JPH01144423A - 滑り性の改良法 - Google Patents
滑り性の改良法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 40
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 125
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 99
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 58
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 33
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- LRCFXGAMWKDGLA-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;hydrate Chemical compound O.O=[Si]=O LRCFXGAMWKDGLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 23
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 abstract description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 2
- 229960004029 silicic acid Drugs 0.000 abstract 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract 1
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 65
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 19
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 8
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 150000002927 oxygen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N terephthalic acid group Chemical group C(C1=CC=C(C(=O)O)C=C1)(=O)O KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCVOGSZTONGSQY-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichloroanisole Chemical compound COC1=C(Cl)C=C(Cl)C=C1Cl WCVOGSZTONGSQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJAQAPZYRPSEKX-UHFFFAOYSA-N COC=1C(=C(C=CC1)[SiH](C)C)OC Chemical compound COC=1C(=C(C=CC1)[SiH](C)C)OC KJAQAPZYRPSEKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000001479 atomic absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- OJZNZOXALZKPEA-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(C)C1=CC=CC=C1 OJZNZOXALZKPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- AONDIGWFVXEZGD-UHFFFAOYSA-N diacetyloxy(methyl)silicon Chemical compound CC(=O)O[Si](C)OC(C)=O AONDIGWFVXEZGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYYQWMDBQFSCPB-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethylsilane Chemical compound COC([SiH3])OC XYYQWMDBQFSCPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical group 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229940082328 manganese acetate tetrahydrate Drugs 0.000 description 1
- CESXSDZNZGSWSP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O CESXSDZNZGSWSP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004530 micro-emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- GSGDTSDELPUTKU-UHFFFAOYSA-N nonoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 GSGDTSDELPUTKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)C QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XREXPQGDOPQPAH-QKUPJAQQSA-K trisodium;[(z)-18-[1,3-bis[[(z)-12-sulfonatooxyoctadec-9-enoyl]oxy]propan-2-yloxy]-18-oxooctadec-9-en-7-yl] sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].CCCCCCC(OS([O-])(=O)=O)C\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CC(CCCCCC)OS([O-])(=O)=O)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CC(CCCCCC)OS([O-])(=O)=O XREXPQGDOPQPAH-QKUPJAQQSA-K 0.000 description 1
- 238000005199 ultracentrifugation Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は滑り性の改良法にl3tI?lるものである。
更に詳しく【よ、ポリエステルフィルムの滑り性を改良
させる為に、特定のシリカ球状微粒子をポリエステルに
特定量添加する滑り性の改良法に関するものである。
させる為に、特定のシリカ球状微粒子をポリエステルに
特定量添加する滑り性の改良法に関するものである。
(従来の技術)
ポリエステルは優れた物理的・化学的性能を有しており
、それ故その成形品であるポリエステルフィルムは磁気
テープ用、光学写真用、蒸着用、コンデンサー用、包装
用等に、広く用いられている。しかしながら、その優れ
た性能にもかかわらず、そのフィルム製造工程中に種々
の好ましくないトラブルが生じる場合がある。これはポ
リエステルフィルムの滑り性の悪さに起因するbのと考
えられている。さらに、ポリエステルフィルムをその表
面に磁性層を塗布又は蒸着などして磁気テープとして用
いる場合には、特に滑り性の良さが要求される。これは
、フィルムの滑り性が悪いとフィルムの製造時、磁性層
塗布又μ蒸a115あるいはその他フィルム取扱い時に
フィルム表面に傷、しわ等が発生し、その為ドロップ・
アウトが起こり磁気テープの品質に問題が生じるからで
ある。
、それ故その成形品であるポリエステルフィルムは磁気
テープ用、光学写真用、蒸着用、コンデンサー用、包装
用等に、広く用いられている。しかしながら、その優れ
た性能にもかかわらず、そのフィルム製造工程中に種々
の好ましくないトラブルが生じる場合がある。これはポ
リエステルフィルムの滑り性の悪さに起因するbのと考
えられている。さらに、ポリエステルフィルムをその表
面に磁性層を塗布又は蒸着などして磁気テープとして用
いる場合には、特に滑り性の良さが要求される。これは
、フィルムの滑り性が悪いとフィルムの製造時、磁性層
塗布又μ蒸a115あるいはその他フィルム取扱い時に
フィルム表面に傷、しわ等が発生し、その為ドロップ・
アウトが起こり磁気テープの品質に問題が生じるからで
ある。
また、製品としての磁気テープはデーブ走行性の良さが
不可欠である為、良好な滑り性が求められる。その為に
従来より、ポリエステル中に微粒子を存在させて成形し
フィルム表面に凹凸を形成せしめて11!擦抵抗を低下
ざμる方法が実際に行なわれている。
不可欠である為、良好な滑り性が求められる。その為に
従来より、ポリエステル中に微粒子を存在させて成形し
フィルム表面に凹凸を形成せしめて11!擦抵抗を低下
ざμる方法が実際に行なわれている。
一方、近年ポリニスデルフィルムの1t91u化と共に
