JPH01141868A - 超電導セラミツクスの製造方法 - Google Patents
超電導セラミツクスの製造方法Info
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- JPH01141868A JPH01141868A JP62298814A JP29881487A JPH01141868A JP H01141868 A JPH01141868 A JP H01141868A JP 62298814 A JP62298814 A JP 62298814A JP 29881487 A JP29881487 A JP 29881487A JP H01141868 A JPH01141868 A JP H01141868A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、RBaCuO(但しRは希
37−X
土類元素)系高温超電導セラミックスの製造方法に関す
る。
る。
[従来の技術]
超電導効果が得られる物質としては、絶対温度20に付
近でその効果が得られるNb5sn系、Nb 3Ge系
、Nb Ti系等の金属系超電導物質が知られている。
近でその効果が得られるNb5sn系、Nb 3Ge系
、Nb Ti系等の金属系超電導物質が知られている。
このような超電導効果を有する物質の電流の密度が一定
値以上になると、超電導物質の抵抗値が増大し、超電導
効果を得ることができなくなる。この抵抗値の増大が始
まる電流密度は臨界電流密度Jc[A/aJ]と呼ばれ
ている。
値以上になると、超電導物質の抵抗値が増大し、超電導
効果を得ることができなくなる。この抵抗値の増大が始
まる電流密度は臨界電流密度Jc[A/aJ]と呼ばれ
ている。
このような従来の金属合金系の超電導物質よりもはるか
に高い温度(絶対温度90度付近)で超電導効果を得る
ことが可能なRBa 2Cu 3O゜、系超電導セラミ
ックスが最近発見され、実用化に向けて各方面で検討が
進められている。この検討の結果として、RBa 2C
u 3O□−8系高温超電導セラミツクスは、BaOか
らなる層と、CUol−8からなる層とを有する層状ペ
ロブスカイト構造の化合物であり、前記層状へロブスカ
イト化合物が斜方晶の時は超電導現象がみられ、前記化
合物が正方晶のときは超電導現象がみられなくなること
、あるいは、前記層状ペロプスカイト化合物中に含まれ
る酸素の量が少ないと、前記層状ペロプスカイト化合物
が斜方晶から正方晶に転移して超電導現象がみちれなく
なる二゛と、あるいは、前記層状へロブスカイト化合物
中に含まれる酸素の量が多くなれば成るほど臨界電流密
度Jc [A/−]が大きくなること、等が報告され
ている。
に高い温度(絶対温度90度付近)で超電導効果を得る
ことが可能なRBa 2Cu 3O゜、系超電導セラミ
ックスが最近発見され、実用化に向けて各方面で検討が
進められている。この検討の結果として、RBa 2C
u 3O□−8系高温超電導セラミツクスは、BaOか
らなる層と、CUol−8からなる層とを有する層状ペ
ロブスカイト構造の化合物であり、前記層状へロブスカ
イト化合物が斜方晶の時は超電導現象がみられ、前記化
合物が正方晶のときは超電導現象がみられなくなること
、あるいは、前記層状ペロプスカイト化合物中に含まれ
る酸素の量が少ないと、前記層状ペロプスカイト化合物
が斜方晶から正方晶に転移して超電導現象がみちれなく
なる二゛と、あるいは、前記層状へロブスカイト化合物
中に含まれる酸素の量が多くなれば成るほど臨界電流密
度Jc [A/−]が大きくなること、等が報告され
ている。
更に、前記層状ペロブスカイト化合物中に含まれる酸素
の量を多くするための手段も種々検討され、例えば、R
Ba 2Cu 3O□−8系超電導セラミツクスの焼成
を酸素雰囲気中で行うこと、あるいは、酸素雰囲気中で
一旦焼成を行った後、更に酸素雰囲気中において、正方
晶と斜方晶との転移点付近の温度でアニールを行うこと
等が提案されている。 この種の提案に従う典型的なR
Ba 2Cu3O7−x系超電導セラミックスの製造方
