JP2761497B2 - エチレン酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法 - Google Patents
エチレン酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、エチレンと酸素とをパラジウムおよび銅ま
たはそれらの化合物から塩酸水溶液の形で成り立ってい
る触媒系の存在下で反応させてアセトアルデヒドに変え
る際に生じる廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法
に関する（バイスメル（K.Weissmel）／アルペ（H.J.Ar
pe）、Industrielle org.Chemie、1976年、第137頁〜第
139頁）。
たはそれらの化合物から塩酸水溶液の形で成り立ってい
る触媒系の存在下で反応させてアセトアルデヒドに変え
る際に生じる廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法
に関する（バイスメル（K.Weissmel）／アルペ（H.J.Ar
pe）、Industrielle org.Chemie、1976年、第137頁〜第
139頁）。
エチレンの酸化生成物は、共通にガス状生成物を用い
て反応器から取出される。アセトアルデヒドを水洗浄に
よって単離した後に、主にエチレンからなるガス流は、
循環して反応に戻される。循環ガス中でCO2、メタン、
エタンおよび有機塩素化合物のような望ましくない副生
成物ならびに窒素およびアルゴンのような不活性ガスの
含量が増大することを阻止するために、部分流は、廃ガ
スとして排出される。この廃ガス流は、ガス相中での部
分圧力に相当して存在する有機塩素化合物を含有する。
排出されるガス流の有機塩素化合物は、その中に含有さ
れている成分、殊にエチレンの後使用に不利に作用す
る。従って、廃ガス流からの有機塩素化合物の分離は、
含有されているエチレンを後続の反応に供給し、他面浄
化された廃ガスを燃焼により環境中に導出させることが
できるようにするために不可欠なことである。有機塩素
化合物は、ガス流中で主として塩化エチルとして塩化メ
チルとして存在する。
て反応器から取出される。アセトアルデヒドを水洗浄に
よって単離した後に、主にエチレンからなるガス流は、
循環して反応に戻される。循環ガス中でCO2、メタン、
エタンおよび有機塩素化合物のような望ましくない副生
成物ならびに窒素およびアルゴンのような不活性ガスの
含量が増大することを阻止するために、部分流は、廃ガ
スとして排出される。この廃ガス流は、ガス相中での部
分圧力に相当して存在する有機塩素化合物を含有する。
排出されるガス流の有機塩素化合物は、その中に含有さ
れている成分、殊にエチレンの後使用に不利に作用す
る。従って、廃ガス流からの有機塩素化合物の分離は、
含有されているエチレンを後続の反応に供給し、他面浄
化された廃ガスを燃焼により環境中に導出させることが
できるようにするために不可欠なことである。有機塩素
化合物は、ガス流中で主として塩化エチルとして塩化メ
チルとして存在する。
発明を達成するための手段 本発明は、アセトアルデヒドへのエチレン酸化の際に
生じる廃ガスからの有機塩素化合物の殆ど定量的な分離
を極性有機溶剤を用いる向流抽出によって可能ならしめ
る。
生じる廃ガスからの有機塩素化合物の殆ど定量的な分離
を極性有機溶剤を用いる向流抽出によって可能ならしめ
る。
ところで、本発明方法は、反応生成物の単離後に排出
される廃ガスを233K〜323Kの温度および１〜10バールの
圧力で極性有機溶剤との向流で洗浄除去することを特徴
とする。
される廃ガスを233K〜323Kの温度および１〜10バールの
圧力で極性有機溶剤との向流で洗浄除去することを特徴
とする。
更に、本発明方法は、有利でありかつ選択的に ａ）Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルまたはトリエチレングリコールジメチルエーテル
