立っている触媒系の存在下でエチレン
を酸素で酸化る、際に得られる反応生成物は、循環ガス
と一緒に反応器がら取出され、かつ導管1を介して洗浄
塔2に供給される。洗浄塔2は、1〜5バールの圧カニ
保持される。導管1を通じて供給される生成物の流れは
、洗浄塔2中で水で向流で洗浄され、かつ導管3を介し
て取出される液状含量と、ガス状含量とに分離される。
有利に288〜303にの温度で洗浄塔2の頭部に到達
る、ガス流は、導管4を介して取出され、かつ循環して
反応器に戻される。1つの部分流は、廃ガスとして排出
され、導管5を介して洗浄塔6の下面に供給され、この
洗浄塔は、ガスと液体との接触を上昇させるために泡鐘
床または充填塔を包含る、。廃ガスは、反応生成物とと
もに二酸化炭素、メタン、エタンおよび有機塩素化合物
、主として未反応のエチレンならびに不活性ガス(窒素
、アルゴン)を含有る、。洗浄塔6の頭部で導管7を介
して233〜323にの温度を有る、極性有機溶剤は供
給され、上回きに流れる廃ガスは、向流で洗浄される。
る、ガス流は、導管4を介して取出され、かつ循環して
反応器に戻される。1つの部分流は、廃ガスとして排出
され、導管5を介して洗浄塔6の下面に供給され、この
洗浄塔は、ガスと液体との接触を上昇させるために泡鐘
床または充填塔を包含る、。廃ガスは、反応生成物とと
もに二酸化炭素、メタン、エタンおよび有機塩素化合物
、主として未反応のエチレンならびに不活性ガス(窒素
、アルゴン)を含有る、。洗浄塔6の頭部で導管7を介
して233〜323にの温度を有る、極性有機溶剤は供
給され、上回きに流れる廃ガスは、向流で洗浄される。
ガス対洗浄液(極性有機溶剤)の容量比は、10〜30
0:1、特に50〜200:1である。有機塩素化合物
で負荷された洗浄液は、導管8を介して取出されかつ分
離段9に導かれる。浄化された廃ガスは、導管10を介
して取出しかつ後続の反応に使用る、ことができる。分
離段9中で有機塩素化合物ならびに廃ガスの溶解された
含量は、極性有機溶剤から導管11を介して除去される
。
0:1、特に50〜200:1である。有機塩素化合物
で負荷された洗浄液は、導管8を介して取出されかつ分
離段9に導かれる。浄化された廃ガスは、導管10を介
して取出しかつ後続の反応に使用る、ことができる。分
離段9中で有機塩素化合物ならびに廃ガスの溶解された
含量は、極性有機溶剤から導管11を介して除去される
。
この化合物ならびに含量は、もう1つの分離段で浄化る
、ことができるかまたは場合によっては燃焼装置中で燃
料として使用る、ことができる。引続き、溶剤は、導管
7を介して洗浄塔6に再び供給される。
、ことができるかまたは場合によっては燃焼装置中で燃
料として使用る、ことができる。引続き、溶剤は、導管
7を介して洗浄塔6に再び供給される。
実施例
次に、本発明を実施例につきさらに詳説る、。
実施例中で、ρの記載は標準条件(273,16におよ
び1013バール)に対る、ものである例 1 不変のガス循環を保持る、ために、エチレン酸化の反応
ガスから液状生成物の取得後に組成・エチレン77.2
容量%、メタンおよびエタン0.5容量%、二酸化炭素
10.5容量%、窒素およびアルゴン7.3容量%、酸
素4.2容量%ならびに塩化メチル0.3容量%を育る
、廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去る、ために、前
記廃ガス300ρ/hを導管5から298にの温度およ
び4バールの圧力で4mmのバール(Berl)充填体
で充填された洗浄塔6(充填高さ:2mm、直径: 2
5 mm)の底面で導入し、かつ充填体層の上方で導管
7を介して供給されるN−メチルピロリドンと向流で接
触させる。洗浄塔6の頭部で組成;エチレン77.4容
量%、メタンおよびエタン0.5容量%、二酸化炭素l
016容量%、窒素およびアルゴン78.3容it%、
酸素4.2容量%および塩化メチル〈0.01容量%の
浄化された廃ガス毎時1891が生じる。底面から流出
しかつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたN
−メチルピロリドンは、減圧後に導管8を介して分離段
9(脱着塔;6mmのバール(Berl)充填体層の高
さ:1゜5mm、直径: 25 mm)中に到達る、。
び1013バール)に対る、ものである例 1 不変のガス循環を保持る、ために、エチレン酸化の反応
ガスから液状生成物の取得後に組成・エチレン77.2
容量%、メタンおよびエタン0.5容量%、二酸化炭素
10.5容量%、窒素およびアルゴン7.3容量%、酸
素4.2容量%ならびに塩化メチル0.3容量%を育る
、廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去る、ために、前
記廃ガス300ρ/hを導管5から298にの温度およ
び4バールの圧力で4mmのバール(Berl)充填体
で充填された洗浄塔6(充填高さ:2mm、直径: 2
5 mm)の底面で導入し、かつ充填体層の上方で導管