法は次の工程から成る。
の量を多くするための手段も種々検討され、例えば、R
Ba 2Cu 3O□−8系超電導セラミツクスの焼成
を酸素雰囲気中で行うこと、あるいは、酸素雰囲気中で
一旦焼成を行った後、更に酸素雰囲気中において、正方
晶と斜方晶との転移点付近の温度でアニールを行うこと
等が提案されている。 この種の提案に従う典型的なR
Ba 2Cu3O7−x系超電導セラミックスの製造方
法は次の工程から成る。
(1) Y2O3、BaCO3、CuO等の原料粉末を
所定の比率(Y:Ba :Cu=1:2:3)になるよ
うに配合し、乳鉢またはボールミル等を用いて混合する
。
所定の比率(Y:Ba :Cu=1:2:3)になるよ
うに配合し、乳鉢またはボールミル等を用いて混合する
。
〈2) この原料混合物を800°C〜1000℃、大
気中で仮焼すること及び仮焼されたものを乳鉢またはボ
ールミルで粉砕することを繰り返して粒径約1008m
以下の単相のYBa 2cu 3O7−X粉末を得る。
気中で仮焼すること及び仮焼されたものを乳鉢またはボ
ールミルで粉砕することを繰り返して粒径約1008m
以下の単相のYBa 2cu 3O7−X粉末を得る。
なお、仮焼は合計3O時間程度行う。
(3) 得られた粉末をさらに平均粒径1.0〜10μ
mに粉砕したのち、非水系有機バインダーを加えて混合
、造粒し、所定の形状にプレス成形し、酸素雰囲気中8
00〜900℃で約5時開焼成して焼結体を得る。
mに粉砕したのち、非水系有機バインダーを加えて混合
、造粒し、所定の形状にプレス成形し、酸素雰囲気中8
00〜900℃で約5時開焼成して焼結体を得る。
(4) 得られた焼結体を酸素雰囲気中で400〜50
0℃で約12時間のアニールを行う。
0℃で約12時間のアニールを行う。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、前記従来の製造方法を用いて製造したR
Ba2Cu3O7−x系セラミックスについても、従来
の金属系超電導物質に比べてその臨界電流密度Jc
[A/cd]’は極めて小さく、満足する値に至ってい
ない。
Ba2Cu3O7−x系セラミックスについても、従来
の金属系超電導物質に比べてその臨界電流密度Jc
[A/cd]’は極めて小さく、満足する値に至ってい
ない。
本発明は、この臨界電流密度Jc [A/allを向
上させることが可能なRBa Cu 3O.X系超電
導セラミックス−の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
上させることが可能なRBa Cu 3O.X系超電
導セラミックス−の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
[問題点を解決するための手段]
上記問題点を解決し、上記目的を達成するための本発明
は、R(但しRはY、Nd 、Dy 、Eu、Gd 、
Ha等の3価の希土類元素)の酸化物と、BaO2(過
酸化バリウム)と、Cu 02 (過酸化銅)とから
成る原料粉末を用意する工程と、前記原料粉末を仮焼し
てRBa 2 CU s o 7−x (但しXは1よ
り小さい数値)の粉末を得る工程と、前記RBa C
u 3O□−8の粉末の所定形状の或形体を得る工程と
、前記成形体を焼成して焼結体を得る工程とを有する超
電導セラミックスの製造方法に係わるものである。
は、R(但しRはY、Nd 、Dy 、Eu、Gd 、
Ha等の3価の希土類元素)の酸化物と、BaO2(過
酸化バリウム)と、Cu 02 (過酸化銅)とから
成る原料粉末を用意する工程と、前記原料粉末を仮焼し
てRBa 2 CU s o 7−x (但しXは1よ
り小さい数値)の粉末を得る工程と、前記RBa C
u 3O□−8の粉末の所定形状の或形体を得る工程と
、前記成形体を焼成して焼結体を得る工程とを有する超
電導セラミックスの製造方法に係わるものである。
[作用コ
原料粉末として過酸化物モあるBa o2.およびCu
O2を用いることにより、仮焼の際に過酸化物中に含ま
れる過剰な酸素の影響下でRBa 2CL13O7−X