を極性有機溶剤として使用し； ｂ）向流洗浄の場合の廃ガスと溶剤との容量比が（10〜
300）:1、特に（50〜200）:1であり； ｃ）向流洗浄を253K〜303Kの温度および１〜５バールの
圧力で実施し； ｄ）廃ガスがエチレン、二酸化炭素、酸素、アルゴン、
窒素、メタン、エタンならびに塩化メチルおよび塩化エ
チルの群からの少なくとも１つの有機塩素化合物を含有
し； ｅ）向流洗浄の経過中に有機塩素化合物で負荷される溶
剤を分離工程に供給し、有機塩素化合物を蒸気状で分離
し、こうして有機塩素化合物を分離した溶剤を再び向流
洗浄に装入し； ｆ）溶剤を窒素でストリッピングすることによって有機
塩素化合物を分離することを示すことができる。
メチルホルムアミド、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルまたはトリエチレングリコールジメチルエーテル
を極性有機溶剤として使用し； ｂ）向流洗浄の場合の廃ガスと溶剤との容量比が（10〜
300）:1、特に（50〜200）:1であり； ｃ）向流洗浄を253K〜303Kの温度および１〜５バールの
圧力で実施し； ｄ）廃ガスがエチレン、二酸化炭素、酸素、アルゴン、
窒素、メタン、エタンならびに塩化メチルおよび塩化エ
チルの群からの少なくとも１つの有機塩素化合物を含有
し； ｅ）向流洗浄の経過中に有機塩素化合物で負荷される溶
剤を分離工程に供給し、有機塩素化合物を蒸気状で分離
し、こうして有機塩素化合物を分離した溶剤を再び向流
洗浄に装入し； ｆ）溶剤を窒素でストリッピングすることによって有機
塩素化合物を分離することを示すことができる。
本発明方法によれば、有機塩素化合物は、殆ど定量的
に廃ガス流から除去される。浄化された廃ガスは、主と
してエチレンを二酸化炭素、メタンおよびエタン、不活
性ガスおよび酸素を含有する。この廃ガス流は、後続の
反応に使用することができる。
に廃ガス流から除去される。浄化された廃ガスは、主と
してエチレンを二酸化炭素、メタンおよびエタン、不活
性ガスおよび酸素を含有する。この廃ガス流は、後続の
反応に使用することができる。
抽出によって廃ガスから除去された有機塩素化合物
は、１つの分離工程で共通に廃ガスの溶解された含量と
一緒に溶剤から分離される。この有機塩素化合物は、蒸
留によって浄化することができるかまたは場合によって
は燃焼装置中で燃料として使用することができる。
は、１つの分離工程で共通に廃ガスの溶解された含量と
一緒に溶剤から分離される。この有機塩素化合物は、蒸
留によって浄化することができるかまたは場合によって
は燃焼装置中で燃料として使用することができる。
次に、本発明を図面につき詳説する： パラジウムおよび銅ないしはそれらの化合物から塩酸
水溶液の形で成り立っている触媒系の存在下でエチレン
を酸素で酸化する際に得られる反応生成物は、循環ガス
と一緒に反応器から取出され、かつ導管１を介して洗浄
塔２に供給される。洗浄塔２は、１〜５バールの圧力に
保持される。導管１を通じて供給される生成物の流れ
は、洗浄塔２中で水で向流で洗浄され、かつ導管３を介
して取出される液状含量と、ガス状含量とに分離され
る。有利に288〜303Kの温度で洗浄塔２の頭部に到達す
るガス流は、導管４を介して取出され、かつ循環して反
応器に戻される。１つの部分流は、廃ガスとして抽出さ
れ、導管５を介して洗浄塔６の下面に供給され、この洗
浄塔は、ガスと液体との接触を上昇させるために泡鐘床
または充填塔を包含する。廃ガスは、反応生成物ととも
に二酸化炭素、メタン、エタンおよび有機塩素化合物、
主として未反応のエチレンならびに不活性ガス（窒素、
アルゴン）を含有する。洗浄塔６の頭部で導管７を介し
て233〜323Kの温度を有する極性有機溶剤は供給され、
上向きに流れる廃ガスは、向流で洗浄される。ガス対洗
浄液（極性有機溶剤）の容量比は、10〜300:1、特に50
〜200:1である。有機塩素化合物で負荷された洗浄液
は、導管８を介して取出されかつ分離段９に導かれる。