磁気記録の高密度化、高性能化が一段と促進されるにつ
け、フィルムの滑り性と同時にフィルムの表面の平坦化
という一見矛盾する性能が要求されるようになってきた
。この招入れない性能の要求に対する解決策として、フ
ィルム表面に微細でしかも均一な凹凸を施ず方法が考え
られる。
磁気記録の高密度化、高性能化が一段と促進されるにつ
け、フィルムの滑り性と同時にフィルムの表面の平坦化
という一見矛盾する性能が要求されるようになってきた
。この招入れない性能の要求に対する解決策として、フ
ィルム表面に微細でしかも均一な凹凸を施ず方法が考え
られる。
ところで従来、フィルム表面に凹凸を形成させる方法と
して(1)ポリエステル合成時に使用する触媒、着色防
止剤などの一部又は全部を反応過程で析出せしめて微粒
子として存在させる方法、(2)ポリエステル合成時の
任意の段階で外部より無機微粒子を添加する方法が提案
されている。
して(1)ポリエステル合成時に使用する触媒、着色防
止剤などの一部又は全部を反応過程で析出せしめて微粒
子として存在させる方法、(2)ポリエステル合成時の
任意の段階で外部より無機微粒子を添加する方法が提案
されている。
しかしく1)の方法はポリエステルの合成反応中粒子を
生成させる方法である為、粒子mや粒子径のコントロー
ルが困難であり、粗大粒子の生成が避は難いなどの問題
があった。
生成させる方法である為、粒子mや粒子径のコントロー
ルが困難であり、粗大粒子の生成が避は難いなどの問題
があった。
一方、(2)の方法で添加覆る無機微粒子としては、シ
リカ、酸化チタン、シリカ−アルミナ化合物、シリカ−
マグネシア化合物、ガラス粉末、硫酸バリウム、炭酸カ
ルシウム、クレイ、雲母、タルク、リン酸カルシウム、
リン酸マグネシウム等従来工業的に入手しつる素材で、
平均粒径が0.001〜10μ腫のものがフィルムの用
途に応じて使い分けられている(特公昭59−8216
号、特開昭52−3645@等)。
リカ、酸化チタン、シリカ−アルミナ化合物、シリカ−
マグネシア化合物、ガラス粉末、硫酸バリウム、炭酸カ
ルシウム、クレイ、雲母、タルク、リン酸カルシウム、
リン酸マグネシウム等従来工業的に入手しつる素材で、
平均粒径が0.001〜10μ腫のものがフィルムの用
途に応じて使い分けられている(特公昭59−8216
号、特開昭52−3645@等)。
しかし、従来から用いられているこれらの無機微粒子は
、それらの製法に由来するのであるが、粒径分布が広く
、殆んどの粒子形状が不定形であったり、凝集粒子が混
在しているものであった。
、それらの製法に由来するのであるが、粒径分布が広く
、殆んどの粒子形状が不定形であったり、凝集粒子が混
在しているものであった。
シリカ微粒子の場合、ハロゲン化ケイ素の熱分解法によ
る平均−次粒子径0.02〜0.1μ酒のシリカ、ケイ
酸ナトリウム湿式法による1〜5μmの凝集塊の粉砕シ
リカ、天然シリカの破砕体を溶融球形化したシリカなど
で、いずれも粒子形状が不定形であったり、仮に球形に
近いものでも粒径分布が非常に広いものであった。
る平均−次粒子径0.02〜0.1μ酒のシリカ、ケイ
酸ナトリウム湿式法による1〜5μmの凝集塊の粉砕シ
リカ、天然シリカの破砕体を溶融球形化したシリカなど
で、いずれも粒子形状が不定形であったり、仮に球形に
近いものでも粒径分布が非常に広いものであった。
従来の上述した方法ではフィルム表面に凹凸は形成して
滑り性は改良されるが、粒子が不ぞろいである結果凹凸
の均一性に欠け、従って表面の平坦化には自ずと限度が
あった。
滑り性は改良されるが、粒子が不ぞろいである結果凹凸
の均一性に欠け、従って表面の平坦化には自ずと限度が
あった。
一方、ケイ酸ナトリウム水溶液よりイオン交換法等によ
り製造されるシリカアクアゾル中のシリカ粒子は、球形
で粒度分布のシ11−プなものであるが、粒径が0.1
μI程度以下のものしか得られておらず、多様なポリエ
ステル組成物の要求に対して十分に対応できるものでは
なかった。
り製造されるシリカアクアゾル中のシリカ粒子は、球形
で粒度分布のシ11−プなものであるが、粒径が0.1
μI程度以下のものしか得られておらず、多様なポリエ
ステル組成物の要求に対して十分に対応できるものでは
なかった。
微粒子外部添加法の従来法による問題点を解決する方法
として本発明者らは先に特開昭62−207356号で
有機シリコン化合物をアルコール性溶液中で加水分解し
て製造された粒子が球形でしかも粒度分布のシャープな
シリカ微粒子であり、これをポリエステルに添加するこ
とですぐれた滑り性改良を示すことを開示した。
として本発明者らは先に特開昭62−207356号で
有機シリコン化合物をアルコール性溶液中で加水分解し
て製造された粒子が球形でしかも粒度分布のシャープな
シリカ微粒子であり、これをポリエステルに添加するこ
とですぐれた滑り性改良を示すことを開示した。
しかし、一般にシリカは硬度が高く、それ故にシリカ微
粒子を添加して製造されたポリエステル成形体は耐摩耗
性においてしばしば問題が生じていた。この問題は粒子
の粒径が大きくなる程顕著である。例えば0.3μmよ
り大きなシリカ微粒子をポリエステル中に存在させて成
形したフィルムを磁気テープ用のベースフィルムとして
使用した場合に磁気テープ製造工程中や走行時にベース
フィルムの削れが起るという問題があった。
粒子を添加して製造されたポリエステル成形体は耐摩耗
性においてしばしば問題が生じていた。この問題は粒子
の粒径が大きくなる程顕著である。例えば0.3μmよ
り大きなシリカ微粒子をポリエステル中に存在させて成
形したフィルムを磁気テープ用のベースフィルムとして
使用した場合に磁気テープ製造工程中や走行時にベース
フィルムの削れが起るという問題があった。
一方、無機酸化物であるシリカ微粒子は、その表面に親
水性基であるシラノール基を有している為、ポリエステ
ルとの親和性が悪い。たとえばシリカ微粒子を混在させ
たポリエステルフィルムを延伸した時、シリカ微粒子の
周りにボイドが生成して、製品の透明性が低下したり、
磁気特性が劣る原因となっていた。
水性基であるシラノール基を有している為、ポリエステ
ルとの親和性が悪い。たとえばシリカ微粒子を混在させ
たポリエステルフィルムを延伸した時、シリカ微粒子の
周りにボイドが生成して、製品の透明性が低下したり、
磁気特性が劣る原因となっていた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、シリカ微粒子の形状、粒度分布、硬さやポリ
エステルに対する親和性の欠如に起因する前記問題点を
一挙に解決するものである。
エステルに対する親和性の欠如に起因する前記問題点を
一挙に解決するものである。
したがって、本発明の目的は、耐摩耗性、表面凹凸の均
一性にすぐれたポリエステルフィルムの滑り性を改良す
る方法を提供することにある。
一性にすぐれたポリエステルフィルムの滑り性を改良す
る方法を提供することにある。
本発明者らは、特定のシリカ微粒子をポリニスデル中に
特定量含有させることで、前記目的が達成できるのを見
出し、本発明に到達した。
特定量含有させることで、前記目的が達成できるのを見
出し、本発明に到達した。
(問題点を解決するための手段および作用)本発明は、
シリカ微粒子をポリエステルに対しo、 oos〜2m
fi1%存在せしめてポリエステルフィルムの滑り性を
改良する方法において、該微粒子が下記製法(I)によ
り得られた平均粒子径がO,OS〜5μmの1!囲、粒
子径の標準偏差値が1.0〜1.5の範囲にあって、平
均組成が一般式RnSiQ (但し、Rは直接ケイ
素原子に−n 結合する炭素原子を有する有機基の平均組成を示し、n
は0.005〜1の範囲の数をそれぞれ表わす。)で示
されるシリカ球状微粒子であることを特徴とするポリエ
ステルフィルムの滑り性の改良法を提供するものである
。
シリカ微粒子をポリエステルに対しo、 oos〜2m
fi1%存在せしめてポリエステルフィルムの滑り性を
改良する方法において、該微粒子が下記製法(I)によ
り得られた平均粒子径がO,OS〜5μmの1!囲、粒
子径の標準偏差値が1.0〜1.5の範囲にあって、平
均組成が一般式RnSiQ (但し、Rは直接ケイ
素原子に−n 結合する炭素原子を有する有機基の平均組成を示し、n
は0.005〜1の範囲の数をそれぞれ表わす。)で示
されるシリカ球状微粒子であることを特徴とするポリエ
ステルフィルムの滑り性の改良法を提供するものである
。
記
製法(1)
加水分解a3よび/または綜合可能な一般式(B)Ri
SiX(但し、R1は置換基があって−m もよい、アルキル基、アリール基および不飽和脂肪族残
基からなる群から選ばれる少なくとも一種の基、Xはア
シロキシ基、アシロキシ基、水素原子、ハロゲン原子お
よび水R基からなる群から選ばれる少なくとも一種の基
、また霧は0〜3の範囲の整数をそれぞれ表わす。)で
示されるシラン化合物およびその誘導体からなる群から
選ばれる少なくとも一種(但し、一般式(B)において
−=0.2または3で示されるシラン化合物またはその
誘導体の単独使用は除く。)を有機性溶液中で加水分解
および/または縮合してシリカ水和物微粒子の有機性溶
液懸濁体とし、該微粒子を有機性溶媒より分離するシリ
カ球状微粒子の製法。
SiX(但し、R1は置換基があって−m もよい、アルキル基、アリール基および不飽和脂肪族残
基からなる群から選ばれる少なくとも一種の基、Xはア
シロキシ基、アシロキシ基、水素原子、ハロゲン原子お
よび水R基からなる群から選ばれる少なくとも一種の基
、また霧は0〜3の範囲の整数をそれぞれ表わす。)で
示されるシラン化合物およびその誘導体からなる群から
選ばれる少なくとも一種(但し、一般式(B)において
−=0.2または3で示されるシラン化合物またはその
誘導体の単独使用は除く。)を有機性溶液中で加水分解