粉末の合成が行われ、RBa、2 Cu3O7−x系
セラミックス中に含まれる酸素の量が多くな・す、臨界
電流密度Jcが高くなる。なお、過酸化物に基づく作用
効果は、アニール工程の有無に無関係に得られる。
O2を用いることにより、仮焼の際に過酸化物中に含ま
れる過剰な酸素の影響下でRBa 2CL13O7−X
粉末の合成が行われ、RBa、2 Cu3O7−x系
セラミックス中に含まれる酸素の量が多くな・す、臨界
電流密度Jcが高くなる。なお、過酸化物に基づく作用
効果は、アニール工程の有無に無関係に得られる。
[実施例1コ
次に、本発明の実施例1に係わる超電導セラミックスの
製造方法を説明する。
製造方法を説明する。
超電導セラミックスは次の(1)〜(9)の工程で作製
した。
した。
(1) Y2O3(酸化イツトリウム)粉末、BaO2
(過酸化バリウム)粉末、CuO2(過酸化銅)粉末を
Y:Ba:Ctlの原子比が1:2:3になるように配
合してボールミルで15時時闇拌して原料混合粉末を得
な。
(過酸化バリウム)粉末、CuO2(過酸化銅)粉末を
Y:Ba:Ctlの原子比が1:2:3になるように配
合してボールミルで15時時闇拌して原料混合粉末を得
な。
(2) 得られた原料混合粉末を大気中、920℃で3
2時間焼成し、しかる後ボールミルで粉砕して平均粒径
50μmの仮焼粉末を得た。なお、920’Cまで2時
間要して昇温し、920℃から室温まで6時間要して降
温しな。
2時間焼成し、しかる後ボールミルで粉砕して平均粒径
50μmの仮焼粉末を得た。なお、920’Cまで2時
間要して昇温し、920℃から室温まで6時間要して降
温しな。
(3) 上記(2)の工程と同一の焼成及び粉砕処理を
繰り遅しな。
繰り遅しな。
(4) 得られな仮焼粉末をボールミルで更に粉砕して
平均粒径5μmの黒色粉末(単相のYBa 2 CU
3O7−X )を得た。
平均粒径5μmの黒色粉末(単相のYBa 2 CU
3O7−X )を得た。
(5) 上記黒色粉末に対し、1.5wt%の非水系有
機バインダーを添加してライカイ機で混合、造粒し、3
25メツシユのフルイを通して造粒粉末を得た。
機バインダーを添加してライカイ機で混合、造粒し、3
25メツシユのフルイを通して造粒粉末を得た。
(6ン 得られた造粒粉末を3Okg/cefの圧力で
プレス成形して直径16里、厚さ5−の板状の成形体を
得た。
プレス成形して直径16里、厚さ5−の板状の成形体を
得た。
(7) 得られた成形体を酸素雰囲気中900℃で5時
間焼成し焼結体を得た。なお、900℃まで2時間要し
て昇温し、900℃から室温まで6時間要して降温しな
。
間焼成し焼結体を得た。なお、900℃まで2時間要し
て昇温し、900℃から室温まで6時間要して降温しな
。
(8) 得られた焼結体を酸素雰囲気中500℃で12
時間アニールした。なお、500℃まで2時間要して昇
温し、500℃から室温まで6時間要して降温した。
時間アニールした。なお、500℃まで2時間要して昇
温し、500℃から室温まで6時間要して降温した。
(9) 得られた焼結体を精密低速切断機を用いて切削
し、2X2X10+mの角柱状の試料を得な。
し、2X2X10+mの角柱状の試料を得な。
上記(1)〜(9)の工程で得られた試料について、ク
ライオスタットを用いて液体窒素温度77Kにおける臨
界電流密度Jcを測定したところ、4、3 [A/a#
コであった。なお、上記工程(4)で得られた黒色粉末
が単相のYBa 2Cu 3O7−8であることはX線
回折分析装置によって確認しな、 比較のなめに、上記
工程(1)におけるBaO2を従来のBa CO3(炭
酸バリウム)に、またCuO□を従来のCu O(酸化
銅)に変えた他は、上記(1)〜(9)と同一の方法で
試料片を作り、臨界電流密度Jcを測定しなところ、2
゜0 [A/dlであった。これにより、実施例1の試
料片の臨界電流密度が比軸例に比べるて2倍以上向上し
たことが分る。 ・ [実施例2コ 実施例1の工程(1)における原料粉末のY2O3をD
y 2 os <酸化ジスプロシウム)に変えた他は
実施例1の工程(1)〜(9)と同一の方法で試料片を
