JPH04157620A - 磁気ディスク基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 この発明は、たとえばコンピュータシステムの記憶装置
である磁気ディスク装置を構成する磁気ディスクの製造
過程における磁気ディスク基板の製造方法に関し、 磁気ディスク装置の磁気ディスク上でリード／ライト・
ヘッドがコンタクト・スタート・ストップ（いわゆるＣ
３５）する位置で、リード／ライト・ヘッドの磁気ディ
スクへの吸着を発生し難くするとともに、磁気ディスク
とリード／ライト・へ・ノドとの間の摩擦を少なくする
ことを目的とし、回転している磁気ディスク基板の平面
に研磨部材を押し当てて円周方向に微細な溝を形成する
際の潤滑剤として、および微細な溝の形成後に磁気ディ
スク基板の平面を洗浄する洗浄剤として、純水のみを磁
気ディスク基板の平面にかけて微細な溝を形成および磁
気ディスク基板の平面の洗浄を行うようにしたことを特
徴とするものである。

［産業上の利用分野］ この発明は、たとえばコンピュータシステムの記憶装置
である、磁気ディスク装置を構成する磁気ディスクの製
造過程における磁気ディスク基板の製造方法に関するも
のである。

〔従来の技術〕

近年、高密度記録が可能な磁気ディスクとして、第７図
に示すように、アルミニウム合金などの磁気ディスク基
板１にスパッタリングやメツキなどの方法でＣｏ系合金
の金属薄膜を磁性被膜として成膜する、いわゆるメタル
被膜２の磁気ディスクが主流になりつつある。

このメタル被膜の磁気ディスクは、いわゆるテクスチャ
リングと呼ばれる手法により、成膜されるメタル被膜２
に、磁気記録・再住持性を良くする磁気異方性を付ける
ためと、リード／ライト・ヘッドが磁気ディスクに吸着
するのを防ぎ、かつ、リード／ライト・ヘッドと磁気デ
ィスクとの間の摩擦を小さくするために、回転している
磁気ディスク基板ｌの平面１ａに研磨部材を押し当てて
円周方向に微細な溝１ｂを形成した後に、メタル被Ｍ２
と保護膜３とを順次成膜し、最後に保護膜３の上に潤滑
剤膜４を塗布して磁気ディスクを製造するのが一般的で
ある。

〔発明が解決しようとする課題〕 前記のように、磁気特性の向上を図るとともに、リード
／ライト・ヘッドが磁気ディスクに吸着するのを防ぎ、
かつ、リード／ライト・へ・ノドと磁気ディスクとの間
の摩擦を小さくするために、テクスチャリングと呼ばれ
る手法により、磁気ディスク基板ｌの平面１ａに円周方
向に微細な溝１ｂを形成するものであり、リード／ライ
ト・へ・ノドの磁気ディスクからの低浮上化に伴い、磁
気ディスク基板１に形成する前記円周方向の溝１ｂをよ
り微細にしなければならなくなっており、その結果、磁
気ディスクへのリード／ライト・へ・ノドの吸着が発生
し易くなっている。

また、前記テクスチャリングにおいて、回転している磁
気ディスク基板１の平面１ａに研磨部材を押し当てて円
周方向に微細な溝１ｂを形成する際に、磁気ディスク基
板１と研磨部材との間に介在させる研削油剤は、冷却性
、潤滑性、浸潤性を向上させるために用いられており、
これらの三つの性能を満たすものとして、水溶性の研削
油剤が−ｉ的に用いられている。この水溶性の研削油剤
には多くの種類があるが、何れも前記テクスチャリング
の後の洗浄で除去が難しく、また、この水溶性の研削油
剤を除去するために洗剤を使用しても、その洗剤自体が
磁気ディスク基板上に残留して磁気ディスク基板を汚染
する。

