JPH01141809A - 高純度窒化アルミニウム粉末の製造法 - Google Patents

高純度窒化アルミニウム粉末の製造法

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JPH01141809A
JPH01141809A JP29878787A JP29878787A JPH01141809A JP H01141809 A JPH01141809 A JP H01141809A JP 29878787 A JP29878787 A JP 29878787A JP 29878787 A JP29878787 A JP 29878787A JP H01141809 A JPH01141809 A JP H01141809A
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reaction
powder
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purity
reaction tube
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JP29878787A
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Kiyoshi Tada
清志 多田
Eiji Yoshimoto
吉本 栄治
Teruo Kitamura
照夫 北村
Eizo Isoyama
礒山 永三
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Altemira Co Ltd
Original Assignee
Showa Aluminum Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、熱伝導性、耐熱性、絶縁性に優れた電子材
料用基板、金属溶融器等の材料に使用される窒化アルミ
ニウム粉末(以下AρN粉末という)の製造方法、特に
浮上式直接窒化法によるAρN粉末の製造方法に関する
従来の技術 AΩN粉末の製造方法としては、へρ粉末からの直接窒
化法やアルミナ粉末からの炭素還元法などがあるが、工
業的には直接窒化法が一般に用いられている。
直接窒化法は、AΩ粉末と窒素(N2)ガスとを直接接
触反応せしめるものであるが、AQ粉末の表面が窒化さ
れると初期段階でその表面に硬い安定な窒化アルミニウ
ム被膜ができ、−種のシェル構造を形成して内部への窒
化反応が抑制されてしまうため、形成されたAQN被膜
を破ってから更に窒化反応せしめる必要を生じる。この
ため、IN粉末の製造のためには、窒化反応と粉砕を繰
返す必要を生じ、粉砕工程での汚染による純度低下の問
題があった。
そこで、最近、上記欠点を排除しうる直接窒化法として
、浮上式によるA、QN粉末の製造方法が注目されてい
る。該浮上式直接窒化法は、耐熱材料たとえばアルミナ
焼結体からなる反応管中で、アルミニウム粉末をN2ガ
ス流で浮上させつ〜、高温に加熱して窒化反応を進行せ
しめるものであり、粉砕工程を要することなく焼結用の
細かい粒度のAρN粉末、を得ることができる。
発明が解決しようとする問題点 ところが、上記浮上式直接窒化法による場合、得られる
AQN粉末において出発原料に含まれる不純物範囲を超
えたSl、Mgの含有が認められ、更には酸化によりA
ΩN粉末の純度の低下を来たしていることが認められた
そこで、本発明者らは上記純度低下の原因につき種々考
究したところ、反応管に用いているアルミナ焼結体に含
まれる焼結助剤及び反応管の内面に吸着している02及
びH20が、反応雰囲気を汚染し、純度低下、酸素含有
量の増大の要因をなしていることを解明し得た。即ち、
従来、反応管として一般に用いられているアルミナ焼結
体は、焼結助剤としてSiO2:2〜3%、Mg O:
 1%、CaO:1%以下の程度に含むものであり、上
記焼結助剤に含むMg。
Slによって反応管内の反応雰囲気に汚染を生じている
一方、表面部に吸着している酸素や水分によっても上記
汚染を生じていることが主要原因をなしていることが判
明した。
而して、この発明は、上記の解明に基づき、反応管によ
る反応雰囲気の汚染を防止して、−段と酸素含有量の少
ない高純度のAQN粉末の製造を可能とすることを目的
としてなされたものである。
問題点を解決するための手段 この発明は、上記の目的達成手段として、アルミナ製の
反応管を、窒化反応操作の開始前に、予め窒素ガスを用
いてアニール処理することにより、反応管内壁に吸着し
ている02 、H20を取除き、更には汚染成分となる
Mg等を極力除去して反応管からの反応雰囲気の汚染を
防止するようにしたものである。
即ち、この発明は、前記の浮上式直接窒化法によるAf
fN粉末の製造方法の実施において、特に、上記窒化反
