JPH01141808A - 高純度窒化アルミニウム紛末の製造法 - Google Patents

高純度窒化アルミニウム紛末の製造法

Info

Publication number
JPH01141808A
JPH01141808A JP29878687A JP29878687A JPH01141808A JP H01141808 A JPH01141808 A JP H01141808A JP 29878687 A JP29878687 A JP 29878687A JP 29878687 A JP29878687 A JP 29878687A JP H01141808 A JPH01141808 A JP H01141808A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
reaction
purity
reaction tube
high purity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29878687A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Tada
清志 多田
Eiji Yoshimoto
吉本 栄治
Teruo Kitamura
照夫 北村
Eizo Isoyama
礒山 永三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Altemira Co Ltd
Original Assignee
Showa Aluminum Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Aluminum Corp filed Critical Showa Aluminum Corp
Priority to JP29878687A priority Critical patent/JPH01141808A/ja
Publication of JPH01141808A publication Critical patent/JPH01141808A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、熱伝導性、耐熱性、絶縁性に優れた電子材
料用基板、金属溶融器等の材料に使用される窒化アルミ
ニウム粉末(以下AρN粉末という)の製造方法、特に
浮上式直接窒化法によるAΩN粉末の製造方法に関する
従来の技術 AΩN粉末の製造方法としては、AΩ粉末からの直接窒
化法やアルミナ粉末からの炭素還元法などがあるが、工
業的には直接窒化法が一般に用いられている。
直接窒化法は、へΩ粉末と窒素(N2)ガスとを直接接
触反応せしめるものであるが、AQ粉末の表面が窒化さ
れると初期段階でその表面に硬い安定な窒化アルミニウ
ム被膜ができ、−種のシェル構造を形成して内部への窒
化反応が抑制されてしまうため、形成されたAΩN被膜
を破ってから更に窒化反応せしめる必要を生じる。この
ため、AflN粉末の製造のためには、窒化反応と粉砕
を繰返す必要を生じ、粉砕工程での汚染による純度低下
の問題があった。
そこで、最近、上記欠点を排除しうる直接窒化法として
、浮上式によるAfiN粉末の製造方法が注目されてい
る。該浮上式直接窒化法は、耐熱材料たとえばアルミナ
焼結体からなる反応管中で、アルミニウム粉末をN2ガ
ス流で浮上させつ\、高温に加熱して窒化反応を進行せ
しめるものであり、粉砕工程を要することなく焼結用の
細かい粒度のAΩN粉末を得ることができる。
発明が解決しようとする問題点 ところが、上記浮上式直接窒化法による場合、得られる
AfiN粉末において出発原料に含まれる不純物範囲を
超えたS i s Mgの含をが認められ、AΩN粉末
の純度の低下を来たしていることが認められた。
そこで、本発明者らは上記純度低下の原因につき種々考
究したところ、反応管に用いているアルミナ焼結体に含
まれる焼結助剤が14反応雰囲気を汚染し、純度低下の
要因をなしていることを解明し得た。即ち、従来、反応
管として一般に用いられているアルミナ焼結体は、焼結
助剤として5i02;2〜3%、Mg O: 1%、C
aO:1%以下の程度に含むものであり、上記焼結助剤
に含むMg%S1によって反応管内の反応雰囲気に汚染
を生じていることが主要原因の1つであることが判明し
た。
而して、この発明は、上記の解明に基づき、反応管によ
る反応雰囲気の汚染を防止して、−段と高純度のAQN
粉末の製造を可能とすることを目的としてなされたもの
である。
問題点を解決するための手段 この発明は、上記の目的達成手段として、アルミナ製の
反応管を、焼結助剤としてのSiO2、MgOの含有量
を極限まで減らした高純度のアルミナからなるものとし
、反応管からの反応雰囲気の汚染を防止するようにした
ものである。
即ち、この発明は、前記の浮上式直接窒化法によるAf
lN粉末の製造方法の実施において、特に、上記反応管
に、焼結助剤としてのSiO2及びMg Oの濃度をい
ずれも0,1%以下に規制することによりアルミナ純度
を99,5%以上に製作したアルミナ焼結体からなるも
のを用いることを特徴とするものである。
反応管のアルミナ純度が99,5%未満である場合は、
窒化反応管中の雰囲気の汚染防止効果に不充分である。
かつまた、反応管の該純度を保証するために、焼結助剤
としての5I02及びMg Oの濃度は、いずれも0.
1%以下に規制されるものである。
この発明による浮上式直接窒化法の実施の概要を、第1
図に示すプラント設備に基づいて説明すれば次のとおり
である。
この発明の実施のためのAρN製造装置は、大きく分け
て供給部(A)と、反応部CB)と、捕集部(C)とを
具備し、これらが単一のガス流路としての移送配管系を
構成するように順次連結されたものである。
供給部(A)は原料Aρ粉末(AQ)を収容する粉末容
器(1)と、これにガス供給管(2)を介して高純度N
2ガスを給送するN2ガスボンベ(3)と、容器内底部
に設けられたアジテータ−(4)とを具備し、容器(1
)内に収容されたAQ粉末を、N2ガス供給管(2)か
ら導入されるN2ガス気流によって浮上させ、反応部(
B)へ向けて送り出すものとなされている。アジテータ
−(4)は容器(1)内でのAQ粉末の凝集を防止し、
AR粉末をN2ガスの上昇気流に乗せるための補助的役
割を果すが、必ずしもこれを必要とするものではなく、
N2ガス流のみに依存して上記AΩ粉末の掻乱、浮上を
行わせるものとなすことも可能である。
反応部(B)は、耐熱性材料としてのアルミナ焼結体か
らなる反応管(5)と、その周りに配置された加熱装置
(6)とからなる。反応管(5)はその一端が直接また