および/または縮合してシリカ水和物微粒子の有機性溶
液懸濁体とし、該微粒子を有機性溶媒より分離するシリ
カ球状微粒子の製法。
本発明でいうシリカとは、シリコン原子が主にW!素原
子との結合を介して3次元のネッ]・ワークを構成した
シリコンの含M素化合物と定義される。
子との結合を介して3次元のネッ]・ワークを構成した
シリコンの含M素化合物と定義される。
一般式(A)で示される如く、本発明のシリカ球状微粒
子はその中のシリコン原子が部分的に直接炭化水素基(
平均組成:R)が結合しており、それは微粒子原料とし
て用いるR’ s Si X4−■ (一般式(B))のうち鵬がOでない原料を少なくとも
用いることにより達成される。ここで−個のR1および
(4−s )個のXはそれぞれ同一であっても異なって
いてもよい。
子はその中のシリコン原子が部分的に直接炭化水素基(
平均組成:R)が結合しており、それは微粒子原料とし
て用いるR’ s Si X4−■ (一般式(B))のうち鵬がOでない原料を少なくとも
用いることにより達成される。ここで−個のR1および
(4−s )個のXはそれぞれ同一であっても異なって
いてもよい。
シリカ球状微粒子は平均組成として
Rn5i04−nと表わされnはo、oos〜iの範囲
である。但し、シリカ球状微粒子中のシリコンには炭化
水素基(平均組成;R)の他にヒドロキシル基、原料由
来のI(X)、グリコール中での熱処理によって生成す
るグリコキシ基等が部分的に結合している事もあるが、
これらの雄は組成として一般式(A)中には含めていな
い。シリカ微粒子中にIi機基を導入する目的は、シリ
コン原子に部分的に有81基(平均組成:R)が結合し
ている結果、シリコン原子の酸素原子との3次元の架橋
密度がおさえられてシリカ微粒子の硬さが制御され、し
かも有機基により微粒子とポリエステルとの親和性が向
上する。nの値がo、 oosを下まわるとこれらの効
果が発揮されず、nが1を上まわると球状の粒子がえら
れない 一最大R’ ex Si X4−1で示されるシリカ球
状微粒子の原料の具体例としては、テトラクロロシラン
、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン
、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン
、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラ
ン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化
合物、テトラメト4−ジシラン、テ1へラエト1ジシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラブト4ジシラ
ン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、1〜
リエトキシビニルシラン、3−グリコキシ基[」ビルト
リメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、3−メルカプトプロピル1ヘリメトキシシラン、
3−(2−アミノエチルアミノプロビル)トリメトキシ
シラン、フェニルトリメト4゜ジシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、ジアトキシメチルシラン、ジメトキシ
メチルシラン、ジェトキシメチルシラン、ジェトキシ−
3−グリシドキシプロビルメチルシラン、3−クロロプ
ロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシジフェニル
シラン、ジメトキシジメチルフェニルシラン、トリメチ
ルエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチ
ルエトキシシラン、ツメ1〜キシシエド4.ジシラン、
等のアルコキシシラン化合物、テトラアセトキシシラン
、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキ
シシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジアセトキシ
メチルシラン、アセトキシトリメチルシラン等のアシロ
キシシラン化合物、ジフェニルシランジオール、トリメ
デルシラノール等のシラノール化合物等が挙げられる。
である。但し、シリカ球状微粒子中のシリコンには炭化
水素基(平均組成;R)の他にヒドロキシル基、原料由
来のI(X)、グリコール中での熱処理によって生成す
るグリコキシ基等が部分的に結合している事もあるが、
これらの雄は組成として一般式(A)中には含めていな
い。シリカ微粒子中にIi機基を導入する目的は、シリ
コン原子に部分的に有81基(平均組成:R)が結合し
ている結果、シリコン原子の酸素原子との3次元の架橋
密度がおさえられてシリカ微粒子の硬さが制御され、し
かも有機基により微粒子とポリエステルとの親和性が向
上する。nの値がo、 oosを下まわるとこれらの効
果が発揮されず、nが1を上まわると球状の粒子がえら
れない 一最大R’ ex Si X4−1で示されるシリカ球
状微粒子の原料の具体例としては、テトラクロロシラン
、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン
、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン
、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラ
ン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化
合物、テトラメト4−ジシラン、テ1へラエト1ジシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラブト4ジシラ
ン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、1〜
リエトキシビニルシラン、3−グリコキシ基[」ビルト
リメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、3−メルカプトプロピル1ヘリメトキシシラン、
3−(2−アミノエチルアミノプロビル)トリメトキシ
シラン、フェニルトリメト4゜ジシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、ジアトキシメチルシラン、ジメトキシ
メチルシラン、ジェトキシメチルシラン、ジェトキシ−
3−グリシドキシプロビルメチルシラン、3−クロロプ
ロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシジフェニル
シラン、ジメトキシジメチルフェニルシラン、トリメチ
ルエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチ
ルエトキシシラン、ツメ1〜キシシエド4.ジシラン、
等のアルコキシシラン化合物、テトラアセトキシシラン
、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキ
シシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジアセトキシ
メチルシラン、アセトキシトリメチルシラン等のアシロ
キシシラン化合物、ジフェニルシランジオール、トリメ
デルシラノール等のシラノール化合物等が挙げられる。
この中でアルコキシシラン化合物が原料として入手し易
く0、微粒子とした時にハロゲン等の混入が無く好まし
い。
く0、微粒子とした時にハロゲン等の混入が無く好まし
い。
また、他の微粒子原料としては、これらシラン化合物の
誘導体がある。−例として一部の加水分解性W(X)が
カルボキシル基、β−ジカルボニル基など、キレート化
合物を形成しうる塁で置換された化合物、あるいはこれ
らシラン化合物または、1−レート化合物を部分的に加
水分解して得られる低縮合物である。
誘導体がある。−例として一部の加水分解性W(X)が
カルボキシル基、β−ジカルボニル基など、キレート化
合物を形成しうる塁で置換された化合物、あるいはこれ
らシラン化合物または、1−レート化合物を部分的に加
水分解して得られる低縮合物である。
上述した微粒子原料は一種中独で、又は二種以上を混合
して使用することができる。しかし、上記−最大の中で
−=0であるSiX4と表わされるシラン化合物及び/
又はその誘導体のみを原料として使用する場合は、それ
によって得られたシリカ球状微粒子中のシリコンに炭化
水素基が結合しえないために本発明の目的である該微粒
子の硬度を調整することはできない。また、n=2又(
よ3で示されるシラン化合物及び/又はイのLi 1体
のみを原料としてもシリカ球状微粒子が得られない。
して使用することができる。しかし、上記−最大の中で
−=0であるSiX4と表わされるシラン化合物及び/
又はその誘導体のみを原料として使用する場合は、それ
によって得られたシリカ球状微粒子中のシリコンに炭化
水素基が結合しえないために本発明の目的である該微粒
子の硬度を調整することはできない。また、n=2又(
よ3で示されるシラン化合物及び/又はイのLi 1体
のみを原料としてもシリカ球状微粒子が得られない。
シリカ球状微粒子は上記した一般式で示されるシリコン
化合物及び/又はその誘導体く以下、原料シラン化合物
と称する。)を主原料と7るものであるが、それ以外に
ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、バリークム、ホ
ウ素、アルミニ1りlい、ガリウム、インジウムなどの
