JPH04195922A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的コ （産業上の利用分野） 本発明は、磁気ディスク装置に用いられる磁気ディスク
の製造方法に関する。

（従来の技術） 磁気ディスクに対してデータの記録、再生を行う磁気デ
ィスク装置では、一般にコンタクト・スタート・ストッ
プ（ＣＳ　Ｓ）方式を採用している。

これは装置作動時にはディスクの回転に伴う空気流と磁
気ヘッドの動圧効果により磁気ヘッドを磁気ディスクよ
り浮上させ、装置停止時は磁気ヘッドを磁気ディスクに
接触した状態にしておく方式である。したがって、装置
起動時および停止時は磁気ヘッドと磁気ディスクの摺動
を繰り返すことにより、磁気ヘッド、磁気ディスクとも
摩耗して装置に異常が生じてしまう。そこで、磁気ヘッ
ド、磁気ディスクの摩耗を防ぐためにディスク表面に液
体潤滑剤を塗布している。しかし、装置の停止中は磁気
ヘッドは磁気ディスクに押し付けられているので、磁気
ディスクの表面粗さが小さすぎると、磁気ヘッド、磁気
ディスクの接触面においてヘッドとディスクが吸着して
しまう。また、磁気ディスクの素材によっては液体潤滑
剤を塗布しなくても、空気中の水分を吸って凝縮する場
合もある。そこで、磁気ヘッドと磁気ディスクの吸着を
防止するために、磁気ディスクのサブストレート上に下
地層、磁気記録層、保護層からなる連続薄膜を成膜させ
る前に、サブストレート表面に適度な表面粗さを持たせ
るよう加工することが考えられる。このようなサブスト
レート表面の加工技術をテクスチャリングという。従来
の磁気ディスクは、表面をＮｉＰメツキしたアルミ合金
のサブストレート上に磁性材料からなる記録層等をスパ
ッタ、メツキ等で成膜してなるが、このサブストレート
を、磁性層等の成膜前に、この表面を研磨テープあるい
は研磨砥粒等により磁気ディスクの周方向に研磨し、デ
ィスク表面に周状の浅い溝をつけ、適度な表面粗さを持
たせていた。

ところが、上述のように、研磨テープあるいは研磨砥粒
等によりディスク表面を物理的に研磨する方法では、部
分的に鋭い凸部やパリが生じてしまい、全体に安定した
凹凸を得ることができない。

そのため、このような鋭い凸部やパリを除去する方法と
してテープクリーニングやバーニングを行っているが、
充分に安定した凹凸を得ることができない。したがって
、サブストレート上に下地層、磁気記録層、保護層を堆
積した後の磁気ディスク表面にも安定した凹凸を得るこ
とができず、磁気ヘッドが磁気ディスク表面の凸部やパ
リと接触して磁気ヘッド、磁気ディスクの双方か傷付い
たり、ヘッドクラッシュを起こしたりしていた。

（発明か解決しようとする課題） 以上詳述したように、従来の磁気ディスク製造方法では
、表面に安定した微細な凹凸を有する磁気ディスクを得
ることかできないため磁気ヘッド、磁気ディスクを傷付
けたり、クラッシュに結び付いたりするという不具合か
あった。

本発明は、連続薄膜を形成する前のサブストレートにフ
ォトレジストを用いて微細な凹凸を形成することにより
、表面に安定した凹凸を有する磁気ディスクを製造する
方法を提供することを目的とする。

［発明の構成コ （課題を解決するための手段） 本発明の磁気ディスク製造方法では、下地層、磁気記録
層、保護層等の連続薄膜をサブストレート上に成膜させ
る前に、サブストレート表面にフォトレジストを利用し
て安定した凹凸を形成し、このサブストレート上に下地
層、磁気記録層、保護層等を形成することを特徴とする
。

（作用） 本発明の磁気ディスク製造方法によれば、フォトレジス
トを利用してサブストレート上に凹凸を形成するため、
磁気テープ、磁気砥粒等を使用して物理的に凹凸を形成
する場合に比べ、全体に安定した凹凸を形成することが
でき、磁気ヘッドに悪影響を与えることなく、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの吸着を防止することかできる。また
、凹凸形成後にテープクリーニング、バーニングで後処
理をする必要もない。さらに、研磨が不要なため、サブ
ストレートがガラス等の硬度の高い素材からなる場合に
も適用することができる。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。