浄化された廃ガスは、導管10を介して取出しかつ後続の
反応に使用することができる。分離段９中で有機塩素化
合物ならびに廃ガスの溶解された含量は、極性有機溶剤
から導管11を介して除去される。この化合物ならびに含
量は、もう１つの分離段で浄化することができるかまた
は場合によっては燃焼装置中で燃料として使用すること
ができる。引続き、溶剤は、導管７を介して洗浄塔６に
再び供給される。
水溶液の形で成り立っている触媒系の存在下でエチレン
を酸素で酸化する際に得られる反応生成物は、循環ガス
と一緒に反応器から取出され、かつ導管１を介して洗浄
塔２に供給される。洗浄塔２は、１〜５バールの圧力に
保持される。導管１を通じて供給される生成物の流れ
は、洗浄塔２中で水で向流で洗浄され、かつ導管３を介
して取出される液状含量と、ガス状含量とに分離され
る。有利に288〜303Kの温度で洗浄塔２の頭部に到達す
るガス流は、導管４を介して取出され、かつ循環して反
応器に戻される。１つの部分流は、廃ガスとして抽出さ
れ、導管５を介して洗浄塔６の下面に供給され、この洗
浄塔は、ガスと液体との接触を上昇させるために泡鐘床
または充填塔を包含する。廃ガスは、反応生成物ととも
に二酸化炭素、メタン、エタンおよび有機塩素化合物、
主として未反応のエチレンならびに不活性ガス（窒素、
アルゴン）を含有する。洗浄塔６の頭部で導管７を介し
て233〜323Kの温度を有する極性有機溶剤は供給され、
上向きに流れる廃ガスは、向流で洗浄される。ガス対洗
浄液（極性有機溶剤）の容量比は、10〜300:1、特に50
〜200:1である。有機塩素化合物で負荷された洗浄液
は、導管８を介して取出されかつ分離段９に導かれる。
浄化された廃ガスは、導管10を介して取出しかつ後続の
反応に使用することができる。分離段９中で有機塩素化
合物ならびに廃ガスの溶解された含量は、極性有機溶剤
から導管11を介して除去される。この化合物ならびに含
量は、もう１つの分離段で浄化することができるかまた
は場合によっては燃焼装置中で燃料として使用すること
ができる。引続き、溶剤は、導管７を介して洗浄塔６に
再び供給される。
実施例 次に、本発明を実施例につきさらに詳説する。実施例
中で、の記載は標準条件（273.16Kおよび1013バー
ル）に対するものである。
中で、の記載は標準条件（273.16Kおよび1013バー
ル）に対するものである。
例 １ 不変のガス循環を保持するために、エチレン酸化の反
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン77.2容
量％、メタンおよびエタン0.5容量％、二酸化炭素10.5
容量％、窒素およびアルゴン7.3容量％、酸素4.2容量％
ならびに塩化メチル0.3容量％を有する廃ガス流を取出
す。塩化メチルを除去するために、前記廃ガス300/h
を導管５から298Kの温度および４バールの圧力で4mmの
バール（Berl）充填体で充填された洗浄塔６（充填高
さ:2mm、直径:25mm）の底面で導入し、かつ充填体層の
上方で導管７を介して供給されるＮ−メチルピロリドン
と向流で接触させる。洗浄塔６の頭部で組成：エチレン
77.4容量％、メタンおよびエタン0.5容量％、二酸化炭
素10.6容量％、窒素およびアルゴン78.3容量％、酸素4.
2容量％および塩化メチル＜0.01容量％の浄化された廃
ガス毎時189が生じる。底面から流出しかつ塩化メチ
ルおよび他の廃ガス成分で負荷されたＮ−メチルピロリ
ドンは、減圧後に導管８を介して分離段９（脱着塔;6mm
のバール（Berl）充填体層の高さ:1.5mm、直径:25mm）
中に到達する。充填体層の上方に供給されたＮ−メチル
ピロリドンを１バールの圧力下でガス状成分の脱着のた
めに分離段９の塔底部中に導入される窒素２/hで475K
の温度でストリッピングする。この場合には、塔の頭部
の凝縮器で組成：塩化メチル6.9容量％、エチレン60.0
容量％、エタンおよびメタン0.5容量％、二酸化炭素8.5
容量％、窒素およびアルゴン21.0容量％ならびに酸素3.