有機金属化合物または無機塩を共存せしめて加水分解す
ることにより、シリコンと上記金属の酸素化合物の複合
体微粒子とすることもできる。その際シリコンの割合を
原子比で70%以上とするのが好ましい。
化合物及び/又はその誘導体く以下、原料シラン化合物
と称する。)を主原料と7るものであるが、それ以外に
ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、バリークム、ホ
ウ素、アルミニ1りlい、ガリウム、インジウムなどの
有機金属化合物または無機塩を共存せしめて加水分解す
ることにより、シリコンと上記金属の酸素化合物の複合
体微粒子とすることもできる。その際シリコンの割合を
原子比で70%以上とするのが好ましい。
上記した原料シラン化合物は有機性溶液と混合して加水
分解、縮合されるが、その混合方法には制限されない。
分解、縮合されるが、その混合方法には制限されない。
シリコンに結合した炭化水N基を右しない原料シラン化
合物(原料(A)と称する。)と炭化水素基を有する原
料シラン化合物(原料(B)と称する。)を並用する場
合、それらを0機性溶液に別々に混合してもよいが、特
に原Fl (B )の使用割合が全シリコン原子に対し
1/10以下のような少ない場合、原料(A)のみを加
水分解縮合して粒子化した後原料(B)を添加するいわ
ゆる(B)をカップリング剤的に用いる方法では硬さの
改良された粒子とはならないので、少なくとも粒子内部
にも炭化水素基を存在させる必要がある。原料シラン化
合物の溶液中の最終濃度は2モル/j!以下にした方が
生成粒子の凝集が防止できるので好ましい。
合物(原料(A)と称する。)と炭化水素基を有する原
料シラン化合物(原料(B)と称する。)を並用する場
合、それらを0機性溶液に別々に混合してもよいが、特
に原Fl (B )の使用割合が全シリコン原子に対し
1/10以下のような少ない場合、原料(A)のみを加
水分解縮合して粒子化した後原料(B)を添加するいわ
ゆる(B)をカップリング剤的に用いる方法では硬さの
改良された粒子とはならないので、少なくとも粒子内部
にも炭化水素基を存在させる必要がある。原料シラン化
合物の溶液中の最終濃度は2モル/j!以下にした方が
生成粒子の凝集が防止できるので好ましい。
有機性溶液とは、原料シラン化合物を溶解しうる有機溶
剤に水及び触媒が完全に溶解しているか、又は水及び触
媒がミセルとして有機溶剤中に均一に分散した溶液をい
う。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、n−ブタノール、t−ブタノー
ル、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレング
リコール、1,4−ブタンジオール等のアルコール類、
アレトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチ
ル等のエステル類、イソオクタン、シクロヘキサン等の
(シクロ)パラフィン類、ジオキサン、ジエチルニーデ
ル等のニーデル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族化合
物等が申−で又は混合物で用いられる。水及び触媒と相
溶しない有機溶剤の場合はそれらに界面活性剤を添加し
て均一なミセルにしても良い。
剤に水及び触媒が完全に溶解しているか、又は水及び触
媒がミセルとして有機溶剤中に均一に分散した溶液をい
う。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、n−ブタノール、t−ブタノー
ル、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレング
リコール、1,4−ブタンジオール等のアルコール類、
アレトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチ
ル等のエステル類、イソオクタン、シクロヘキサン等の
(シクロ)パラフィン類、ジオキサン、ジエチルニーデ
ル等のニーデル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族化合
物等が申−で又は混合物で用いられる。水及び触媒と相
溶しない有機溶剤の場合はそれらに界面活性剤を添加し
て均一なミセルにしても良い。
触媒としては、アンモニア、尿素、エタノールアミン、
テトラメチルアンモニCクムハイドロオt→Jイド等が
好ましい。
テトラメチルアンモニCクムハイドロオt→Jイド等が
好ましい。
有機性溶液中に存在させる水、触媒量は粒子の形状や粒
子径、分散状態に影響を及ぼすので好ましい量に制御す
る必要があるが、原料シラン化合物の種類、濃度等によ
って変化する。
子径、分散状態に影響を及ぼすので好ましい量に制御す
る必要があるが、原料シラン化合物の種類、濃度等によ
って変化する。
加水分解、縮合は、例えば上記した原料シラン化合物ま
たはその有機溶剤溶液を上記有機性溶液に添加し、0〜
100℃の範囲、好ましくは0〜10℃の範囲で30分
〜100時HWI拝することによって行われる。
たはその有機溶剤溶液を上記有機性溶液に添加し、0〜
100℃の範囲、好ましくは0〜10℃の範囲で30分
〜100時HWI拝することによって行われる。
このようにして原料シラン化合物を有機性溶液中で適切
な条件の元で加水分解、縮合すれば、球形でしかb粒径
分布の非常にシャープな水和物微粒子として析出し懸濁
体となる。
な条件の元で加水分解、縮合すれば、球形でしかb粒径
分布の非常にシャープな水和物微粒子として析出し懸濁
体となる。
シリカ球状微粒子を粉体としてポリエステルに添加する
場合は、該懸濁体より濾過、遠心分離、溶媒蒸発など従
来公知の方法で分離した後、乾燥または場合により10
00℃までの有機基が分解しない条件で焼成して粉体と
する。粒子の分離及び乾燥、焼成中に粒子の凝集を起す
場合があるので、ポリエステルへの添加に先立って榴潰
機、ボールミル、ジェット粉砕機等を用いた通常の方法
で凝集粒子をときはぐずことは有効である。
場合は、該懸濁体より濾過、遠心分離、溶媒蒸発など従
来公知の方法で分離した後、乾燥または場合により10
00℃までの有機基が分解しない条件で焼成して粉体と
する。粒子の分離及び乾燥、焼成中に粒子の凝集を起す
場合があるので、ポリエステルへの添加に先立って榴潰
機、ボールミル、ジェット粉砕機等を用いた通常の方法
で凝集粒子をときはぐずことは有効である。
一方、シリカ球状微粒子をポリエステルの重縮合の前又
は重縮合中に添加する場合は、ポリエステルの原料であ
るエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4
−ブタンジオール等のグリコールに予じめ分散させてお
く事はポリエステル中での粒子の分散性を高める上で好
ましい。グリコール中にシリカ球状微粒子を高分散させ
る方法として、上述した微粒子粉末をグリコールに添加
して湿式ボールミル、超音波など従来公知の方法が用い
られるが、凝集粒子の生成を防止して分散性をより高め
る為に、水和物微粒子の有機性溶液懸濁体中の有機性溶
液をグリコール存在下に分離除去した後、場合によりグ
リコール中で脱水する方法が特に好ましい。具体的には
加熱されたグリコール中に懸濁体を添加して有機性溶液
を除去して水和物微粒子のグリコール性懸濁体とし、か
つ該グリコール性懸濁体を70≦T≦T、+10(但し
、王は熱処理温度(’C)、T、は熱処理操作圧力にお
けるグリコールの沸点(’C)を表わし王、≧10であ
る。)の範囲の温度で熱処理してシリカ球状微粒子のグ
リコール性単分散体とする方法がとりうる。熱処理をす
ることによって微粒子表面のシラノール基にグリコール
が結合することによってグリコール性単分散体中の微粒
子の分散安定性をより高めることができる。その場合、
グリコールの結合量を該微粒子1g当り0.003〜5
ミリモルの範囲にするのが好ましい。
は重縮合中に添加する場合は、ポリエステルの原料であ
るエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4
−ブタンジオール等のグリコールに予じめ分散させてお
く事はポリエステル中での粒子の分散性を高める上で好
ましい。グリコール中にシリカ球状微粒子を高分散させ
る方法として、上述した微粒子粉末をグリコールに添加
して湿式ボールミル、超音波など従来公知の方法が用い
られるが、凝集粒子の生成を防止して分散性をより高め
る為に、水和物微粒子の有機性溶液懸濁体中の有機性溶
液をグリコール存在下に分離除去した後、場合によりグ
リコール中で脱水する方法が特に好ましい。具体的には
加熱されたグリコール中に懸濁体を添加して有機性溶液
を除去して水和物微粒子のグリコール性懸濁体とし、か
つ該グリコール性懸濁体を70≦T≦T、+10(但し
、王は熱処理温度(’C)、T、は熱処理操作圧力にお
けるグリコールの沸点(’C)を表わし王、≧10であ
る。)の範囲の温度で熱処理してシリカ球状微粒子のグ
リコール性単分散体とする方法がとりうる。熱処理をす
ることによって微粒子表面のシラノール基にグリコール
が結合することによってグリコール性単分散体中の微粒
子の分散安定性をより高めることができる。その場合、
グリコールの結合量を該微粒子1g当り0.003〜5
ミリモルの範囲にするのが好ましい。
しかし、本発明において該微粒子をJ? ’ノエステル
に添加する前に施こす分散処理について何ら制限される
ものではない。
に添加する前に施こす分散処理について何ら制限される
ものではない。
このようにして得られたシリカ球状微粒子は、平均粒子
径が0.05〜5μ信の範囲でかつ粒子径のf!準偏差
値が1〜1.5、より好ましくは1〜1.3の範囲にあ
る粒径分布が非常にシト−プなものである。粒径が0.