このような磁気ディスク基板の汚染は、前記テクスチャ
リングの後の磁気ディスク基板１の上にメタル被膜２と
保護膜３とを順次成膜した後でも表面に影響を及ぼし、
前記保護膜３上に塗布した潤滑剤膜４の特性が悪くなり
、リード／ライト・ヘッドと磁気ディスクとの摩擦が大
きく、かつ、リード／ライト・ヘッドが磁気ディスクに
吸着し易くなる。

また、前記保護膜３の上に塗布する潤滑剤膜４を蕩（す
れば、前記リード／ライト・ヘッドの吸着は回避できる
ものの、潤滑性が悪化し、耐久性が悪くなってしまう、
という問題があった。

この発明は、このような従来の課題を解消するために行
ったものであって、磁気ディスク装置の磁気ディスクと
リード／ライト・ヘッドとの間の摩擦を小さくするとと
もに、リード／ライト・ヘッドがコンタクト・スタート
・ストップ（いわゆるＣ３５）する位置で、リード／ラ
イト・ヘッドの磁気ディスクへの吸着を発生し難くする
ことを目的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

この発明は、前記のような課題を解決するため、回転し
ている磁気ディスク基板１１の平面１１ａに研磨部材１
３を押し当てて円周方向に微細な溝を形成する際の潤滑
剤として、および微細な溝の形成後に磁気ディスク基板
１１の平面１１ａを洗浄する洗浄剤として、純水Ｗのみ
を磁気ディスク基板１１の平面１１ａにかけて微細な溝
を形成および磁気ディスク基板１１の平面１１ａの洗浄
を行うようにしたことを特徴とする磁気ディスク基板の
製造方法としたものである。

（作用） この発明のような磁気ディスク基板の製造方法によると
、回転している磁気ディスク基板１１の平面１１ａに研
磨部材１３を押し当てて円周方向に微細な溝を形成する
際に、磁気ディスク基板の平面と研磨部材との間に純水
Ｗのみを介在させ、また、微細な溝の形成後に磁気ディ
スク基板１１の平面１１ａを洗浄するため純水Ｗのみを
かけることによって、従来のように磁気ディスクの平面
に円周方向の微細な溝を形成する際に、この磁気ディス
ク基板の平面に潤滑剤として水溶性の研削油剤をかけ、
微細な溝の形成後に磁気ディスク基板の平面を洗浄する
ために水あるいは洗剤をかけたときのように、磁気ディ
スク基板の平面が汚染されないので、その後にこの磁気
ディスク基板の平面に磁性被膜と保護膜とを順次成膜し
た後でも表面に悪影響が及ばず、また、前記保護膜上に
塗布した潤滑剤膜の特性が悪くなり、リード／ライト・
ヘッドと磁気ディスクとの摩擦が大きく、リード／ライ
ト・ヘッドが磁気ディスクに吸着し易くなる、というこ
とがなくなる。

［実施例］ 以下、この発明の実施例を第１図および第２図に従って
詳細に説明する。

第１図は磁気ディスク基板の平面に円周方向の微細な溝
を形成する、いわゆるテクスチャリングを行う装置の概
略斜視図、第２図はテクスチャリングを行う装置の正面
図であり、１１は図示しない回転機構に支持されて回転
駆動される磁気ディスク基板、１２はテープ状の研磨部
材１３の供給リール、１４は同巻取リール、１５はこの
テープ状の研磨部材１３を磁気ディスク基板１１の平面
１１ａに押圧する押圧ローラー、１６．１６はこのテー
プ状の研磨部材１３のガイドローラー、１７はこのテー
プ状の研磨部材１３を長手方向に移動させるキャプスタ
ン、１８はこのキャプスタン１７にこのテープ状の研磨
部材１３を押し当てるピンチローラ−１１９は前記押圧
ローラー１５の押圧調整部材であり、これらによって磁
気ディスク基板１１の平面１１ａに円周方向に微細な溝
を形成する機構が構成されており、磁気ディスク基板１
１の他面にも同様の機構が構成されている。