は連結管を介して間接に供給部(A)の粉末容器(1)
に連通接続されており、その内部を供給部からN2ガス
流に乗せ送られてくるAΩ粉末が流通する。そして、そ
の流通過程で、加熱装置(6)からの加熱を受けてAQ
粉末とN2ガスとの反応を生じ、AQ粉末の窒化が達成
される。ここに、窒化反応の初期段階では、AQ粉末は
その表面部のみが窒化されて硬いAΩN彼膜を形成し、
内部への窒化が阻害される現象をもたらすが、続いてそ
のま一反応管(5)中を移送される過程で更に昇温され
ることにより、連鎖的窒化反応を生じて、完全なる窒化
がもたらされると共に、12N粉末の微細化が達成され
る。即ち、加熱温度及び反応時間の増大とともに、反応
初期段階で12粉末表面に形成されたAΩN被膜と内部
の未反応のAQとの熱膨張差と、更には恐らく蒸気圧差
にも基因して、AQN被膜に亀裂が発生し、その部分で
また新しい反応が生じ、その反応熱が蓄積された場合は
反応部付近の急激な温度上昇でAΩN被膜の崩壊ととも
に溶融Aρの飛び出しを伴いつ一1反応が加速度的連鎖
進行を生じ、高純度なAρN粉末に生成される。
かつ表面のAΩN被膜の亀裂による粉末内部からの未反
応溶融AΩの飛び出し、あるいは流出は、それによって
粉末の空洞化をもたらし、粉砕の容易なAIl中空粒子
を形成する一方、AΩN被膜の崩壊及び流出AΩの二次
的窒化は実質的に粉砕に相当する効果をもたらす。
ところで、この発明において上記反応管(5)は、Si
O2、MgO等の焼結助剤を極めて低濃度、即ち0.1
%以下の僅少量に用いてアルミナ粉末を焼結した純度9
9.5%以上の高純度アルミナ焼結体が用いられるもの
である。そしてこれによって上記窒化反応中、反応管(
5)内壁からのSl、Mg等による反応雰囲気の汚染を
防ぎ、ひいてはそれらがAΩN粉末に不純物として含有
されるのを防止し、製品の純度の向上に寄与を果しうる
ちのである。
捕集部(C)は、捕集容器(7)と、その上部に開口さ
れたフィルター(8a ) 付きのN2ガス排出口(8
)とを備え、捕集容器(7)の天板部が連結管(9)を
介して反応部(B)の反応管(5)の上端に連通接続さ
れている。而して、反応部(B)を経てN2ガス流に乗
って連結管(9)から移送されてくる反応部のAρN粉
末は、捕集容器(7)内でN2ガスと分離され、その底
部に堆積する一方、N2ガスは排出口(8)から系外へ
排出される。
なお、反応部(B)における反応管(5)の長さ、管径
は、N2ガス流速、昇温速度、反応時間等の反応条件に
応じて決定されるものである。また、加熱装置(6)と
しては、最も一般的には電気抵抗加熱炉が用いられるが
、その他の加熱手段を用いるものとしてもよい。
発明の効果 この発明によれば、上述の次第で浮上式直接窒化法によ
るIN粉末の製造方法において、使用するアルミナ反応
管に焼結助剤濃度の低い高純度のアルミナ焼結体からな
るものを使用することにより、製品のAΩN純度に深い
か−わりをもつ反応管中の雰囲気が、反応管自体から8
1やMgで汚染されるのを防止でき、ひいてはそれらに
よるAfiN粉末の純度の低下を防止して一段と高純度
のAflN粉末を得ることを可能にする効果を奏する。
実施例 添附図面に示した製造装置により、アトマイズ法によっ
て製造された純度99.99%(不純物St  : 4
8ppm 、Fe : 24ppm SMg :5pp
m ) 、平均粒径15μmの高純度アルミニウム粉末
を原料粉末として用い、これを供給部(A)の粉末容器
(1)に投入したのち、該容器内にN2ガスボンベ(3
)から純度99.999%のN2ガスを供給すると共に
、アジテータ−(4)を駆動し、N2ガス流に乗せてA
Ω粉末を反応部(B)に向けて上昇移送せしめるものと
した。ここに、反応管(5)として内径35M1長さ1
000m+のアルミナ管を使用し、反応部(B)内での
ガス流速を約1. 0Ω/11inになるものとした。
そして、加熱装置(6)により反応部(B)の温度、即
ち反応管(5)内の温度を1550℃に設定して反応さ
せ、捕集部(C)の捕集容器(7)内に微細なAΩN粉
末を回収するものとした。
而して、上記反応管(5)に、焼結助剤として5i02
:2〜3%、Mg O: 1%、Cab:0.1%以下
を含むAQ203純度が約95%であるアルミナ焼結体
によるもの(比較)と、焼結助剤としての3102、M
gOをいずれも0.1%以下に使用してAp203純度
を99゜5%以上に製作したアルミナ焼結体によるもの
(発明)との2種類を使用し、前記窒化反応によって得
られたAfiN粉末の純度の比較を行った。その結果を
下記第1表に示す。
第1表 上表の結果に示されるように、この発明の実施によれば
、Sl及びMgによる純度の低下を防止し、−段と高純
度のAΩN粉末を得ることができることを確認し得た。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるAΩN粉末製造装置の一例を示
す概略構成図である。 (A)・・・供給部、(B)・・・反応部、(C)・・
・捕集部、(1)・・・粉末容器、(3)・・・N2ガ
スボンベ、(5)・・・反応管、(6)・・・加熱装置
、(7)・・・捕集容器、(9)・・・連結管。 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 アルミナ焼結体からなる反応管中で、アルミニウム粉末
    を窒素ガス流によって浮上させつゝ直接反応せしめる浮
    上式直接窒化法による窒化アルミニウム粉末の製造方法
    において、 上記反応管に、焼結助剤としてのSiO_2及びMgO
    の濃度をいずれも0.1%以下に規制することによりア
    ルミナ純度を99.5%以上に製作したアルミナ焼結体
    からなるものを用いることを特徴とする、高純度窒化ア
    ルミニウム粉末の製造法。
JP29878687A 1987-11-26 1987-11-26 高純度窒化アルミニウム紛末の製造法 Pending JPH01141808A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29878687A JPH01141808A (ja) 1987-11-26 1987-11-26 高純度窒化アルミニウム紛末の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29878687A JPH01141808A (ja) 1987-11-26 1987-11-26 高純度窒化アルミニウム紛末の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01141808A true JPH01141808A (ja) 1989-06-02