7を介して供給されるN−メチルピロリドンと向流で接
触させる。洗浄塔6の頭部で組成;エチレン77.4容
量%、メタンおよびエタン0.5容量%、二酸化炭素l
016容量%、窒素およびアルゴン78.3容it%、
酸素4.2容量%および塩化メチル〈0.01容量%の
浄化された廃ガス毎時1891が生じる。底面から流出
しかつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたN
−メチルピロリドンは、減圧後に導管8を介して分離段
9(脱着塔;6mmのバール(Berl)充填体層の高
さ:1゜5mm、直径: 25 mm)中に到達る、。
充填体層の上方に供給されたN−メチルピロリドンを1
バールの圧力下でガス状成分の脱着のために分離段9の
塔底部中に導入される窒素2i2/hで475にの温度
でストリッピングる、。この場合には、塔の頭部の凝縮
器で組成;塩化メチル6.9容量%、エチレン60.0
容量%、エタンおよびメタン0.5容量%、二酸化炭素
8,5容量%、窒素およびアルゴン21.0容量%なら
びに酸素3.1容量%を有る、ガス毎時11か取出され
る。このガスは、燃焼装置に供給されるかまたは塩化メ
チルを取得る、ために後処理される。廃ガス中でのCH
3C/は、抽出によって23倍だけ濃縮させることがで
きる。分離段9の底面から流出されるN−メチルピロリ
ドンは、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却
後、この化合物は再び洗浄塔6の頭部に戻される。
バールの圧力下でガス状成分の脱着のために分離段9の
塔底部中に導入される窒素2i2/hで475にの温度
でストリッピングる、。この場合には、塔の頭部の凝縮
器で組成;塩化メチル6.9容量%、エチレン60.0
容量%、エタンおよびメタン0.5容量%、二酸化炭素
8,5容量%、窒素およびアルゴン21.0容量%なら
びに酸素3.1容量%を有る、ガス毎時11か取出され
る。このガスは、燃焼装置に供給されるかまたは塩化メ
チルを取得る、ために後処理される。廃ガス中でのCH
3C/は、抽出によって23倍だけ濃縮させることがで
きる。分離段9の底面から流出されるN−メチルピロリ
ドンは、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却
後、この化合物は再び洗浄塔6の頭部に戻される。
例 2
不変のガス循環を保持る、ために、エチレン酸化の反応
ガスから液状生成物の取得後に組成・エチレン78.5
容量%、二酸化炭素9.7容量%、窒素およびアルゴン
7.3容量%、酸素3.8容量%ならびに塩化メチル0
.7容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチルを除
去る、ために、前記廃ガス200σ/hを導管5から2
53にの温度および1バールの圧力で22個の泡鐘床を
備えた洗浄塔6(直径: 50 mm)の底面から導入
し、かつ塔の最上面で導管7を介して供給されるN−メ
チルピロリドン212/h ト、向流で接触させる。洗
浄塔6の頭部で組成:エチレン79.1容量%、二酸化
炭素9.7容量%、窒素およびアルゴン7.3容量%、
酸素3゜8容量%および塩化メチル<0.01容ffi
%の浄化された廃ガス毎時192f2が得られる。底面
から流出しかつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷
されたN−メチルピロリドンを、導管8を介して分離段
9(脱着塔)中に導く。充填体層の上方に供給されたN
−メチルピロリドンを475にの温度および1バールの
圧力でガス状成分の脱着のために分離段9の基底部中に
導入される窒素0.5C/hでストリッピングる、。こ
の場合には、塔の頭部の凝縮器を介して組成:塩化メチ
ル16,5容量%、エチレン61.2容量%、二酸化炭
素8.2容量%、窒素およびアルゴン11.8容量%な
らびに酸素2.3容量%を有る、ガス毎時8.5gが取
出される。
ガスから液状生成物の取得後に組成・エチレン78.5
容量%、二酸化炭素9.7容量%、窒素およびアルゴン
7.3容量%、酸素3.8容量%ならびに塩化メチル0
.7容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチルを除
去る、ために、前記廃ガス200σ/hを導管5から2
53にの温度および1バールの圧力で22個の泡鐘床を
備えた洗浄塔6(直径: 50 mm)の底面から導入
し、かつ塔の最上面で導管7を介して供給されるN−メ
チルピロリドン212/h ト、向流で接触させる。洗
浄塔6の頭部で組成:エチレン79.1容量%、二酸化
炭素9.7容量%、窒素およびアルゴン7.3容量%、
酸素3゜8容量%および塩化メチル<0.01容ffi
%の浄化された廃ガス毎時192f2が得られる。底面
から流出しかつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷
されたN−メチルピロリドンを、導管8を介して分離段