作製し、臨界電流密度Jcを測定したところ、4.5
[A/aJコであった。なお、仮焼後の黒色粉末はDy
Ba Cu 3O7−xであることをX線回折分析
装置を用いた分析で確認した。
ライオスタットを用いて液体窒素温度77Kにおける臨
界電流密度Jcを測定したところ、4、3 [A/a#
コであった。なお、上記工程(4)で得られた黒色粉末
が単相のYBa 2Cu 3O7−8であることはX線
回折分析装置によって確認しな、 比較のなめに、上記
工程(1)におけるBaO2を従来のBa CO3(炭
酸バリウム)に、またCuO□を従来のCu O(酸化
銅)に変えた他は、上記(1)〜(9)と同一の方法で
試料片を作り、臨界電流密度Jcを測定しなところ、2
゜0 [A/dlであった。これにより、実施例1の試
料片の臨界電流密度が比軸例に比べるて2倍以上向上し
たことが分る。 ・ [実施例2コ 実施例1の工程(1)における原料粉末のY2O3をD
y 2 os <酸化ジスプロシウム)に変えた他は
実施例1の工程(1)〜(9)と同一の方法で試料片を
作製し、臨界電流密度Jcを測定したところ、4.5
[A/aJコであった。なお、仮焼後の黒色粉末はDy
Ba Cu 3O7−xであることをX線回折分析
装置を用いた分析で確認した。
比較のなめに、原料混合粉末をDy 20s 、BaC
O3、CuOに変えた他は実施8ilJ1の工程(1)
〜(9)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界
電流密度Jcを測定しなところ、2゜8[A/−コであ
った。
O3、CuOに変えた他は実施8ilJ1の工程(1)
〜(9)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界
電流密度Jcを測定しなところ、2゜8[A/−コであ
った。
[実施例3]
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2O3をN
d2O3(酸化ネオジム)に変えた他は実施例1の工程
(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨界電
流密度Jcを測定したところ、2.9 [A/、jlで
あった。なお、仮焼後の黒色粉末はNd Ba 2Cu
3O.xであることをX!!回折分析装置を用いた分
析で確認した。
d2O3(酸化ネオジム)に変えた他は実施例1の工程
(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨界電
流密度Jcを測定したところ、2.9 [A/、jlで
あった。なお、仮焼後の黒色粉末はNd Ba 2Cu
3O.xであることをX!!回折分析装置を用いた分
析で確認した。
比較のために、原料混合粉末をNd2O3、BaCO3
、CuOに変えた他は実施例1の工程(1)〜(9)と
同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流密度J
cを測定したところ、1゜5 [A/ailであった。
、CuOに変えた他は実施例1の工程(1)〜(9)と
同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流密度J
cを測定したところ、1゜5 [A/ailであった。
[実施例4]
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2OをEu
2O3(酸化ユーロピウム)に変えた他は実施例1の工
程(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨界
電流密度Jcを測定したところ、3.0 [A/al!
]であった。なお、仮焼後の黒色粉末はEu Ba 2
Cu 3O.xであることをX線回折分析装置を用い
た分析で確認した。
2O3(酸化ユーロピウム)に変えた他は実施例1の工
程(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨界
電流密度Jcを測定したところ、3.0 [A/al!