第１図は、本実施例で製造される磁気ディスクの外観図
であり、第２図は、第１図中のＣ部分の拡大図である。

磁気ディスク表面には周方向に微細な溝が形成されてい
る。また、第３図は、上記磁気ディスクの模式的な断面
図を示した。上記磁気ディスクは、サブストレート１上
に、下地層２、磁気記録層３．保護層４が順次形成され
ている。

サブストレート１は、ＮｉＰをメツキしたアルミニウム
で形成されており、表面に微細な凹凸か形成されている
。下地層２は、磁気記録層３の磁気特性を良好にすると
同時に、磁気ディスク表面の凹凸を滑らかにする働きが
ある。磁気記録層３は、ＣｏＮ　ｉ　Ｃｒよりなり、磁
性材料の磁化反転により情報が記録、再生される。保護
層４は、磁気ディスクにＣ８Ｓの耐久性や耐食性を持た
せるために設けられている。

以下に、第４図および第５図に沿って上記磁気ディスク
の具体的な製造方法を詳細に説明する。

一実施例１− 本実施例での磁気ディスクの製造方法を第４図に模式的
に示した。

まず、サブストレート１上に磁気ディスク表面の最適な
凹凸形状に合うように選択された形状パターンにフォト
レジスト５を形成する（工程１）。

次にエツチングによりフォトレジスト５が形成されてい
ない表面部分を除去する（工程２）。エツチングには、
イオンビームによるドライエツチングおよびウェットエ
ツチング等があり、サブストレートの素材により選択す
る。また、エッチングの深さはＣ８Ｓ耐久性、対吸着性
、記録特性を考慮すると約３００　ｎｍ以下が適当であ
る。エツチングの種類によっては、フォトレジスト５が
形成された部分か除去される場合もある。次に前期工程
１てサブストレート１上に形成したフォトレジスト５を
除去する（工程３）。このようにしてサブストレート１
表面にフォトレジスト５のパターン通りの微細な凹凸が
形成される。

本実施例によれば、サブストレートの素材によらず安定
した凹凸を有する磁気ディスクを得ることかでき、凹凸
形成後にテープクリーニング等により処理する必要もな
い。

一実施例２− 本実施例での磁気ディスクの製造方法を第５図に模式的
に示した。

まず、実施例１の場合と同様に、サブストレート１上に
フォトレジスト５を形成する（工程１）。

次にフォトレジスト５か形成されていない隙間にスパッ
タ、メツキ等により凸部となる物質６を堆積させる（工
程２）。次にフォトレジスト５を除去する（工程３）。

このようにして、工程１においてフォトレジスト５を形
成した部分に凹部が形成され、全体として安定した微細
な凹凸がサブストレート１上に形成される。

上述のようにして表面を加工したサブストレート上に、
さらに、下地層、磁気記録層、保護層をスパッタ、メツ
キ等により順次成膜して、より表面の凹凸が滑らかな磁
気ディスクを得ることができる。

［発明の効果］ 以上詳述したように、本発明の磁気ディスク製造方法に
よれば、磁気ディスクの素材によらずディスク表面に適
度な凹凸を有する磁気ディスクを製造することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図、本発明の磁気ディスクの外観図、第２図は、磁
気ディスク表面の拡大図、第３図は磁気ディスクの模式
的な断面図であり、第４図および第５図は、磁気ディス
クの製造工程を示す模式図である。 １・・・・・・サブストレート ２・・・・・・下地層 ３・・・・・・記録層 ４・・・・・・保護層 ５・・・・・フォトレジスト ６・・・・・・堆積層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）サブストレート表面にフォトレジストを利用して
   凹凸を形成する工程と、前記サブストレート上に少なく
   とも磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする磁
   気ディスクの製造方法。
2. （２）上記サブストレートがガラスで形成されているこ
   とを特徴とする請求項１記載の磁気ディスクの製造方法
   。