9(脱着塔)中に導く。充填体層の上方に供給されたN
−メチルピロリドンを475にの温度および1バールの
圧力でガス状成分の脱着のために分離段9の基底部中に
導入される窒素0.5C/hでストリッピングる、。こ
の場合には、塔の頭部の凝縮器を介して組成:塩化メチ
ル16,5容量%、エチレン61.2容量%、二酸化炭
素8.2容量%、窒素およびアルゴン11.8容量%な
らびに酸素2.3容量%を有る、ガス毎時8.5gが取
出される。
このガスは、燃焼装置に達る、かまたは塩化メチルを取
得る、ために後処理される。廃ガス中での塩化メチルは
、前記条件下で抽出によって23.6倍だけ濃縮される
。分離段9の底面から流出されるN−メチルピロリドン
は、検出可能なガス状成分を全く含有しびい。冷却後、
この化合物は再び抽出に使用される。
得る、ために後処理される。廃ガス中での塩化メチルは
、前記条件下で抽出によって23.6倍だけ濃縮される
。分離段9の底面から流出されるN−メチルピロリドン
は、検出可能なガス状成分を全く含有しびい。冷却後、
この化合物は再び抽出に使用される。
例 3
不変のガス循環を保持る、ために、エチレン酸化の反応
ガスから液状生成物の取得後に組成:エチレン76.1
容量%、二酸化炭素10.8容量%、窒素およびアルゴ
ン8.4容量%、酸素3.5容量%ならびに塩化メチル
1.1容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチルを
除去る、ために、前記廃ガス20ON/hを導管5から
273にの温度および2バールの圧力で22個の泡鐘床
を備えた洗浄塔6の底面から導入し、かつ塔の最上面で
導管7を介して供給されるトリエチレングリコールジメ
チルエーテル3Q/h(トリグリメ(Triglyme
))と、向流で接触させる。洗浄塔6の頭部で組成:エ
チレン77゜0容量%、二酸化炭素10.9容量%、窒
素およびアルゴン8.5容量%、酸素3.6容量%なら
びに塩化メチル0.01容量%および塩化エチル0.0
1容量%の浄化された廃ガス毎時190.512が得ら
れる。底面から流出しかつ塩化メチル、塩化エチルおよ
び他の廃ガス成分で負荷されたトリグリメは、減圧後に
導管8を介して分離段9(脱着塔)中に達る、。
ガスから液状生成物の取得後に組成:エチレン76.1
容量%、二酸化炭素10.8容量%、窒素およびアルゴ
ン8.4容量%、酸素3.5容量%ならびに塩化メチル
1.1容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチルを
除去る、ために、前記廃ガス20ON/hを導管5から
273にの温度および2バールの圧力で22個の泡鐘床
を備えた洗浄塔6の底面から導入し、かつ塔の最上面で
導管7を介して供給されるトリエチレングリコールジメ
チルエーテル3Q/h(トリグリメ(Triglyme
))と、向流で接触させる。洗浄塔6の頭部で組成:エ
チレン77゜0容量%、二酸化炭素10.9容量%、窒
素およびアルゴン8.5容量%、酸素3.6容量%なら
びに塩化メチル0.01容量%および塩化エチル0.0
1容量%の浄化された廃ガス毎時190.512が得ら
れる。底面から流出しかつ塩化メチル、塩化エチルおよ
び他の廃ガス成分で負荷されたトリグリメは、減圧後に
導管8を介して分離段9(脱着塔)中に達る、。
充填体層の上方で供給されたトリグリメを495にの温
度および1バールの圧力でガス状成分の脱着のために分
離段9の基底部中に導入される窒素112/hでストリ
ッピングる、。この場合には、塔の頭部の凝縮器で組成
:塩化メチル21.0容量%、塩化エチル1.9容量%
、エチレン51.4容量%、二酸化炭素8.6容量%、
窒素およびアルゴン15.2容量%ならびに酸素1.9
容量%を有る、ガス毎時10.5σが取出される。この
ガスは、蒸気を発生させるために燃焼されるかまたは塩
化メチルを取得る、ために後処理される。分離段9の底
面から流出されるトリグリメは、検出可能なガス状成分
を全く含有しない。冷却後、この化合物は循環して洗浄
塔6に再び供給される。
度および1バールの圧力でガス状成分の脱着のために分
離段9の基底部中に導入される窒素112/hでストリ
ッピングる、。この場合には、塔の頭部の凝縮器で組成
:塩化メチル21.0容量%、塩化エチル1.9容量%
、エチレン51.4容量%、二酸化炭素8.6容量%、
窒素およびアルゴン15.2容量%ならびに酸素1.9
容量%を有る、ガス毎時10.5σが取出される。この
ガスは、蒸気を発生させるために燃焼されるかまたは塩
化メチルを取得る、ために後処理される。分離段9の底
面から流出されるトリグリメは、検出可能なガス状成分
を全く含有しない。冷却後、この化合物は循環して洗浄
塔6に再び供給される。
例 4
不変のガス循環を保持る、ために、エチレン酸化の反応
ガスから液状生成物の取得後に組成:エチレン77.7
容量%、二′酸化炭素10.5容量%、窒素およびアル
ゴン7.3容量%、酸素4.2容量%ならびに塩化メチ
ル0.3容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチル
を除去る、ために、前記廃ガス3500σ/hを導管5
から298にの温度および4バールの圧力で6mmのバ
ール(Berl)充填体で充填された洗浄塔6(充填高
さ2.5m、直径35 mm)に導入し、かつ充填体層
の上方で導管7を介して供給されるジメチルホルムアミ
ド2i/hと、向流て接触させる。洗浄塔6の頭部で組
成:エチレン78.0容量%、二酸化炭素10.5容量
%、窒素およびアルゴン7.3容量%、酸素4.2容量
%ならびに塩化メチル<0.01容量を有る、浄化され
た廃ガス毎時3291が生じる。底面から流出しかつ塩
化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたジメチルホ
ルムアミドは、導管8を介して分離段9(脱着塔)中に
達る、。充填体層の上方で供給されたジメチルホルムア
ミドを1.8バールの圧力でガス状成分の脱着のために
分離段9の蒸発器中で450にの温度に加熱る、。この
場合には、塔の頭部の凝縮器で組成:塩化メチル5.0
容量%、エチレン73゜7容量%、二酸化炭素10.o
容量%、窒素およびアルコン7月容量%ならびに酸素4
.2容量%を有る、ガス毎時210gが取出される。
ガスから液状生成物の取得後に組成:エチレン77.7
容量%、二′酸化炭素10.5容量%、窒素およびアル
ゴン7.3容量%、酸素4.2容量%ならびに塩化メチ
ル0.3容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチル
を除去る、ために、前記廃ガス3500σ/hを導管5
から298にの温度および4バールの圧力で6mmのバ
ール(Berl)充填体で充填された洗浄塔6(充填高
さ2.5m、直径35 mm)に導入し、かつ充填体層
の上方で導管7を介して供給されるジメチルホルムアミ
ド2i/hと、向流て接触させる。洗浄塔6の頭部で組
成:エチレン78.0容量%、二酸化炭素10.5容量
%、窒素およびアルゴン7.3容量%、酸素4.2容量
%ならびに塩化メチル<0.01容量を有る、浄化され
た廃ガス毎時3291が生じる。底面から流出しかつ塩
化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたジメチルホ
ルムアミドは、導管8を介して分離段9(脱着塔)中に
達る、。充填体層の上方で供給されたジメチルホルムア
ミドを1.8バールの圧力でガス状成分の脱着のために
分離段9の蒸発器中で450にの温度に加熱る、。この
場合には、塔の頭部の凝縮器で組成:塩化メチル5.0
容量%、エチレン73゜7容量%、二酸化炭素10.o
容量%、窒素およびアルコン7月容量%ならびに酸素4
.2容量%を有る、ガス毎時210gが取出される。
このガスは、蒸気を発生させるために燃焼されるかまた
は塩化メチルを取得る、ために後処理される。
は塩化メチルを取得る、ために後処理される。
分離段9の底面から流出る、ジメチルホルムアミドは、
検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、この
化合物は循環して洗浄塔6に再び供給される。
検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、この
化合物は循環して洗浄塔6に再び供給される。
例 5
不変のガス循環を保持る、ために、エチレン酸化の反応
ガスから液状生成物の取得後に組成:エチレン77.8
容量%、二酸化炭素101容量%、窒素およびアルゴン
7.8容量%、酸素4.0容量%ならびに塩化メチル0
.3容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチルを除
去る、ために、前記廃ガス2500ρ/hを導管5から
298にの温度および4バールの圧力で11個の泡鐘床
を備えた洗浄塔6(直径25 mm)に導入し、かつ導
管7を介して供給されるジメチルスルホキシド2OR/
hと、向流で接触させる。洗浄塔6の頭部で組成・エチ
レン78.3容量%、二酸化炭素9.6容量%、窒素お
よびアルゴン8.0容量%、酸素4.1容量%ならびニ
塩化メチル<0.01容量を有る、浄化され 。
ガスから液状生成物の取得後に組成:エチレン77.8
容量%、二酸化炭素101容量%、窒素およびアルゴン
7.8容量%、酸素4.0容量%ならびに塩化メチル0
.3容量%を有る、廃ガス流を取出す。塩化メチルを除
去る、ために、前記廃ガス2500ρ/hを導管5から
298にの温度および4バールの圧力で11個の泡鐘床
を備えた洗浄塔6(直径25 mm)に導入し、かつ導
管7を介して供給されるジメチルスルホキシド2OR/
hと、向流で接触させる。洗浄塔6の頭部で組成・エチ
レン78.3容量%、二酸化炭素9.6容量%、窒素お
よびアルゴン8.0容量%、酸素4.1容量%ならびニ
塩化メチル<0.01容量を有る、浄化され 。
た廃ガス毎時239 Of2か生じる。底面から流出し
かつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたジメ
チルスルホキシドは、導管8を介して分離段9(脱着塔
)中に達る、。充填体層の上方で供給されたジメチルス
ルホキシドを1.8バールの圧力でガス状成分の脱着の
ために分離段9の蒸発器中で483にの温度に加熱る、
。この場合には、塔の頭部の凝縮器で組成:塩化メ+
ル6 、8容量%、エチレン65.6容ffi%、二酸
化炭素21.6容量%、窒素およびアルゴン4.1容量
%ならびに酸素1.9容量%を有る、ガス毎時110ρ
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために燃
焼されるがまたは塩化メチルを取得る、ために後処理さ
れる分離段9の底面から流出る、ジメチルスルホキシド
は、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、
この化合物は循環して洗浄塔6に再び供給される。
かつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたジメ
チルスルホキシドは、導管8を介して分離段9(脱着塔
)中に達る、。充填体層の上方で供給されたジメチルス
ルホキシドを1.8バールの圧力でガス状成分の脱着の
ために分離段9の蒸発器中で483にの温度に加熱る、
。この場合には、塔の頭部の凝縮器で組成:塩化メ+
ル6 、8容量%、エチレン65.6容ffi%、二酸
化炭素21.6容量%、窒素およびアルゴン4.1容量
%ならびに酸素1.9容量%を有る、ガス毎時110ρ
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために燃
焼されるがまたは塩化メチルを取得る、ために後処理さ
れる分離段9の底面から流出る、ジメチルスルホキシド
は、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、
この化合物は循環して洗浄塔6に再び供給される。
図面は、本発明方法を実施る、ための装置を示す系統図
である。 1.3,4,5,7,8,10.11・・・導管、2,
6・・・洗浄塔、9・・・分離段
である。 1.3,4,5,7,8,10.11・・・導管、2,
6・・・洗浄塔、9・・・分離段
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エチレンと酸素とをパラジウムおよび銅またはそれ
らの化合物から塩酸水溶液の形で成り立っている触媒系
の存在下で反応させてアセトアルデヒドに変える際に生
じる廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法において
、反応生成物の単離後に排出される廃ガスを233K〜
323Kの温度および1〜10バールの圧力で極性有機
溶剤との向流で洗浄除去することを特徴とする、エチレ
ン酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法。 2、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルまたはトリエチレングリコールジメチルエーテル
を溶剤として使用する、請求項1記載の方法。 3、向流洗浄の場合の廃ガスと溶剤との容量比は(10
〜300):1、特に(50〜200):1である、請
求項1または2に記載の方法。 4、向流洗浄を253K〜303Kの温度および1〜5
バールの圧力で実施する、請求項1から3までのいずれ
か1項に記載の方法。 5、廃ガスがエチレン、二酸化炭素、酸素、アルゴン、
窒素、メタン、エタンならびに塩化メチルおよび塩化エ
チルの群からの少なくとも1つの有機塩素化合物を含有
する、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法
。 6、向流洗浄の経過中に有機塩素化合物で負荷される溶
剤を分離工程に供給し、有機塩素化合物を蒸気状で分離
し、こうして有機塩素化合物を分離した溶剤を再び向流
洗浄に装入する、請求項1から5までのいずれか1項に
記載の方法。 7、溶剤を窒素でストリッピングすることによって有機
塩素化合物を分離する、請求項6記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873736459 DE3736459A1 (de) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | Verfahren zur abtrennung organischer chlorverbindungen aus dem abgas der ethylenoxidation |
DE3736459.6 | 1987-10-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01157928A true JPH01157928A (ja) | 1989-06-21 |