]であった。なお、仮焼後の黒色粉末はEu Ba 2
Cu 3O.xであることをX線回折分析装置を用い
た分析で確認した。
比較のなめに、K料混合粉末をEu 203、Ba C
o3、Cu Oに変えた他は実施例1の工程(1)〜(
9)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流
密度Jcを測定したところ、2゜0 [A/cdlであ
った。
o3、Cu Oに変えた他は実施例1の工程(1)〜(
9)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流
密度Jcを測定したところ、2゜0 [A/cdlであ
った。
[実施例5]
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2OをNd
7O3(酸化ホルミウム)に変えた他は実施例1の工程
(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨界電
流密度Jcを測定したところ、3.9 [A/cdコで
あった。なお、仮焼後の黒色粉末はHOBa 2Ctj
3O.)IであることをX線回折分析装置を用いた分
析で確認した。
7O3(酸化ホルミウム)に変えた他は実施例1の工程
(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨界電
流密度Jcを測定したところ、3.9 [A/cdコで
あった。なお、仮焼後の黒色粉末はHOBa 2Ctj
3O.)IであることをX線回折分析装置を用いた分
析で確認した。
比較のために、原料混合粉末をHO203、Ba co
3、cu oに変えた他は実施例1の工程(1)〜(9
)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流密
度Jcを測定したところ、2゜2 [A/a&]であっ
た。
3、cu oに変えた他は実施例1の工程(1)〜(9
)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流密
度Jcを測定したところ、2゜2 [A/a&]であっ
た。
[実施例6コ
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2OをGd
2O3′(酸化ガドリニウム)に変えた他は実施例1の
工程(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨
界電流密度Jcを測定したところ、3.4 [A/al
iコであった。なお、仮焼後の黒色粉末はGd Ba
2Cu 3O7−xであることをX線回折分析装置を用
いた分析で確認した。
2O3′(酸化ガドリニウム)に変えた他は実施例1の
工程(1)〜(9)と同一の方法で試料片を作製し、臨
界電流密度Jcを測定したところ、3.4 [A/al
iコであった。なお、仮焼後の黒色粉末はGd Ba
2Cu 3O7−xであることをX線回折分析装置を用
いた分析で確認した。
比較のために、原料混合粉末をGd2O3、Ba Co
3.Cu Oに変えた他は実施例1の工程(1)〜(9
)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流密
度Jcを測定したところ、1゜9 [A/cd]であっ
た。
3.Cu Oに変えた他は実施例1の工程(1)〜(9
)と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電流密
度Jcを測定したところ、1゜9 [A/cd]であっ
た。
[実施例7]
実施例1のアニール工程(8)を省いた伯は実施例1と
同一の方法で試料片を作製し、臨界電流密度Jcを測定
したところ、3.5 [A/CiI]であった。
同一の方法で試料片を作製し、臨界電流密度Jcを測定
したところ、3.5 [A/CiI]であった。
比較のために、原料混合粉末をY2O3、BaCo3.
Cu Oに変え且つアニール工程(8)を省いた他は実
施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電
流密度Jcを測定したところ、1.8[A/−コであっ
た。
Cu Oに変え且つアニール工程(8)を省いた他は実
施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電
流密度Jcを測定したところ、1.8[A/−コであっ
た。
これにより、アニール工程の有無に無関係に本発明に基
づ(BaOとCuO2の作用効果が得ちれることが分っ
た。また、BaO7及びCuO2を使用してもアニール
の効果は従来通り得られることが分った。
づ(BaOとCuO2の作用効果が得ちれることが分っ
た。また、BaO7及びCuO2を使用してもアニール
の効果は従来通り得られることが分った。
[実施例8]
実施例1の工程(1)に゛おける原料粉末のY2O3を
Dy2゜3に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニー
ルを省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し
、臨界電流密度Jcを測定したところ、3.6 [A/
cd]であった。
Dy2゜3に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニー
ルを省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し
、臨界電流密度Jcを測定したところ、3.6 [A/
cd]であった。
比較のために、原料混合粉末をDy 203 、Ba
Co3、Cu Oに変え且つアニール工程(8)を省い
た他は実施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、こ
の臨界電流密度Jcを測定したところ、2.5 [A1
0J]であった。
Co3、Cu Oに変え且つアニール工程(8)を省い
た他は実施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、こ
の臨界電流密度Jcを測定したところ、2.5 [A1
0J]であった。
[実施例9]
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2OをN
d 203に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニー
ルを省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し
、臨界電流密度Jcを測定したところ、2゜2 [A/
aJ]であった。
d 203に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニー
ルを省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し
、臨界電流密度Jcを測定したところ、2゜2 [A/
aJ]であった。
比較のために、原料混合粉末をNd 203、Ba C
o3、Cu Oに変え且つアニール工程(8)を省いた
他は実施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、この
臨界電流密度Jcを測定したところ、1.2 [A/c
dlであった。
o3、Cu Oに変え且つアニール工程(8)を省いた
他は実施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、この
臨界電流密度Jcを測定したところ、1.2 [A/c
dlであった。
[実施例101