1容量％を有するガス毎時13が取出される。このガス
は、燃焼装置に供給されるかまたは塩化メチルを取得す
るために後処理される。廃ガス中でのCH3Clは、抽出に
よって23倍だけ濃縮させることができる。分離段９の底
面から流出されるＮ−メチルピロリドンは、検出可能な
ガス状成分を全く含有しない。冷却後、この化合物は再
び洗浄塔６の頭部に戻される。
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン77.2容
量％、メタンおよびエタン0.5容量％、二酸化炭素10.5
容量％、窒素およびアルゴン7.3容量％、酸素4.2容量％
ならびに塩化メチル0.3容量％を有する廃ガス流を取出
す。塩化メチルを除去するために、前記廃ガス300/h
を導管５から298Kの温度および４バールの圧力で4mmの
バール（Berl）充填体で充填された洗浄塔６（充填高
さ:2mm、直径:25mm）の底面で導入し、かつ充填体層の
上方で導管７を介して供給されるＮ−メチルピロリドン
と向流で接触させる。洗浄塔６の頭部で組成：エチレン
77.4容量％、メタンおよびエタン0.5容量％、二酸化炭
素10.6容量％、窒素およびアルゴン78.3容量％、酸素4.
2容量％および塩化メチル＜0.01容量％の浄化された廃
ガス毎時189が生じる。底面から流出しかつ塩化メチ
ルおよび他の廃ガス成分で負荷されたＮ−メチルピロリ
ドンは、減圧後に導管８を介して分離段９（脱着塔;6mm
のバール（Berl）充填体層の高さ:1.5mm、直径:25mm）
中に到達する。充填体層の上方に供給されたＮ−メチル
ピロリドンを１バールの圧力下でガス状成分の脱着のた
めに分離段９の塔底部中に導入される窒素２/hで475K
の温度でストリッピングする。この場合には、塔の頭部
の凝縮器で組成：塩化メチル6.9容量％、エチレン60.0
容量％、エタンおよびメタン0.5容量％、二酸化炭素8.5
容量％、窒素およびアルゴン21.0容量％ならびに酸素3.
1容量％を有するガス毎時13が取出される。このガス
は、燃焼装置に供給されるかまたは塩化メチルを取得す
るために後処理される。廃ガス中でのCH3Clは、抽出に
よって23倍だけ濃縮させることができる。分離段９の底
面から流出されるＮ−メチルピロリドンは、検出可能な
ガス状成分を全く含有しない。冷却後、この化合物は再
び洗浄塔６の頭部に戻される。
例 ２ 不変のガス循環を保持するために、エチレン酸化の反
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン78.5容
量％、二酸化炭素9.7容量％、窒素およびアルゴン7.3容
量％、酸素3.8容量％ならびに塩化メチル0.7容量％を有
する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するために、
前記廃ガス200/hを導管５から253Kの温度および１バ
ールの圧力で22個の泡鐘床を備えた洗浄塔６（直径:50m
m）の底面から導入し、かつ塔の最上面で導管７を介し
て供給されるＮ−メチルピロリドン２/hと、向流で接
触させる。洗浄塔６の頭部で組成：エチレン79.1容量
％、二酸化炭素9.7容量％、窒素およびアルゴン7.3容量
％、酸素3.8容量％および塩化メチル＜0.01容量％の浄
化された廃ガス毎時192が得られる。底面から流出し
かつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたＮ−
メチルピロリドンを、導管８を介して分離段９（脱着
塔）中に導く。充填体層の上方に供給されたＮ−メチル
ピロリドンを475Kの温度および１バールの圧力でガス状
成分の脱着のために分離段９の塔底部中に導入される窒
素0.5/hでストリッピングする。この場合には、塔の
頭部の凝縮器を介して組成：塩化メチル16.5容量％、エ
チレン61.2容量％、二酸化炭素8.2容量％、窒素および
アルゴン11.8容量％ならびに酸素2.3容量％を有するガ
ス毎時8.5が取出される。このガスは、燃焼装置に達
するかまたは塩化メチルを取得するために後処理され
る。廃ガス中での塩化メチルは、前記条件下で抽出によ
って23.6倍だけ濃縮される。分離段９の底面から流出さ
れるＮ−メチルピロリドンは、検出可能なガス状成分を
全く含有しない。冷却後、この化合物は再び抽出に使用
される。