応を開始する前に予め前記反応管を、窒素ガスにより温
度: 1000〜1700℃で所定時間アニール処理す
ることを特徴とするものである。
上記アニール処理の温度は、それが1000時間未満で
は反応管内壁の清浄化効果に乏しく、また1700°C
を超える高温で処理するときは、アルミナ反応管自体の
物性に悪影響を及ぼすおそれがある。最も好ましい処理
温度は概ね1400〜1600℃程度である。また、ア
ニール処理時間は特に限定されるものではないが、−船
釣に30分未満では処理効果に不十分なものとなり易い
。しかし3時間をこえて長持間かけても、処理効果の格
段の増大は望めずむしろ時間及びエネルギーの損失の方
が大きい。最も好ましくは、1〜2.5時間程度の処理
で必要かつ十分である。
なお、製造されるAΩN粉末の純度には、前記のように
反応管自体のアルミナ純度も大きく影響する。従って、
使用するアルミナ反応管は、焼結助剤として含有される
5102やMg Oの濃度の可及的低い高純度のAn2
03からなるものを用いることが望ましい。而して、該
反応管としては、焼結助剤としての5j02及びMgO
の濃度がいずれも0.1%以下であり、Aρ203純度
が99.5%以上に製作されたものを用いることが推奨
される。
次に、この発明による浮上式直接窒化法の実施の概要を
、第1図に示すプラント設備に基づいて説明すれば次の
とおりである。
この発明の実施のためのAΩN製造装置は、大きく分け
て供給部(A)と、反応部(B)と、捕集部(C)とを
具備し、これらが単一のガス流路としての移送配管系を
構成するように順次連結されたものである。
供給部(A)は原料AΩ粉末(Afl)を収容する粉末
容器(1)と、これにガス供給管(2)を介して高純度
N2ガスを給送するN2ガスボンベ(3)と、容器内底
部に設けられたアジテータ−(4)とを具備し、容器(
1)内に収容されたAΩ粉末を、N2ガス供給管(2)
から導入されるN2ガス気流によって浮上させ、反応部
(B)へ向けて送り出すものとなされている。アジテー
タ−(4)は容器(1)内でのAQ粉末の凝集を防止し
、l粉末をN2ガスの上昇気流に乗せるための補助的役
割を果すが、必ずしもこれを必要とするものではなく、
N2ガス流のみに依存して上記AΩ粉末の撹乱、浮上を
行わせるものとなすことも可能である。
反応部(B)は、耐熱性材料としてのアルミナ焼結体か
らなる反応管(5)と、その周りに配置された加熱装置
(6)とからなる。反応管(5)はその一端が直接また
は連結管を介して間接に供給部(A)の粉末容器(1)
に連通接続されており、その内部を供給部からN2ガス
流に乗せ送られてくるAQ粉末が流通する。そして、そ
の流通過程で、加熱装置(6)からの加熱を受けてAR
粒粉末N2ガスとの反応を生じ、l粉末の窒化が達成さ
れる。ここに、窒化反応の初期段階では、A[粉末はそ
の表面部のみが窒化されて硬いiN被膜を形成し、内部
への窒化が阻害される現象をもたらすが、続いてそのま
〜反応管(5)中を移送される過程で更に昇温されるこ
とにより、連鎖的窒化反応を生じて、完全なる窒化がも
たらされると共に、A、QN粉末の微細化が達成される
。即ち、加熱温度及び反応時間の増大とともに、反応初
期段階でAΩ粉末表面に形成されたAQN被膜と内部の
未反応のAΩとの熱膨張差と、更には恐らく蒸気圧差に
も基因して、AΩN被膜に亀裂が発生し、その部分でま
た新しい反応が生じ、その反応熱が蓄積された場合は反
応部付近の急激な温度上昇でAΩN被膜の崩壊とともに
溶融AQの飛び出しを伴いつ\、反応が加速度的連鎖進
行を生じ、高純度なAΩN粉末に生成される。
かつ表面のAΩN被膜の亀裂による粉末内部からの未反
応溶融iの飛び出し、あるいは流出は、それによって粉
末の空洞化をもたらし、粉砕の容易なAΩ中空粒子を形
成する一方、AQN被膜の崩壊及び流出AQの二次的窒
化は実質的に粉砕に相当する効果をもたらす。
捕集部(C)は、捕集容器(7)と、その上部に開口さ
れたフィルター(8a)付きのN2ガス排出口(8)と
を備え、捕集容器(7)の天板部が連結管(9)を介し
て反応部(B)の反応管(5)の上端に連通接続されて
いる。而して、反応部(B)を経てN2ガス流に乗って
連結管(9)から移送されてくる反応部のAflN粉末
は、捕集容器(7)内でN2ガスと分離され、その底部
に堆積する一方、N2ガスは排出口(8)から系外へ排
出される。
ところで、上記装置によるAΩN粉末の製造・に際して
、この発明においては、l粉末の窒化反応操作を開示す
る前に、供給部(A)の容器(1)にAIl粉末を供給
しない状態のま〜、N2ガスボンベ(3)から反応管(
5)中にN2ガスを供給し、かつ加熱装置(6)による
加熱を行って反応管(5)をアニール処理し、これによ
って該管内壁に吸着している02 、N20を取除くと
共に、汚染原因となるMg成分、N1成分等を可久的除
去し、続いて行われる窒化反応操作中の反応管内雰囲気