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2OをEu
に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニール
を省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し、
臨界電流密度Jcを測定しなところ、2.6 [A/d
コであった。
に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニール
を省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し、
臨界電流密度Jcを測定しなところ、2.6 [A/d
コであった。
比較のために、原料混合粉末をEu 、B2O2
aC03、CuOに変え且つアニール工程(8)を省い
た他は実施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、こ
の臨界電流密度Jcを測定しなところ、1.7 [A/
cdコであった。
た他は実施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、こ
の臨界電流密度Jcを測定しなところ、1.7 [A/
cdコであった。
[実施例11]
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2OをHO
203に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニールを
省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し、臨
界電流密度Jcを測定したところ、2゜9 [A/al
l]であった。
203に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニールを
省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し、臨
界電流密度Jcを測定したところ、2゜9 [A/al
l]であった。
比較のために、原料混合粉末をHO□03、BaCO3
、Cuoに変え且つアニール工程(8)を省いた他は実
施例1と同=の方法で比較試料片を作製し、この臨界電
流密度Jcを測定したところ、2.0 [A/d]であ
った。
、Cuoに変え且つアニール工程(8)を省いた他は実
施例1と同=の方法で比較試料片を作製し、この臨界電
流密度Jcを測定したところ、2.0 [A/d]であ
った。
[実施例12]
実施例1の工程(1)における原料粉末のY2O3をG
d2O3に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニール
を省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し、
臨界電流密度Jcを測定したところ、3.0 [A/c
d]であった。
d2O3に変え、且つ実施例1の工程(8)のアニール
を省いた他は実施例1と同一の方法で試料片を作製し、
臨界電流密度Jcを測定したところ、3.0 [A/c
d]であった。
比較のために、原料混合粉末をGd2O3、BaCO3
、CuOに変え且つアニール工程(8)を省いた他は実
施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電
流密度Jcを測定したところ、1.8 [A/dコであ
った。
、CuOに変え且つアニール工程(8)を省いた他は実
施例1と同一の方法で比較試料片を作製し、この臨界電
流密度Jcを測定したところ、1.8 [A/dコであ
った。
[変形例コ
本発明は上述の実施例に限定されるものでなく、例えば
次の変形が可能なものである。
次の変形が可能なものである。
(1) 工程(2)(3)の仮焼の温度をRBa2cu
3O□−8が得られる範囲で(例えば800℃〜i o
o o”c>で種々変えることができる。
3O□−8が得られる範囲で(例えば800℃〜i o
o o”c>で種々変えることができる。
(2) 工程(5)の酸素雰囲気中の焼成温度を、焼結
体が得られる範囲(例えば800℃〜1000℃)で種
々変えることができる。
体が得られる範囲(例えば800℃〜1000℃)で種
々変えることができる。
(3) 希土類元素Rの原料は実施例以外のEr 、Y
b 、Tm 、Lu等の酸化物であってもよい。
b 、Tm 、Lu等の酸化物であってもよい。
また、複数種の希土類金R酸化物を原料としてもよい。
(4) 工程(4)と工程(5)との間に黒色粉末の例
えば3O0℃のアニール工程を付加してもよい。
えば3O0℃のアニール工程を付加してもよい。
[発明の効果]
上述から明らかな如く、原料粉末として過酸化物である
BaO2、CuO2を用いることにより、仮焼の際に過
酸化物に基づく過剰な酸素の影響下でRBa 2Cu
3o、−)!の合成が行われ、酸素の量の多いセラミッ
クスを得ることができる。この結果、超電導セラミック
スの臨界電流密度Jcを高めることができる。
BaO2、CuO2を用いることにより、仮焼の際に過
酸化物に基づく過剰な酸素の影響下でRBa 2Cu
3o、−)!の合成が行われ、酸素の量の多いセラミッ
クスを得ることができる。この結果、超電導セラミック
スの臨界電流密度Jcを高めることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 R(但しRは3価の希土類元素)の酸化物と、BaO_
2(過酸化バリウム)と、CuO_2(過酸化銅)とか
ら成る原料粉末を用意する工程と、前記原料粉末を仮焼
してRBa_2Cu_3O_7_−_x(但しxは1よ
り小さい数値)の粉末を得る工程と、 前記RBa_2Cu_3O_7_−_xの粉末の所定形
状の成形体を得る工程と、 前記成形体を焼成して焼結体を得る工程と を有する超電導セラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62298814A JPH01141868A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 超電導セラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62298814A JPH01141868A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 超電導セラミツクスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01141868A true JPH01141868A (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=17864565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62298814A Pending JPH01141868A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 超電導セラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01141868A (ja) |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP62298814A patent/JPH01141868A/ja active Pending
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