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン78.5容
量％、二酸化炭素9.7容量％、窒素およびアルゴン7.3容
量％、酸素3.8容量％ならびに塩化メチル0.7容量％を有
する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するために、
前記廃ガス200/hを導管５から253Kの温度および１バ
ールの圧力で22個の泡鐘床を備えた洗浄塔６（直径:50m
m）の底面から導入し、かつ塔の最上面で導管７を介し
て供給されるＮ−メチルピロリドン２/hと、向流で接
触させる。洗浄塔６の頭部で組成：エチレン79.1容量
％、二酸化炭素9.7容量％、窒素およびアルゴン7.3容量
％、酸素3.8容量％および塩化メチル＜0.01容量％の浄
化された廃ガス毎時192が得られる。底面から流出し
かつ塩化メチルおよび他の廃ガス成分で負荷されたＮ−
メチルピロリドンを、導管８を介して分離段９（脱着
塔）中に導く。充填体層の上方に供給されたＮ−メチル
ピロリドンを475Kの温度および１バールの圧力でガス状
成分の脱着のために分離段９の塔底部中に導入される窒
素0.5/hでストリッピングする。この場合には、塔の
頭部の凝縮器を介して組成：塩化メチル16.5容量％、エ
チレン61.2容量％、二酸化炭素8.2容量％、窒素および
アルゴン11.8容量％ならびに酸素2.3容量％を有するガ
ス毎時8.5が取出される。このガスは、燃焼装置に達
するかまたは塩化メチルを取得するために後処理され
る。廃ガス中での塩化メチルは、前記条件下で抽出によ
って23.6倍だけ濃縮される。分離段９の底面から流出さ
れるＮ−メチルピロリドンは、検出可能なガス状成分を
全く含有しない。冷却後、この化合物は再び抽出に使用
される。
例 ３ 不変のガス循環を保持するために、エチレン酸化の反
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン76.1容
量％、二酸化炭素10.8容量％、窒素およびアルゴン8.4
容量％、酸素3.5容量％ならびに塩化メチル1.1容量％を
有する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するため
に、前記廃ガス200/hを導管５から273Kの温度および
２バールの圧力で22個の泡鐘床を備えた洗浄塔６の底面
から導入し、かつ塔の最上面で導管７を介して供給され
るトリエチレングリコールジメチルエーテル３/h（ト
リグリメ（Triglyme））と、向流で接触させる。洗浄塔
６の頭部で組成：エチレン77.0容量％、二酸化炭素10.9
容量％、窒素およびアルゴン8.5容量％、酸素3.6容量％
ならびに塩化メチル0.01容量％および塩化エチル0.01容
量％の浄化された廃ガス毎時190.5が得られる。底面
から流出しかつ塩化メチル、塩化エチルおよび他の廃ガ
ス成分で負荷されたトリグリメは、減圧後に導管８を介
して分離段９（脱着塔）中に達する。
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン76.1容
量％、二酸化炭素10.8容量％、窒素およびアルゴン8.4
容量％、酸素3.5容量％ならびに塩化メチル1.1容量％を
有する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するため
に、前記廃ガス200/hを導管５から273Kの温度および
２バールの圧力で22個の泡鐘床を備えた洗浄塔６の底面
から導入し、かつ塔の最上面で導管７を介して供給され
るトリエチレングリコールジメチルエーテル３/h（ト
リグリメ（Triglyme））と、向流で接触させる。洗浄塔
６の頭部で組成：エチレン77.0容量％、二酸化炭素10.9
容量％、窒素およびアルゴン8.5容量％、酸素3.6容量％
ならびに塩化メチル0.01容量％および塩化エチル0.01容
量％の浄化された廃ガス毎時190.5が得られる。底面
から流出しかつ塩化メチル、塩化エチルおよび他の廃ガ
ス成分で負荷されたトリグリメは、減圧後に導管８を介
して分離段９（脱着塔）中に達する。
充填体層の上方で供給されたトリグリメを495Kの温度
および１バールの圧力でガス状成分の脱着のために分離
段９の塔底部中に導入される窒素１/hでストリッピン
グする。この場合には、塔の頭部の凝縮器で組成：塩化
メチル21.0容量％、塩化エチル1.9容量％、エチレン51.