Family

ID=17864201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29878687A Pending JPH01141808A (ja) 1987-11-26 1987-11-26 高純度窒化アルミニウム紛末の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01141808A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7964172B2 (en) Method of manufacturing high-surface-area silicon
TWI778941B (zh) 以矽石製造高純度矽的裝置及方法
JPS6227318A (ja) Sio微粉末の製造方法およびその装置
JP2003206126A (ja) 高純度・超微粉SiOx粉及びその製造方法
JPH0692712A (ja) 微粒子酸化物セラミツク粉末
US4525335A (en) Method of manufacturing crystalline silicon nitride and method of separation thereof
TWI429792B (zh) 製造固體產物的方法和設備
JPH0352402B2 (ja)
JPH01141808A (ja) 高純度窒化アルミニウム紛末の製造法
JP2005225690A (ja) SiOの製造方法及び製造装置
JPS63195102A (ja) 窒化アルミニウム粉末の連続的製造方法及び装置
JPH01226709A (ja) 高純度窒化アルミニウム紛末の製造方法
JPH01141809A (ja) 高純度窒化アルミニウム粉末の製造法
RU2327639C2 (ru) Способ получения кремния высокой чистоты
JP2528367B2 (ja) 多結晶シリコンの加熱装置
JP3804947B2 (ja) 高α型窒化ケイ素微粉末の製造方法
KR101525859B1 (ko) 고순도 실리콘 미세분말의 제조 장치
JPH03150327A (ja) 金属Tiの製造方法
JPS5820799A (ja) 炭化珪素ウイスカ−の製造法
JPH01308812A (ja) 窒化アルミニウム粉末の連続的製造方法及び装置
JPS5950014A (ja) 珪素粉末の製造方法
JPH02283605A (ja) 窒化アルミニウム粉末の連続的製造方法及び装置
JPS63277503A (ja) 高純度窒化アルミニウム粉末の連続的製造方法及び装置
JPH03228809A (ja) 窒化アルミニウム粉末の製造方法
JPS6168310A (ja) シリコン切粉を原料とする高純度窒化けい素の製造方法