の汚染を防止し、酸素含有量の少ない高純度AΩN粉末
の製造を図るものである。
発明の効果 この発明によれば、上述の次第で、浮上式直接窒化法に
よるAρN粉末の製造方法において、窒化反応操作前に
予め反応管内に高温のN2ガスを導入してアニール処理
するから、該事前処理によって反応管内壁の吸着酸素、
水分を取除き、かつ反応管中の不純物成分をも可及的除
去して、窒化反応工程中の反応雰囲気の汚染を防止しう
る。従って、酸素含有量の少ない、高純度のAflN粉
末の製造を可能とする効果を実現する。
実施例 添附図面に示した製造装置により、アトマイズ法によっ
て製造された純度99.99%(不純物Si  : 4
8ppm SFe : 24ppm 、 Mg :5p
pIIl)、平均粒径15μmの高純度アルミニウム粉
末を原料粉末として用い、これを供給部(A)の粉末容
器(1)に投入したのち、該容器内にN2ガスボンベ(
3)から純度99. 999%のN2ガスを供給すると
共に、アジテータ−(4)を駆動し、N2ガス流に乗せ
てAΩ粉末を反応部(B)に向けて上昇移送せしめるも
のとした。ここに、反応管(5)として内径35mrr
ts長さ10001ft!11のアルミナ管を使用し、
反応部(B)内でのガス流速を約1,0Ω/mlnにな
るものとした。そして、加熱装置(6)により反応部(
B)の温度、即ち反応管(5)内の温度を1550℃に
設定して反応させ、捕集部(C)の捕集容器(7)内に
微細なAρN粉末を回収するものとした。
而して、上記窒化反応操作を開始する前に、予め、反応
管(5)中にN2ガスを1.0Ω/minの流速で流し
、1500℃×2時間のアニール処理を施したのち、A
Q粉末の窒化処理を行って得られたAQN粉末の純度を
、上記アニール処理を行わないで製造されたAΩN粉末
のそれと比較した。なお、使用する反応管(5)のアル
ミナ純度の影響も調べるため、比較例には、上記反応管
(5)に、焼結助剤として5102 :2〜3%、Mg
 O: 1%、Ca O: 0゜1%以下を含み、AΩ
203純度が約95%であるアルミナ焼結体によるもの
(比較1)と、焼結助剤としての5i02、MgOをい
ずれも0.1%以下に使用してAΩ203純度を99゜
5%以上に製作したアルミナ焼結体によるもの(比較2
)との2種類を使用し、本発明によるものと比較した。
その結果を下記第1表に示す。
第1表 上表に示されるように、本発明の実施によるときは、A
Ω203純度を同じ、くする反応管を用いて、なおかつ
ARN粉末中のF13.、S1%Mg等の不純物成分の
含有を一層減少しうると共に、酸素含有量を減少し、−
段と高純度のAQN粉末を得ることができることを確認
し得た。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるAΩN粉末製造装置の一例を示
す概略構成図である。 (A)・・・供給部、(B)・・・反応部、(C)・・
・捕集部、(1)・・・粉末容器、(3)・・・N2ガ
スボンベ、(5)・・・反応管、(6)・・・加熱装置
、(7)・・・捕集容器、(9)・・・連結管。 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 アルミナ焼結体からなる反応管中で、アルミニウム粉末
    を窒素ガス流によって浮上させつゝ直接反応せしめる浮
    上式直接窒化法による窒化アルミニウム粉末の製造方法
    において、 上記窒化反応を開始する前に予め前記反応管を、窒素ガ
    スにより温度:1000〜1700℃で所定時間アニー
    ル処理することを特徴とする、高純度窒化アルミニウム
    粉末の製造法。
JP29878787A 1987-11-26 1987-11-26 高純度窒化アルミニウム粉末の製造法 Pending JPH01141809A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003104777A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Toyo Aluminium Kk 窒化アルミニウム粉末及びその製造方法
US6977940B1 (en) 2000-04-28 2005-12-20 Switchcore, Ab Method and arrangement for managing packet queues in switches

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US6977940B1 (en) 2000-04-28 2005-12-20 Switchcore, Ab Method and arrangement for managing packet queues in switches
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