4容量％、二酸化炭素8.6容量％、窒素およびアルゴン1
5.2容量％ならびに酸素1.9容量％を有するガス毎時10.5
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために
燃焼されるかまたは塩化メチルを取得するために後処理
される。分離段９の底面から流出されるトリグリメは、
検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、この
化合物は循環して洗浄塔６に再び供給される。
および１バールの圧力でガス状成分の脱着のために分離
段９の塔底部中に導入される窒素１/hでストリッピン
グする。この場合には、塔の頭部の凝縮器で組成：塩化
メチル21.0容量％、塩化エチル1.9容量％、エチレン51.
4容量％、二酸化炭素8.6容量％、窒素およびアルゴン1
5.2容量％ならびに酸素1.9容量％を有するガス毎時10.5
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために
燃焼されるかまたは塩化メチルを取得するために後処理
される。分離段９の底面から流出されるトリグリメは、
検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、この
化合物は循環して洗浄塔６に再び供給される。
例 ４ 不変のガス循環を保持するために、エチレン酸化の反
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン77.7容
量％、二酸化炭素10.5容量％、窒素およびアルゴン7.3
容量％、酸素4.2容量％ならびに塩化メチル0.3容量％を
有する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するため
に、前記廃ガス3500/hを導管５から298Kの温度および
４バールの圧力で6mmのバール（Berl）充填体で充填さ
れた洗浄塔６（充填高さ2.5m、直径35mm）に導入し、か
つ充填体層の上方で導管７を介して供給されるジメチル
ホルムアミド20/hと、向流で接触させる。洗浄塔６の
頭部で組成：エチレン78.0容量％、二酸化炭素10.5容量
％、窒素およびアルゴン7.3容量％、酸素4.2容量％なら
びに塩化メチル＜0.01容量を有する浄化された廃ガス毎
時3290が生じる。底面から流出しかつ塩化メチルおよ
び他の廃ガス成分で負荷されたジメチルホルムアミド
は、導管８を介して分離段９（脱着塔）中に達する。充
填体層の上方で供給されたジメチルホルムアミドを1.8
バールの圧力でガス状成分の脱着のために分離段９の蒸
発器中で450Kの温度に加熱する。この場合には、塔の頭
部の凝縮器で組成：塩化メチル5.0容量％、エチレン73.
7容量％、二酸化炭素10.0容量％、窒素およびアルゴン
7.1容量％ならびに酸素4.2容量％を有するガス毎時210
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために
燃焼されるかまたは塩化メチルを取得するために後処理
される。
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン77.7容
量％、二酸化炭素10.5容量％、窒素およびアルゴン7.3
容量％、酸素4.2容量％ならびに塩化メチル0.3容量％を
有する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するため
に、前記廃ガス3500/hを導管５から298Kの温度および
４バールの圧力で6mmのバール（Berl）充填体で充填さ
れた洗浄塔６（充填高さ2.5m、直径35mm）に導入し、か
つ充填体層の上方で導管７を介して供給されるジメチル
ホルムアミド20/hと、向流で接触させる。洗浄塔６の
頭部で組成：エチレン78.0容量％、二酸化炭素10.5容量
％、窒素およびアルゴン7.3容量％、酸素4.2容量％なら
びに塩化メチル＜0.01容量を有する浄化された廃ガス毎
時3290が生じる。底面から流出しかつ塩化メチルおよ
び他の廃ガス成分で負荷されたジメチルホルムアミド
は、導管８を介して分離段９（脱着塔）中に達する。充
填体層の上方で供給されたジメチルホルムアミドを1.8
バールの圧力でガス状成分の脱着のために分離段９の蒸
発器中で450Kの温度に加熱する。この場合には、塔の頭
部の凝縮器で組成：塩化メチル5.0容量％、エチレン73.