05μmより小さければ添加による滑り性改良の効果が
少なく、また、5μ−より大きければiI膜フィルムに
は表面の凹凸が大き過ぎて問題となる ま/C1シリカ球状微粒子中のシリコン原子に部分的に
炭化水素基(平均組成;R)が結合している結果、微粒
子の真比重が1.2〜2.1の範囲、より好ましくは1
.2〜2.0の範囲となり、Rの無いシリカ球状微粒子
の真比重が2゜0、更に場合により2.1を越える点で
異なっている。真比重値は粒子の硬さに反映されること
は後の実施例及び比較例からも推察される。
径が0.05〜5μ信の範囲でかつ粒子径のf!準偏差
値が1〜1.5、より好ましくは1〜1.3の範囲にあ
る粒径分布が非常にシト−プなものである。粒径が0.
05μmより小さければ添加による滑り性改良の効果が
少なく、また、5μ−より大きければiI膜フィルムに
は表面の凹凸が大き過ぎて問題となる ま/C1シリカ球状微粒子中のシリコン原子に部分的に
炭化水素基(平均組成;R)が結合している結果、微粒
子の真比重が1.2〜2.1の範囲、より好ましくは1
.2〜2.0の範囲となり、Rの無いシリカ球状微粒子
の真比重が2゜0、更に場合により2.1を越える点で
異なっている。真比重値は粒子の硬さに反映されること
は後の実施例及び比較例からも推察される。
ポリエステルフィルム中に存在させる球状微粒子の真比
重を制御しうる前記球状微粒子の製法(I)を採用する
ことで球状微粒子の硬さをfi意にコントロールするこ
とが可能となったのぐある。
重を制御しうる前記球状微粒子の製法(I)を採用する
ことで球状微粒子の硬さをfi意にコントロールするこ
とが可能となったのぐある。
本発明におけるポリエステルとは、テレフタル酸または
そのエステル形成性誘導体を主たるジカルボン酸成分と
し、■チレングリコール、1.4−ブタンジオールなど
のジオールまたはそのエステル形成性誘導体を主たるグ
リコール成分とするポリエステルであるが、組成、製法
などに限定されるものではなく、他のポリエステルを配
合したものであってしよい。
そのエステル形成性誘導体を主たるジカルボン酸成分と
し、■チレングリコール、1.4−ブタンジオールなど
のジオールまたはそのエステル形成性誘導体を主たるグ
リコール成分とするポリエステルであるが、組成、製法
などに限定されるものではなく、他のポリエステルを配
合したものであってしよい。
ポリエステル中にシリカ球状微粒子を添加する時期は、
ポリエステル重合前、重合中あるいは重合終了後ベレッ
ト化する時でも良く、更にシート状に溶融押出しする際
に添加しても良い。
ポリエステル重合前、重合中あるいは重合終了後ベレッ
ト化する時でも良く、更にシート状に溶融押出しする際
に添加しても良い。
しかし、本発明に開示する粒子が球状で粒度分布が非常
にシャープで凝集粒子、粗大粒子がほとんど無いという
特徴を生かしてシリカ球状微粒子をグリコール性分散体
として添加するのが好ましく、その場合はジカルボン酸
成分とグリコールとのエステル化ないしはエステル交換
反応の初期から反応が終了してプレポリマーとなるまで
の段階、又はプレポリマーを重縮合せしめる初期段階で
添加することが好ましい。
にシャープで凝集粒子、粗大粒子がほとんど無いという
特徴を生かしてシリカ球状微粒子をグリコール性分散体
として添加するのが好ましく、その場合はジカルボン酸
成分とグリコールとのエステル化ないしはエステル交換
反応の初期から反応が終了してプレポリマーとなるまで
の段階、又はプレポリマーを重縮合せしめる初期段階で
添加することが好ましい。
シリカ球状微粒子の添加使用市は、最終的に得られる本
発明のポリエステル組成物中にシリカ微粒子が0.00
5〜2重量%の範囲で含有されるような割合である。ポ
リエステル中のシリカ微粒子の含有mが0.005燻m
%よりも少なければ、それを成形して得られるフィルム
の滑り性に対する効果が不充分であり、また、2重量%
より多い場合は、フィルムの破断強度などの物性が低下
するため好ましくない。
発明のポリエステル組成物中にシリカ微粒子が0.00
5〜2重量%の範囲で含有されるような割合である。ポ
リエステル中のシリカ微粒子の含有mが0.005燻m
%よりも少なければ、それを成形して得られるフィルム
の滑り性に対する効果が不充分であり、また、2重量%
より多い場合は、フィルムの破断強度などの物性が低下
するため好ましくない。
本発明に開示するシリカ球状微粒子のポリエステルフィ
ルム中の含有mが上記範囲にあれば、他の微粒子との共
存を何ら妨げるものではない。
ルム中の含有mが上記範囲にあれば、他の微粒子との共
存を何ら妨げるものではない。
(発明の効果)
本発明の方法に従えば、特定された形状・粒子径・粒子
径分布を有し、かつ微粒子中のシリコン原子に部分的に
有機基が結合しlζシリカ球状微粒子を特定量ポリ1ス
テルに添加使用づることにより、該ポリエステルフィル
ムの表面に均−質微細な凹凸を確実かつ容易に形成ザる
ことができる。
径分布を有し、かつ微粒子中のシリコン原子に部分的に
有機基が結合しlζシリカ球状微粒子を特定量ポリ1ス
テルに添加使用づることにより、該ポリエステルフィル
ムの表面に均−質微細な凹凸を確実かつ容易に形成ザる
ことができる。
しかし、該シリカ微粒子は硬1復が制御されており、さ
らにポリエステルとの親和性が改良されている結果ポリ
エステルフィルムの耐摩耗性を改良することができる。
らにポリエステルとの親和性が改良されている結果ポリ
エステルフィルムの耐摩耗性を改良することができる。
したがって、本発明に係るポリエステルフィルムは、す
ぐれた滑り性・耐摩耗性・表面凹凸の均一性を発揮し、
磁気テープとづる際の磁性層の塗布性、蒸着特性にも優
れており、電磁変換特性にすぐれた磁気テープの製造に
好適なものである。
ぐれた滑り性・耐摩耗性・表面凹凸の均一性を発揮し、
磁気テープとづる際の磁性層の塗布性、蒸着特性にも優
れており、電磁変換特性にすぐれた磁気テープの製造に
好適なものである。
(実施例)
以下、実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが実
施例によって本発明の範囲が制限されることはない。
施例によって本発明の範囲が制限されることはない。
なお、シリカ球状微粒子の形状、平均粒子径、標準偏差
値、結晶性、結合有I!基量、真比重、比表面積、更に
、微粒子のグリコール性分散体の場合には、凝集粒子の
有無、分散安定性、微粒子への結合グリコール吊は下記
の方法により分析、評価した。
値、結晶性、結合有I!基量、真比重、比表面積、更に
、微粒子のグリコール性分散体の場合には、凝集粒子の
有無、分散安定性、微粒子への結合グリコール吊は下記
の方法により分析、評価した。
・粒子形状
5万倍の電子顕微鏡観察により判定した。
・平均粒子径及び標準偏差値
5万倍の電子顕微鏡撮影像の任意の粒子300個の粒子
径を実測して下記の式より求めた。
径を実測して下記の式より求めた。
Σ X。
1=11
平均粒子径<X>= −
・微粒子の結晶性
懸濁体又はグリコール性分散体の一部を50℃にて真空
乾燥し、溶媒などの揮発成分を完全に除去して微粒子の
粉体試料を得る。該粉体試料をX線回折分析により微粒
子の結晶性を評価した。又、粉体を!1mしたものにつ
いてはその粉体について同様に評価した。
乾燥し、溶媒などの揮発成分を完全に除去して微粒子の
粉体試料を得る。該粉体試料をX線回折分析により微粒
子の結晶性を評価した。又、粉体を!1mしたものにつ
いてはその粉体について同様に評価した。
・比表面積
上述した方法により得た粉体試料をBET法により比表
面積を測定した。
面積を測定した。
・真比重
上述した方法により得た粉体試料を島津製オートビクツ
メーター1320を使用して真比重を測定した。
メーター1320を使用して真比重を測定した。
・結合有機、基ff1(nの測定)