１２′はクリーニングテープ１３′の供給リール、１４
′は同巻取リール、１５’はこのクリーニングテープ１
３′を磁気ディスク基板１１に押圧する押圧ローラー、
１６’、１６’　はこのクリーニングテープ１３′のガ
イドローラー、１７′はこのクリーニングテープ１３′
を長手方向に移動させるキャプスタン、１８′はこのキ
ャプスタン１７′にこのクリーニングテープ１３′を押
し当てるピンチローラ−であり、これらによって磁気デ
ィスク基板１１のクリーニング機構が構成されており、
磁気ディスク基板１１の他面にも同様のクリーニング機
構が構成されている。

２０は磁気ディスク基板１１の平面１１ａに純水Ｗをか
ける部材であり、前記テープ状の研磨部材１３を、回転
している磁気ディスク基板１１の平面１１ａに押し当て
て円周方向に微細な溝を形成する際に、磁気ディスク基
板１１の平面１１ａとテープ状の研磨部材１３との間に
純水Ｗをかける場合と、微細な溝の形成後に磁気ディス
ク基板１１の平面１１ａの洗浄を行うときに、磁気ディ
スク基板１１の平面１１ａとクリーニングテープ１３’
　との間に純水Ｗをかける場合とに使用する。

この発明は、前記のようなテクスチャリングを行う装置
によって、回転している磁気ディスク基板１１の平面１
１ａに研磨部材１３を押し当てて円周方向に微細な溝を
形成する際の潤滑剤として、および微細な溝の形成後に
磁気ディスク基板１１の平面１１ａを洗浄する洗浄剤と
して、純水Ｗのみを磁気ディスク基板１１の平面１１ａ
にかけて微細な溝を形成および磁気ディスク基板１１の
平面１１ａの洗浄を行うようにした磁気ディスク基板の
製造方法である。

第３図は、この発明によって磁気ディスク基板１１の平
面１１ａに微細な溝を形成する際および磁気ディスク基
板１１０平面１１ａを洗浄する際に、磁気ディスク基板
１１に純水Ｗをかけて製造した、すなわち、純水でテク
スチャリングを行い純水で洗浄した磁気ディスクとリー
ド／ライト・ヘッドとを摺動させた摩擦係数の測定結果
を示したものであり、（Ａ）図は初期摺動において１ｒ
ｐｍで摺動させて４回測定した結果を示すものである。

（Ｂ）図は１１００ｒｐで１時間摺動後、ｌｒｐｍで摺
動させて４回測定した結果を示すものである。

（Ｃ）図は１１００ｒｐで６０分摺動させて測定した結
果を示したものである。　　　　”第４図の（Ａ）、（
Ｂ）、（Ｃ）は、従来の磁気ディスクの製造方法におい
て、磁気ディスク基板の平面に微細な溝を形成する際に
磁気ディスク基板の平面に水をかけ、磁気ディスク基板
の平面を洗浄する際に洗剤をかけて、前記第３図と同様
に測定した結果を示したものであり、摩擦係数が第３図
に示す測定結果に比べて大きくなっていることがわかる
。

第５図の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、従来の磁気ディス
クの製造方法において、磁気ディスク基板の平面に微細
な溝を形成する際に磁気ディスク基板の平面に研削油剤
をかけ、磁気ディスク基板の平面を洗浄する際に洗剤を
かけて、前記第３図と同様に測定した結果を示したもの
であり、摩擦係数が第３回および第４図に示す測定結果
に比べて大きくなっていることがわかる。

第６図の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、従来の磁気ディス
クの製造方法において、磁気ディスク基板の平面に微細
な溝を形成する際に磁気ディスク基板の平面に研削油剤
をかけ、磁気ディスク基板の平面を洗浄する際に水をか
けて、前記第３図と同様に測定した結果を示したもので
あり、摩擦係数が第３図および第４図に示す測定結果に
比べて大きくなっていることがわかる。