7容量％、二酸化炭素10.0容量％、窒素およびアルゴン
7.1容量％ならびに酸素4.2容量％を有するガス毎時210
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために
燃焼されるかまたは塩化メチルを取得するために後処理
される。
分離段９の底面から流出するジメチルホルムアミド
は、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、
この化合物は循環して洗浄塔６に再び供給される。
は、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、
この化合物は循環して洗浄塔６に再び供給される。
例 ５ 不変のガス循環を保持するために、エチレン酸化の反
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン77.8容
量％、二酸化炭素10.1容量％、窒素およびアルゴン7.8
容量％、酸素4.0容量％ならびに塩化メチル0.3容量％を
有する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するため
に、前記廃ガス2500/hを導管５から298Kの温度および
４バールの圧力で11個の泡鐘床を備えた洗浄塔６（直径
25mm）に導入し、かつ導管７を介して供給されるジメチ
ルスルホキシド20/hと、向流で接触させる。洗浄塔６
の頭部で組成：エチレン78.3容量％、二酸化炭素9.6容
量％、窒素およびアルゴン8.0容量％、酸素4.1容量％な
らびに塩化メチル＜0.01容量を有する浄化された廃ガス
毎時2390が生じる。底面から流出しかつ塩化メチルお
よび他の廃ガス成分で負荷されたジメチルスルホキシド
は、導管８を介して分離段９（脱着塔）中に達する。充
填体層の上方で供給されたジメチルスルホキシドを1.8
バールの圧力でガス状成分の脱着のために分離段９の蒸
発器中で483Kの温度に加熱する。この場合には、塔の頭
部の凝縮器で組成：塩化メチル6.8容量％、エチレン65.
6容量％、二酸化炭素21.6容量％、窒素およびアルゴン
4.1容量％ならびに酸素1.9容量％を有するガス毎時110
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために
燃焼されるかまたは塩化メチルを取得するために後処理
される。
応ガスから液状生成物の取得後に組成：エチレン77.8容
量％、二酸化炭素10.1容量％、窒素およびアルゴン7.8
容量％、酸素4.0容量％ならびに塩化メチル0.3容量％を
有する廃ガス流を取出す。塩化メチルを除去するため
に、前記廃ガス2500/hを導管５から298Kの温度および
４バールの圧力で11個の泡鐘床を備えた洗浄塔６（直径
25mm）に導入し、かつ導管７を介して供給されるジメチ
ルスルホキシド20/hと、向流で接触させる。洗浄塔６
の頭部で組成：エチレン78.3容量％、二酸化炭素9.6容
量％、窒素およびアルゴン8.0容量％、酸素4.1容量％な
らびに塩化メチル＜0.01容量を有する浄化された廃ガス
毎時2390が生じる。底面から流出しかつ塩化メチルお
よび他の廃ガス成分で負荷されたジメチルスルホキシド
は、導管８を介して分離段９（脱着塔）中に達する。充
填体層の上方で供給されたジメチルスルホキシドを1.8
バールの圧力でガス状成分の脱着のために分離段９の蒸
発器中で483Kの温度に加熱する。この場合には、塔の頭
部の凝縮器で組成：塩化メチル6.8容量％、エチレン65.
6容量％、二酸化炭素21.6容量％、窒素およびアルゴン
4.1容量％ならびに酸素1.9容量％を有するガス毎時110
が取出される。このガスは、蒸気を発生させるために
燃焼されるかまたは塩化メチルを取得するために後処理
される。
分離段９の底面から流出するジメチルスルホキシド
は、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、
この化合物は循環して洗浄塔６に再び供給される。
は、検出可能なガス状成分を全く含有しない。冷却後、
この化合物は循環して洗浄塔６に再び供給される。
図面は、本発明方法を実施するための装置を示す系統図
である。 1,3,4,5,7,8,10,11……導管、2,6……洗浄塔、９……分
離段
である。 1,3,4,5,7,8,10,11……導管、2,6……洗浄塔、９……分
離段
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 45/34 Ｃ０７Ｃ 47/06 45/81 Ｂ０１Ｄ 53/34 １３４Ｆ 47/06 (72)発明者 フーベルト・ダーメン ドイツ連邦共和国ヒュルト・ニーベルン ゲンシュトラーセ ９ (72)発明者 ヴインフリート・ローク ドイツ連邦共和国エルフトシュタツト・ ジークフリート‐フオン‐ヴエスターブ ルク‐シュトラーセ 14
Claims (7)
- 【請求項１】エチレンと酸素とをパラジウムおよび銅ま
たはそれらの化合物から塩酸水溶液の形で成り立ってい
る触媒系の存在下で反応させてアセトアルデヒドに変え
る際に生じる廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法
において、反応生成物の単離後に排出される廃ガスを23
3K〜323Kの温度および１〜10バールの圧力で極性有機溶
剤との向流で洗浄除去することを特徴とする、エチレン
酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法。 - 【請求項２】Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルまたはトリエチレングリコールジメチル
エーテルを溶剤として使用する、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】向流洗浄の場合の廃ガスと溶剤との容量比
は（10〜300）:1、特に（50〜200）:1である、請求項１
または２に記載の方法。 - 【請求項４】向流洗浄を253K〜303Kの温度および１〜５
バールの圧力で実施する、請求項１から３までのいずれ
か１項に記載の方法。 - 【請求項５】廃ガスがエチレン、二酸化炭素、酸素、ア
ルゴン、窒素、メタン、エタンならびに塩化メチルおよ
び塩化エチルの群からの少なくとも１つの有機塩素化合
物を含有する、請求項１から４までのいずれか１項に記