上述した方法により得た粉体試料的5gを精秤し0.0
5 NのNa OH水溶液250mに添加し、室温で1
0時間攪拌を続ける。これにより微粒子中の加水分解性
基は全て加水分解されて水溶液に抽出される。該懸濁液
中の微粒子を超遠心分離により分離、水洗をくり返し行
なった後200℃で5時間乾燥した微粒子粉末試料につ
いて、元素分析により全炭素含量を測定し、原料に用い
たR’ m Six4−mの+a個のR1の平均炭素数
より一般式(Δ)でも確認した。
5 NのNa OH水溶液250mに添加し、室温で1
0時間攪拌を続ける。これにより微粒子中の加水分解性
基は全て加水分解されて水溶液に抽出される。該懸濁液
中の微粒子を超遠心分離により分離、水洗をくり返し行
なった後200℃で5時間乾燥した微粒子粉末試料につ
いて、元素分析により全炭素含量を測定し、原料に用い
たR’ m Six4−mの+a個のR1の平均炭素数
より一般式(Δ)でも確認した。
・結合グリコールω
結合右41111の測定の際、加水分解性基が加水分解
されて抽出され水溶液から微粒子を分離した清澄液中の
グリコールmをガスクロマトグラフにより定量して、2
00℃で5時間乾燥処理した微粒子1gに対する結合グ
リコール聞を定量した。
されて抽出され水溶液から微粒子を分離した清澄液中の
グリコールmをガスクロマトグラフにより定量して、2
00℃で5時間乾燥処理した微粒子1gに対する結合グ
リコール聞を定量した。
・凝集粒子の有無
試料をスラリーの状態のまま 1,000g5の光学顕
微鏡で観察し評価した。
微鏡で観察し評価した。
・分散安定性
試料を密栓したガラス製容器に入れ静置し、容器底部に
粒子沈降層及び上部に上ffi層の有無を観察し、下記
の基準に基づいて評価した。
粒子沈降層及び上部に上ffi層の有無を観察し、下記
の基準に基づいて評価した。
1日静置後に沈降層又は上W1層が認められlcもの
× 2日〜1ケ月の間に沈降層又は上澄層が認められたちの
01ヶ月侵も沈降層
又は上澄層が認められないもの
◎シリ
カ水 物球状微粒 のt機性溶液懸濁体の製造 例1−(1) 撹拌機、滴下口、温度計を備えた30j!のガラス製反
応器にメタノール141及び28%アンモニア水溶液1
.5kllを添加した後更にアンモニアガスを吹き込み
0.26klJを吸収させて混合しアンモニア濃度を調
整した。該混合液を10℃±0,5℃に調整゛し、11
11↑しながらテトラメトキシシラン1.22kCI及
びフェニルトリメトキシシラン0.79k(Jの混合物
をメタノール21に希釈した溶液を滴下口より1時間か
けて滴下し、滴下後内湿を50℃まで上げて5時間攪拌
を続は熟成して加水分解を行ないシリカ水和物微粒子(
1a)の有II(メタノール)性溶液懸濁体を製造した
。この時の最終溶液全回に対する各原料の濃度は、テト
ラメトキシシラン0.40モル/1、フェニルトリメト
キシシラン0.20モル/11水3.0モル/1、アン
モニア2.0モル/1であった。なお反応′I!!懸濁
体より粒子を分離した清澄な有機性溶液中に残存するケ
イ素を原子吸光分析により測定した所10ppm以下で
、原料シラン化合物はほぼ完全に粒子になっていること
を確認した。反応条件及び微粒子の分析結果を表−1に
示す。
× 2日〜1ケ月の間に沈降層又は上澄層が認められたちの
01ヶ月侵も沈降層
又は上澄層が認められないもの
◎シリ
カ水 物球状微粒 のt機性溶液懸濁体の製造 例1−(1) 撹拌機、滴下口、温度計を備えた30j!のガラス製反
応器にメタノール141及び28%アンモニア水溶液1
.5kllを添加した後更にアンモニアガスを吹き込み
0.26klJを吸収させて混合しアンモニア濃度を調
整した。該混合液を10℃±0,5℃に調整゛し、11
11↑しながらテトラメトキシシラン1.22kCI及
びフェニルトリメトキシシラン0.79k(Jの混合物
をメタノール21に希釈した溶液を滴下口より1時間か
けて滴下し、滴下後内湿を50℃まで上げて5時間攪拌
を続は熟成して加水分解を行ないシリカ水和物微粒子(
1a)の有II(メタノール)性溶液懸濁体を製造した
。この時の最終溶液全回に対する各原料の濃度は、テト
ラメトキシシラン0.40モル/1、フェニルトリメト
キシシラン0.20モル/11水3.0モル/1、アン
モニア2.0モル/1であった。なお反応′I!!懸濁
体より粒子を分離した清澄な有機性溶液中に残存するケ
イ素を原子吸光分析により測定した所10ppm以下で
、原料シラン化合物はほぼ完全に粒子になっていること
を確認した。反応条件及び微粒子の分析結果を表−1に
示す。
例1− (2)〜(6)
シラン化合物又はその誘導体の種類、組成比、有機溶剤
の種類、最終溶液全量に対する各原料のm度及び反応温
度等の反応条件を表−1に示した通りとする以外は例1
−(1)と同様にしてシリカ水和物微粒子(2a)〜(
6a)の各懸濁体を製造した。
の種類、最終溶液全量に対する各原料のm度及び反応温
度等の反応条件を表−1に示した通りとする以外は例1
−(1)と同様にしてシリカ水和物微粒子(2a)〜(
6a)の各懸濁体を製造した。
結果を表−1に示す。
例1− (7)
例1−(3)においてシラン化合物を混合して添加する
変りにテトラメトキシシランをまず1時間か1ノで添加
した後メチルトリメ1へキシシランを添加した他は同様
に行ないシリカ水和物微粒子(7a)の懸濁体を製造し
た。なおこの方法は有機基を含有しない粒子のカップリ
ング剤としてメチルトリメトキシシランを用いた方法に
相当づる。結果を表−1に示す。
変りにテトラメトキシシランをまず1時間か1ノで添加
した後メチルトリメ1へキシシランを添加した他は同様
に行ないシリカ水和物微粒子(7a)の懸濁体を製造し
た。なおこの方法は有機基を含有しない粒子のカップリ
ング剤としてメチルトリメトキシシランを用いた方法に
相当づる。結果を表−1に示す。
例1−(8)
例1−(1)と同様の反応器を用い、シクロへキサン2
21、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル
(エヂレンオキサイド平均付加モル数6;以後NPと称
する。) 0697k(1,28%アンモニア水0.4
9k(l及び水0.37kgを混合し、シフ日ヘキ寸ン
中に均一なアンモニア水のマイクロエマルションを形成
させた。該エマルションを35℃に調整し攪拌しながら
テトラエトキシシラン1.25klJ及びジアセトキシ
ジメヂルシラン0.16kgの混合物を2時間かけて添
加した後同温度で70vf間攪拌を続は反応を完結させ
、シリカ水和物微粒子(8a)の有機(シクロヘキサン
)性溶液懸濁体を製造した。結果を表−1に示す。
21、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル
(エヂレンオキサイド平均付加モル数6;以後NPと称
する。) 0697k(1,28%アンモニア水0.4
9k(l及び水0.37kgを混合し、シフ日ヘキ寸ン
中に均一なアンモニア水のマイクロエマルションを形成
させた。該エマルションを35℃に調整し攪拌しながら
テトラエトキシシラン1.25klJ及びジアセトキシ
ジメヂルシラン0.16kgの混合物を2時間かけて添
加した後同温度で70vf間攪拌を続は反応を完結させ
、シリカ水和物微粒子(8a)の有機(シクロヘキサン
)性溶液懸濁体を製造した。結果を表−1に示す。
例1−(9)
シラン化合物の種類、組成比及び最終溶液今市に対Jる
各原料の111度、反応温度等の反応条件を表−1に示
した通りとづる以外は例1−(8)と同様にしてシリカ
水和物微粒子(9a)の懸濁体を製造した。結果を表−
1に示す。
各原料の111度、反応温度等の反応条件を表−1に示
した通りとづる以外は例1−(8)と同様にしてシリカ
水和物微粒子(9a)の懸濁体を製造した。結果を表−
1に示す。
例1− (10)
例1−(3>においてメチルトリメトキシシランを使用