この発明のような磁気ディスク基板の製造方法、すなわ
ち、磁気ディスク基板の平面に微細な溝を形成する際に
磁気ディスク基板の平面に純水をかけ、磁気ディスク基
板の平面を洗浄する際にも純水をかけて、磁気ディスク
基板の平面に微細な溝を形成して磁気ディスクを製造す
ることにより、従来のように、磁気ディスク基板の平面
に円周方向の微細な溝を形成する際に、この磁気ディス
ク基板の平面に潤滑剤として水溶性の研削油剤をかけ、
微細な溝の形成後に磁気ディスク基板の平面を洗浄する
ために水あるいは洗剤をかけたときのように、磁気ディ
スク基板の平面が汚染されないので、その後にこの磁気
ディスク基板の型面に磁性被膜と保護膜とを順次成膜し
た後でも表面に悪影響が及ばず、また、前記保護膜上に
塗布した潤滑剤膜の分布が悪くなり、リード／ライト・
ヘッドと磁気ディスクとの摩擦が大きく、リード／ライ
ト・ヘッドが磁気ディスクに吸着し易くなる、というこ
とがなくなる。

〔発明の効果〕

この発明は、以上説明したように、回転している磁気デ
ィスク基板の平面に研磨部材を押し当てて円周方向に微
細な溝を形成する際の潤滑剤として、および微細な溝の
形成後に磁気ディスク基板の平面を洗浄する洗浄剤とし
て、純水のみを磁気ディスク基板の平面にかけて微細な
溝を形成および磁気ディスク基板の平面の洗浄を行うよ
うにしたことを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法
としたので、従来のように磁気ディスクの平面に円周方
向の微細な溝を形成する際に、この磁気ディスク基板の
平面に潤滑剤として水溶性の研削油剤をかけ、微細な溝
の形成後に磁気ディスク基板の平面を洗浄するために水
あるいは洗剤を掛けたときのように、磁気ディスク基板
の平面が汚染されないので、その後にこの磁気ディスク
基板の平面に磁性被膜と保護膜とを順次成膜した後でも
表面に悪影響が及ばず、また、前記保護膜上に塗布した
潤滑剤膜の特性が悪（なり、リード／ライト・ヘッドと
磁気ディスクとの摩擦が大きく、り一ド／ライト・ヘッ
ドが磁気ディスクに吸着し易くなる、という問題をなく
すことができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の作業手順の一つであるテクスチャリ
ングを行う装置の概略斜視図、第２図は同テクスチャリ
ングを行う装置の正面図、第３図はこの発明の方法によ
って製造した磁気ディスクとり一ド／ライト・ヘッドと
の摩擦係数を示す図、第４図乃至第６図は従来の方法に
よって製造した磁気ディスクとり一ド／ライト・ヘッド
との摩擦係数を示す図、第７図は従来一般の磁気ディス
クの一部拡大断面図である。 １　・・・磁気ディスク基板 １ａ・・・平面 １ｂ・・・微細な溝 ２　・・・メタル被膜 ３　・・・保護膜 ４　・・・潤滑剤膜 １１・・・磁気ディスク基板 １１ａ・・・平面 １２．１２’・・・供給リール １３・・・研磨部材 １３′・・・クリーニングテープ １４．１４’・・・巻取リール １５．１５’　・・・押圧ローラー １６．１６’　・・・ガイドローラー １７．１７’・・・キヤプスタン １８．１８’　・・・ピンチローラ− １９・・・押圧調整部材 ２０・・・純水をかける部材 Ｗ・・・純水

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 回転している磁気ディスク基板（１１）の平面（１１ａ
   ）に研磨部材（１３）を押し当てて円周方向に微細な溝
   を形成する際の潤滑剤として、および微細な溝の形成後
   に磁気ディスク基板（１１）の平面（１１ａ）を洗浄す
   る洗浄剤として、純水（Ｗ）のみを磁気ディスク基板（
   １１）の平面（１１ａ）にかけて微細な溝を形成および
   磁気ディスク基板（１１）の平面（１１ａ）の洗浄を行
   うようにしたことを特徴とする磁気ディスク基板の製造
   方法。