載の方法。 - 【請求項６】向流洗浄の経過中に有機塩素化合物で負荷
される溶剤を分離工程に供給し、有機塩素化合物を蒸気
状で分離し、こうして有機塩素化合物を分離した溶剤を
再び向流洗浄に装入する、請求項１から５までのいずれ
か１項に記載の方法。 - 【請求項７】溶剤を窒素でストリッピングすることによ
って有機塩素化合物を分離する、請求項６記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873736459 DE3736459A1 (de) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | Verfahren zur abtrennung organischer chlorverbindungen aus dem abgas der ethylenoxidation |
| DE3736459.6 | 1987-10-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01157928A JPH01157928A (ja) | 1989-06-21 |
| JP2761497B2 true JP2761497B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=6339235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63268375A Expired - Lifetime JP2761497B2 (ja) | 1987-10-28 | 1988-10-26 | エチレン酸化の廃ガスから有機塩素化合物を分離する方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0313910B1 (ja) |
| JP (1) | JP2761497B2 (ja) |
| CN (1) | CN1014055B (ja) |
| AU (1) | AU606225B2 (ja) |
| CA (1) | CA1312882C (ja) |
| DE (2) | DE3736459A1 (ja) |
| ES (1) | ES2037787T3 (ja) |
| MX (1) | MX169319B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102433154B (zh) * | 2010-09-29 | 2014-10-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种脱除烃油中的有机氯的方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2827380A1 (de) * | 1978-06-22 | 1980-01-10 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von acetaldehyd |
| JPS5835969B2 (ja) * | 1980-04-28 | 1983-08-05 | 三菱化学株式会社 | アセトアルデヒド製造の廃ガスの処理方法 |
| DE3610706A1 (de) * | 1986-03-29 | 1987-10-08 | Bayer Ag | Reinigung von methylchlorid bei der kontinuierlichen methylchlorsilansynthese |
-
1987
- 1987-10-28 DE DE19873736459 patent/DE3736459A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-10-11 DE DE8888116822T patent/DE3867798D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-11 CA CA000579729A patent/CA1312882C/en not_active Expired - Fee Related
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- 1988-10-11 ES ES198888116822T patent/ES2037787T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-25 CN CN88106839A patent/CN1014055B/zh not_active Expired
- 1988-10-26 JP JP63268375A patent/JP2761497B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-27 MX MX013586A patent/MX169319B/es unknown
- 1988-10-27 AU AU24377/88A patent/AU606225B2/en not_active Ceased
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2037787T3 (es) | 1993-07-01 |
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| CN1014055B (zh) | 1991-09-25 |
| DE3867798D1 (de) | 1992-02-27 |
| CN1032780A (zh) | 1989-05-10 |
| JPH01157928A (ja) | 1989-06-21 |
| MX169319B (es) | 1993-06-29 |
| AU2437788A (en) | 1989-05-04 |
| AU606225B2 (en) | 1991-01-31 |
| EP0313910A3 (en) | 1989-10-11 |
| EP0313910A2 (de) | 1989-05-03 |
| CA1312882C (en) | 1993-01-19 |
| DE3736459A1 (de) | 1989-05-11 |
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