ぼずテトラメトキシシランのみを原料として反応した以
外は同様に行ない有V1基をまったく含まない(n=o
)シリカ水和物微粒子(10a)の懸濁体を製造した。
ぼずテトラメトキシシランのみを原料として反応した以
外は同様に行ない有V1基をまったく含まない(n=o
)シリカ水和物微粒子(10a)の懸濁体を製造した。
結果を表−1に示す。
シリカ・ の
例2−(1)
例1−(1)で得られたシリカ水和物微粒子(1a)の
有機性溶液懸濁体よりメタノール、水、触媒等を含む有
機性溶媒を5JVのジャケット付きニーダ−を用いて常
圧下、ジャケット温度120℃で蒸発させて微粒子の乾
燥粉体とした。該乾燥粉体を250℃に設定された電気
炉で5時間焼成した後ジェット粉砕機にかけて凝集粒子
の解砕を行ないシリカ球状微粒子(1b)の粉体を製造
した。
有機性溶液懸濁体よりメタノール、水、触媒等を含む有
機性溶媒を5JVのジャケット付きニーダ−を用いて常
圧下、ジャケット温度120℃で蒸発させて微粒子の乾
燥粉体とした。該乾燥粉体を250℃に設定された電気
炉で5時間焼成した後ジェット粉砕機にかけて凝集粒子
の解砕を行ないシリカ球状微粒子(1b)の粉体を製造
した。
微粒子の分析結果を表−2に示す。
例2− (2)
例1−(2)で得られたシリカ水和物微粒子(2a)の
懸濁体より水和物微粒子を遠心分離により分離した後n
−ブタノールに再分散させ、水和物微粒子に付着してい
る水を常圧下n−ブタノールと共に蒸発除去して最終1
20℃で乾燥しシリカ球状微粒子(2b)の粉体を製造
した。結果を表−2に示す。
懸濁体より水和物微粒子を遠心分離により分離した後n
−ブタノールに再分散させ、水和物微粒子に付着してい
る水を常圧下n−ブタノールと共に蒸発除去して最終1
20℃で乾燥しシリカ球状微粒子(2b)の粉体を製造
した。結果を表−2に示す。
例2−(3)〜(10)
例1−(3)〜(10)で得られたシリカ水和物微粒子
(3a)〜(10a)の懸濁体を用い、例2−(1)に
おいて焼成mtfを変更した以外は例2−(1)と同様
に行ないシリカ球状微粒子(3b)〜(10b)の各シ
リカ球状微粒子の粉体を!ll造した。結果を表−2に
示す。
(3a)〜(10a)の懸濁体を用い、例2−(1)に
おいて焼成mtfを変更した以外は例2−(1)と同様
に行ないシリカ球状微粒子(3b)〜(10b)の各シ
リカ球状微粒子の粉体を!ll造した。結果を表−2に
示す。
シリカ 微 のノリコール性分 体の製゛1例3−
(1) 例2−(1)で得られたシリカ球状微粒子(1b)粉体
ioogをエチレングリコール400g中に添加し48
時時間式ボールミルにかけたスラリーを更に10時間超
音波にかけて分散させた後、精密口紙を用いて口過しシ
リカ球状微粒子(1b)が17.0mff1%であるエ
チレングリコール分散体を製造した。分散体の評価結果
を表−3に示す。
(1) 例2−(1)で得られたシリカ球状微粒子(1b)粉体
ioogをエチレングリコール400g中に添加し48
時時間式ボールミルにかけたスラリーを更に10時間超
音波にかけて分散させた後、精密口紙を用いて口過しシ
リカ球状微粒子(1b)が17.0mff1%であるエ
チレングリコール分散体を製造した。分散体の評価結果
を表−3に示す。
例3− (2)〜(10)
例2− (2)〜(10)で得られたシリカ球状微粒子
(2b)〜(10b)の粉体を用い、グリコールの種類
を変更した以外は例3−(1)と同様に行ないシリカ球
状微粒子(2b)〜(10b)の各グリコール分散体を
製造した。結果を表−3に示す。
(2b)〜(10b)の粉体を用い、グリコールの種類
を変更した以外は例3−(1)と同様に行ないシリカ球
状微粒子(2b)〜(10b)の各グリコール分散体を
製造した。結果を表−3に示す。
例3−(11)
外部より熱媒加熱しつる、撹拌機、滴下口、湿度計、溜
出ガス出口を備えた10Jlのガラス製蒸発釜と、溜出
ガス出口に続き溜出ガス凝縮器、減圧吸引口、凝縮液受
器からなる蒸発装置の蒸発釜にエチレングリコール3k
gを仕込み、攪拌しながら系内の圧力を150T or
rに保持し熱媒温度を120℃に設定した。次いで滴下
口より例1−(1)で製造されたシリカ水和物微粒子(
1a)の懸濁体5.5kgを連続的に供給し、メタノー
ル、水、アンモニア及び蒸気正分のエチレングリコール
を含む有機性溶媒を溜出させ、懸濁体の供給終了侵も加
熱を続は内温が55℃の時に溶媒溜用を停止した。この
ようにしてシリカ球状微粒子(IC−■)のグリコール
性単分散体を製造した。次いで熱媒温度を180℃に設
定し、加熱を続は有機性溶媒を溜出させ内温が152℃
になった時点で2時間保持してシリカ球状微粒子(lc
−■)のグリコール性単分散体を製造した。その時の微
粒子の分析結果を表−4に、分散体の分析及び評価結果
を表−3に示す。
出ガス出口を備えた10Jlのガラス製蒸発釜と、溜出
ガス出口に続き溜出ガス凝縮器、減圧吸引口、凝縮液受
器からなる蒸発装置の蒸発釜にエチレングリコール3k
gを仕込み、攪拌しながら系内の圧力を150T or
rに保持し熱媒温度を120℃に設定した。次いで滴下
口より例1−(1)で製造されたシリカ水和物微粒子(
1a)の懸濁体5.5kgを連続的に供給し、メタノー
ル、水、アンモニア及び蒸気正分のエチレングリコール
を含む有機性溶媒を溜出させ、懸濁体の供給終了侵も加
熱を続は内温が55℃の時に溶媒溜用を停止した。この
ようにしてシリカ球状微粒子(IC−■)のグリコール
性単分散体を製造した。次いで熱媒温度を180℃に設
定し、加熱を続は有機性溶媒を溜出させ内温が152℃
になった時点で2時間保持してシリカ球状微粒子(lc
−■)のグリコール性単分散体を製造した。その時の微
粒子の分析結果を表−4に、分散体の分析及び評価結果
を表−3に示す。
実施例1
ジメチルテレフタレート iooim部およびエチレン
グリコール70重量部に触媒として酢酸マンガン四水和
物0.04重量部を加え、230℃まで加熱ffff1
してメタノールを留去しエステル交換反応を行った。そ
の後、例−3−(1)で製造したシリカ球状微粒子(1
b)のエチレングリコール分散体1.8i量部及び三酸
化アンチモン0.03重量部を111JY下に添加した
後、最終1Torr以下280℃まで昇温して重縮合を
行ない、シリカ球状微粒子(1b)をポリニスデル中に
0.3ffl 14%含有してなるポリエステル組成物
を得た。このポリエステル組成物を290℃に設定され
た押出機によりシート状に押出し、続いて90℃で縦方
向に3.5倍延伸後、100℃で横方向に4倍延伸し2
10℃で10秒間熱処理を行なって厚さ10μmのシリ
カ球状微粒子(1b)を含む二軸延伸ポリエステルフィ
ルム■を得た。
グリコール70重量部に触媒として酢酸マンガン四水和
物0.04重量部を加え、230℃まで加熱ffff1
してメタノールを留去しエステル交換反応を行った。そ
の後、例−3−(1)で製造したシリカ球状微粒子(1
b)のエチレングリコール分散体1.8i量部及び三酸
化アンチモン0.03重量部を111JY下に添加した
後、最終1Torr以下280℃まで昇温して重縮合を
行ない、シリカ球状微粒子(1b)をポリニスデル中に
0.3ffl 14%含有してなるポリエステル組成物
を得た。このポリエステル組成物を290℃に設定され
た押出機によりシート状に押出し、続いて90℃で縦方
向に3.5倍延伸後、100℃で横方向に4倍延伸し2
10℃で10秒間熱処理を行なって厚さ10μmのシリ
カ球状微粒子(1b)を含む二軸延伸ポリエステルフィ
ルム■を得た。
また、例3− (2)〜(6)、例3−(8)〜(9)
及び例3−(11)で得られたシリカ球状微粒子(2b
)〜(6b) 、 (8b) 、 (!Jb) 、
(1c−■)及び(lc−■)の各グリコール分散
体を表−5に示した添加量で用いた他は上記方法と同様
