JPH01154378A - 磁気円板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ この発明は磁気円板に関するものである。

［従来の技術］ 従来の磁気円板としては第３図に示すものがあった。第
３図は従来の磁気円板の構成を示す断面図で、図におい
て（１）は基板、（２）は液体潤滑膜で、円板全体に均
一に施されている。（３）はデータ領域、（４）はコン
タクト・スタート・ストップ動作領域を示す。

第３図に示すように従来の磁気円板は、塗布型磁気円板
、薄膜型磁気円板ともにデータ領域（３）とコンタクト
・スタート・ストップ動作領域（４）とは、同じ膜厚の
液体潤滑膜（２）が施されている。

又、この液体潤滑膜（２）の膜厚は、ヘッド（図示せず
）を十分に保護するため厚ければ厚いほどよいが、コン
タクト・スタート・ストップ動作領域（４）においては
、厚すぎるとヘッドが円板上に静置された時に、吸着現
象を起こし摺動不能となる。

従って磁気円板においては膜厚を所定値としており、例
えば基板表面粗さの最大値が３００λ程度の薄膜型磁気
円板でとれる最大限の膜厚は１５人程度である。

［発明が解決しようとする問題点コ 上述のようにコンタクト・スタート・ストップ動作領域
では、ヘッドの吸着現象からくる摺動不能になる状態を
防止する目的から、膜厚は所定値以上に厚くすることは
できないが、従来の磁気円板ではコンタクト・スタート
・ストップ動作領域とデータ領域とが同じ膜厚で構成さ
れているため以下に示すような問題点がある。

即ちデータ領域においては、理論上ヘッドが円板表面に
接触することはないのであるが、実際には円板やヘッド
の振動、ゴミの混入等により瞬間的にヘッドが円板に接
触する場合がある。このような場合、膜厚が不十分であ
るとヘッドの耐久性が著しく悪化する。例えば第４図に
示すように、データ領域がコンタクト・スタート・スト
ップ動作領域の厚みである１０〜１５人の場合には、ヘ
ッドが円板表面に接触した場合の耐久時間は１０分前後
であるが、２０〜３０人の厚さがあれば耐久時間は２５
分となり、耐久時間は２．５倍になる。

この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、円板やヘッドの振動、ゴミの混入等によりデータ領
域で瞬間的にヘッドが円板に接触するような場合でも、
ヘッドの耐久時間を向上してヘッドクラッシュの危険性
を防止する磁気円板を得ることを目的としている。

［問題点を解決するための手段］ この発明にかかる磁気円板は、データ領域の液体潤滑膜
の厚さをコンタクト・スタート・ストップ動作領域の膜
厚より厚くした。

［作用］ この発明においては、データ領域の液体潤滑膜の厚さを
コンタクト・スタート・ストップ動作領域の膜厚の厚さ
より厚くしたので、コンタクト・スタート・ストップ動
作領域ではヘッドの吸着現象からくる摺動不能になる状
態を防止し、且つ、円板やヘッドの振動、ゴミの混入等
による、データ領域で瞬間的にヘッドが円板に接触する
ような場合でも、ヘッドの耐久性を向上してクラッシュ
の危険性を防止することができる。

［実施例コ 以下、この発明の実施例を図について説明する。

第１図はこの発明による磁気円板の構成を示す断面図で
、図において第３図と同一符号は同−又は相当部分を示
す。第１図に示すように、この発明においては、データ
領域（３）の液体潤滑膜（２）の膜厚は、コンタクト・
スタート・ストップ動作領域（４）の膜厚より厚くなっ
ている。

次に、この発明による磁気円板の製造方法について、例
えば８吋径磁気円板でガンマフェライト連続薄膜媒体と
フッ素系液体潤滑膜とを用いて製造する方法について説
明する。表面粗さの最大値が３００人程程度仕上げられ
た基板（１）上に、マンガンフェライト連続薄膜媒体を
スパッタリングと酸化処理により、０．１〜０．２μｍ
の厚さに均一に施した後、テープ（例えば８０００　＃
砥粒）によりバニッシングし、微少突起を除去して表面
を滑らかにする。

次に、フッ素系液体潤滑膜を塗布する。この方法は例え
ばＫＲＹＴＯＸ１４３　　（商品名）２ｇを、７０リナ
ート７２（商品名）１！ｊに溶解させた希薄溶液に浸積
して、円板全体の膜厚が乾燥（例えば１５０°Ｃ９１ｈ
ｒ）後に２０人〜３０人となるような時間で引き上げて
、円板全面に均一な潤滑膜を塗布する。

次に、コンタクト・スタート・ストップ動作領域（４）
の厚みを、ヘッドが吸着しない最大限の厚さ、即ち１０
〜１５Ａ°まで薄くするための処理を行う。

この処理として第１には加熱処理がある。即ちＫＲＹＴ
ＯＸ１４３は、３５０°Ｃを超えると分解して、加熱に
より蒸発逸散するが、その間までは安定している０例え
ば３２０°Ｃで加熱した場合の膜厚の時間的な変化は、
第２図に示す通りである。この原理を応用して加熱処理
によりコンタクト・スタート・ストップ動作領域（４）
の膜厚を薄くする。

実際の処理方法はレーザビームを用いて部分加熱を行う
が、この場合に照射部分の表面温度が３５０°Ｃを超え
ないようにエネルギー密度や円板回転速度を調整して行
う必要がある。

第２の処理方法としては、紙又は布による拭き取り処理
がある。実際の処理方法としては円板を５００〜２００
Ｏｒｐｍの間の適当な速度で回転させ、コンタクト・ス
タート・ストップ動作領域（４）に対応する巾の紙又は
布をゴムローラで押さえて行う。

以上の処理を行い部分的に液体潤滑膜（２）を薄くした
後、円板を１５０°Ｃで３０分程度加熱し、溶剤成分を
完全に除去して仕上げる。

なお上記実施例ではガンマフェライト連続薄膜媒体を使
用した場合の製造方法について説明したが、これに限ら
ず塗装媒体や金属薄膜媒体を用いてもよく、また基板表
面粗さの最大値を３００人程庇上して説明しているが、
１５００人程度程度は適用可能であり、基板表面粗さが
粗いほど液体潤滑膜を厚く施すことが可能となる。

［発明の効果コ この発明は以上説明したとおり、データ領域の液体潤滑
膜の厚さをコンタクト・スタート・ストップ動作領域の
膜厚の厚さより厚くしたので、コンタクト・スタート・
ストップ動作領域ではヘッドの吸着現象から（る摺動不
能になる状態を防止し、且つ、円板やヘッドの振動、ゴ
ミの混入等による、データ領域で瞬間的にヘッドが円板
に接触するような場合でも、ヘッドの耐久性を向上して
ヘッドクラッシュの危険性を防止し、装置の信頼性を向
上させることができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明による磁気円板の構成を示す断面図、
第２図は加熱温度と膜厚との関係を示す図、第３図は従
来の磁気円板の構成を示す断面図、第４図は膜厚と耐久
時間との関係を示す図。 （１）は基板、（２）は液体潤滑膜、（３）はデータ領
域、（４）はコンタクト・スタート・ストップ領域。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示すものと
する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 表面に潤滑膜を施した円板状の基板の同心円上にコンタ
   クト・スタート・ストップ動作領域とデータ領域とを有
   する磁気円板において、 上記データ領域上の潤滑膜の厚さを上記コンタクト・ス
   タート・ストップ動作領域上の潤滑膜の厚さより厚くし
   たことを特徴とする磁気円板。