JP2761497B2 JP2761497B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=6339235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63268375A Expired - Lifetime JP2761497B2 (ja) | 1987-10-28 | 1988-10-26 | エチレン酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0313910B1 (ja) |
JP (1) | JP2761497B2 (ja) |
CN (1) | CN1014055B (ja) |
AU (1) | AU606225B2 (ja) |
CA (1) | CA1312882C (ja) |
DE (2) | DE3736459A1 (ja) |
ES (1) | ES2037787T3 (ja) |
MX (1) | MX169319B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102433154B (zh) * | 2010-09-29 | 2014-10-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种脱除烃油中的有机氯的方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2827380A1 (de) * | 1978-06-22 | 1980-01-10 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von acetaldehyd |
JPS5835969B2 (ja) * | 1980-04-28 | 1983-08-05 | 三菱化学株式会社 | アセトアルデヒド製造の廃ガスの処理方法 |
DE3610706A1 (de) * | 1986-03-29 | 1987-10-08 | Bayer Ag | Reinigung von methylchlorid bei der kontinuierlichen methylchlorsilansynthese |
-
1987
- 1987-10-28 DE DE19873736459 patent/DE3736459A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-10-11 DE DE8888116822T patent/DE3867798D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-11 EP EP88116822A patent/EP0313910B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-11 CA CA000579729A patent/CA1312882C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-10-11 ES ES198888116822T patent/ES2037787T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-25 CN CN88106839A patent/CN1014055B/zh not_active Expired
- 1988-10-26 JP JP63268375A patent/JP2761497B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-27 MX MX013586A patent/MX169319B/es unknown
- 1988-10-27 AU AU24377/88A patent/AU606225B2/en not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1032780A (zh) | 1989-05-10 |
AU606225B2 (en) | 1991-01-31 |
EP0313910A2 (de) | 1989-05-03 |
DE3736459A1 (de) | 1989-05-11 |
DE3867798D1 (de) | 1992-02-27 |
JP2761497B2 (ja) | 1998-06-04 |
AU2437788A (en) | 1989-05-04 |
CA1312882C (en) | 1993-01-19 |
EP0313910B1 (de) | 1992-01-15 |
CN1014055B (zh) | 1991-09-25 |
ES2037787T3 (es) | 1993-07-01 |
MX169319B (es) | 1993-06-29 |
EP0313910A3 (en) | 1989-10-11 |
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