にして、それぞれのシリカ球状微粒子を含有するポリエ
ステルフィルム■〜[相]を得た。
及び例3−(11)で得られたシリカ球状微粒子(2b
)〜(6b) 、 (8b) 、 (!Jb) 、
(1c−■)及び(lc−■)の各グリコール分散
体を表−5に示した添加量で用いた他は上記方法と同様
にして、それぞれのシリカ球状微粒子を含有するポリエ
ステルフィルム■〜[相]を得た。
これらのフィルムについて、その表面を5000倍の電
子顕微鏡搬影像で観察したところ、いずれも凝集粒子は
無く、均一な粒子が分散1均一な突起高さを有しており
、又粒子のまわりにはボイドが無くポリエステルとの密
着性が良好であった。
子顕微鏡搬影像で観察したところ、いずれも凝集粒子は
無く、均一な粒子が分散1均一な突起高さを有しており
、又粒子のまわりにはボイドが無くポリエステルとの密
着性が良好であった。
一方、これらのフィルムについて、△STM−D −1
894[3法に従い、スリップテスターを用いて静摩擦
係数を測定したところ、すべて1.0以下であり、優れ
た滑り性を有していた。
894[3法に従い、スリップテスターを用いて静摩擦
係数を測定したところ、すべて1.0以下であり、優れ
た滑り性を有していた。
また、長さ300a+m 、幅15+amとしたこれら
のフィルムについて、それぞれ30Qの荷重をかけて直
径5■のステンレス製ピン上を50℃の雰囲気で150
回往復運動し摩擦させた。フィルムの摩擦面に生じたス
クラッチの程度を目視判定し、耐摩耗性の評価を行なっ
た。この時、スクラッチが殆んど無いか非常に少ないも
のは○、スクラッチが多いものを×、中程度のものを△
の三ランクに分けて評価したところ、すべてのフィルム
についてO評価であった。
のフィルムについて、それぞれ30Qの荷重をかけて直
径5■のステンレス製ピン上を50℃の雰囲気で150
回往復運動し摩擦させた。フィルムの摩擦面に生じたス
クラッチの程度を目視判定し、耐摩耗性の評価を行なっ
た。この時、スクラッチが殆んど無いか非常に少ないも
のは○、スクラッチが多いものを×、中程度のものを△
の三ランクに分けて評価したところ、すべてのフィルム
についてO評価であった。
比較例1
実施例1において、グリコール性分散体として例3−(
7)又は例3−(1(1)で1qられたシリカ球状微粒
子(7b)又は(10b)を用い表−5に示す添加量と
する以外は実施例−1と同様の操作を行ない、比較用ポ
リエステルフィルムO及び◎を14 %した。
7)又は例3−(1(1)で1qられたシリカ球状微粒
子(7b)又は(10b)を用い表−5に示す添加量と
する以外は実施例−1と同様の操作を行ない、比較用ポ
リエステルフィルムO及び◎を14 %した。
これらのフィルムについて実施例−1と同様にして評価
したところ、粒子の分散性及び粒子のポリエステルとの
密着性は良好であり、静摩擦係数も1.0以下で優れた
滑り性を有していたが、耐摩耗性評1市はいずれもΔ〜
×であった。
したところ、粒子の分散性及び粒子のポリエステルとの
密着性は良好であり、静摩擦係数も1.0以下で優れた
滑り性を有していたが、耐摩耗性評1市はいずれもΔ〜
×であった。
表 −5
Claims (2)
- (1)シリカ微粒子をポリエステルに対し0.005〜
2重量%存在せしめてポリエステルフィルムの滑り性を
改良する方法において、該微粒子が下記製法( I )に
より得られた平均粒子径が0.05〜5μmの範囲、粒
子径の標準偏差値が1.0〜1.5の範囲にあって、平
均組成が一般式(A)R_nSiO_(_4_−_n_
)_/_2(但し、Rは直接ケイ素原子に結合する炭素
原子を有する有機基の平均組成を示し、nは0.005
〜1の範囲の数ををそれぞれ表わす。)で示されるシリ
カ球状微粒子であることを特徴とするポリエステルフィ
ルムの滑り性の改良法。 記 製法( I ) 加水分解および/または縮合可能な一般式(B)R^1
_mSiX_4_−_m(但し、R^1は置換基があつ
てもよい、アルキル基、アリール基および不飽和脂肪族
残基からなる群から選ばれる少なくとも一種の基、Xは
アルコキシ基、アシロキシ基、水素原子、ハロゲン原子
および水酸基からなる群から選ばれる少なくとも一種の
基、またmは0〜3の範囲の整数をそれぞれ表わす。)
で示されるシラン化合物およびその誘導体からなる群か
ら選ばれる少なくとも一種(但し、一般式(B)におい
てm=0、2または3で示されるシラン化合物またはそ
の誘導体の単独使用は除く。)を有機性溶液中で加水分
解および/または縮合してシリカ水和物微粒子の有機性
溶液懸濁体とし、該微粒子を有機性溶媒より分離するシ
リカ球状微粒子の製法。 - (2)粒子径の標準偏差値が1.0〜1.3の範囲であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)記載の方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30141587A JPH01144423A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 滑り性の改良法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30141587A JPH01144423A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 滑り性の改良法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01144423A true JPH01144423A (ja) | 1989-06-06 |
Family
ID=17896603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30141587A Pending JPH01144423A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 滑り性の改良法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01144423A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04220471A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-11 | Sanyo Chem Ind Ltd | ポリエステル繊維コーティング用樹脂組成物 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63297431A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Teijin Ltd | 二軸配向ポリエステルフイルム |
-
1987
- 1987-12-01 JP JP30141587A patent/JPH01144423A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63297431A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Teijin Ltd | 二軸配向ポリエステルフイルム |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04220471A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-11 | Sanyo Chem Ind Ltd | ポリエステル繊維コーティング用樹脂組成物 |
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