JPH01138612A - 磁気ディスク - Google Patents

磁気ディスク

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Publication number
JPH01138612A
JPH01138612A JP29600987A JP29600987A JPH01138612A JP H01138612 A JPH01138612 A JP H01138612A JP 29600987 A JP29600987 A JP 29600987A JP 29600987 A JP29600987 A JP 29600987A JP H01138612 A JPH01138612 A JP H01138612A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
carbon
magnetic
diamond
magnetic disk
Prior art date
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Pending
Application number
JP29600987A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Hoshino
茂樹 星野
Kazutaka Fujii
和隆 藤井
Masahiro Yanagisawa
雅広 柳沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP29600987A priority Critical patent/JPH01138612A/ja
Publication of JPH01138612A publication Critical patent/JPH01138612A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気ディスクに関し、特に表面に特性の優れた
保護被膜を有する磁気ディスクに関するものでおる。
[従来の技術] 磁気ディスクの占める空間的大きさをできるだけ有効に
使用するためには、情報の記録密度を可能な限り高める
ことが必要である。しかし、そのためには磁気ヘッドと
磁気ディスクの間隔を極力小さくしなければならない。
その結果、磁気ヘッドと磁気ディスクの衝突や摩耗が必
然的に増加することは避けられないので、磁気ディスク
の情報を守るために保護膜を設けることが必要となる。
従来の磁気ディスクではその保護膜として比較的硬度の
高い5i02薄膜が用いられ、表面の摩擦係数を小さく
するためその上に有機溶剤の潤滑層が設けられている。
[発明が解決しよ′うとする問題点] しかしながら、上記のような従来の磁気ディスりに用い
られている保護膜としての5i02と有機潤滑層の組合
わせでは、磁気ヘッドと磁気ディスクの間隔が狭くなっ
た場合には磁気ヘッドに用いられている材質より保護膜
の材質の方が硬度が小さいので耐摩耗性が得られなくな
る。また、表面に塗布した有機溶剤の潤滑層は液体でお
るために乾燥やヘッドとの固着等の問題点が生じゃすい
等の問題点がおった。
本発明は以上述べたような従来の問題点を解決するため
になされたもので、優れた耐摩耗性を有すると共に、表
面における摩擦が低減化された保護被膜を有する磁気デ
ィスクを提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、少なくとも磁性膜が設けられた基板上に、ダ
イヤモンド状炭素で形成された層と、炭素を主成分とし
、フッ素を含有する層とが順次積層された保護被膜が設
けられてなることを特徴とする磁気ディスク、および少
なくとも磁性膜が設けられた基板上に、フッ素を含有す
るダイヤモンド状炭素で形成された保護被膜が設けられ
てなることを特徴とする磁気ディスクである。
本発明では保護被膜と磁性膜との密着性が悪い場合には
保護被膜と磁性膜との間にシリコン薄膜を設けることが
好ましい。
また上記の保護被膜は磁性膜の全面に亘って設けられて
いることが望ましい。
[作用] ダイヤモンド状炭素膜は水素を含有したアモルファス構
造にもかかわらず、硬度がダイヤモンド結晶に近い値を
示し、ヤング率もダイヤモンド結晶の値に匹敵する。し
かし、ダイヤモンドに近いほど表面の摩擦係数は0.5
以上とかなり大ぎな値となる。ダイヤモンド状炭素膜に
は水素が多く含まれており、その表面にも多くの炭素と
水素結合が見られる。炭素と水素との結合は疎水性を示
し、そのために摩擦係数が大きくなっていると考えられ
る。一方、炭素膜に微量のフッ素を含ませることによっ
て摩擦係数は0.05以下とすることかできる。本発明
ではダイヤモンド状炭素膜の表面に、必るいはダイヤモ
ンド状炭素膜として炭素を主成分とし、フッ素を含有す
る被膜を形成することによって、耐摩耗性と潤滑性を併
せもたせているので高性能の磁気ディスクが得られるこ
とになる。
また、磁性膜上にシリコン薄膜を設けると、磁性膜と炭
素膜との密着強度が飛躍的に向上するので、どんな磁性
膜上でも上記炭素膜を保護被膜として形成することがで
き、炭素膜自身の性質を有効に利用できる。
[実施例] 以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。表面にNi
P膜12およびCo、 Co−Cr等の磁性膜13を順
次形成したM基板11上に、スパッタ、真空蒸着あるい
はクラスターイオンビーム等によって100Å以下のシ
リコン1fPJ14を磁性膜と炭素膜との密着性を高め
るために形成する。以上の基板を真空槽内の平行平板電
極の貴重極上に設置する。まず、真空槽内を1O−6T
orr以下の真空度にした後、メタンガスと水素ガスを
導入する。メタンと水素の混合比はO81〜5%とし、
圧力を0.1〜10Torrに調節する。その後、真空
槽内の平行平板電極間に250〜350V程度の放電電
圧、0.1〜1mA/cm2程度の放電電流を印加して
DCグロー放電を生じさせる。1分はどプラズマを発生
させて約200へのダイヤモンド状炭素薄膜15を形成
する。この時点では表面のビッカース硬度は10000
Kg/ mm 2程度あるが、動摩擦係数を測定すると
0.5以上の大きな値となっている。次に、ダイヤモン
ド状炭素薄llN13が付いた基板をそのままにし、引
続いてメタンガス、水素ガス、フッ素ガスおるいはフレ
オン(CF4)と水素ガスを導入してDCグロー放電を
発生させ、厚さ約10人のフッ素を含む炭素膜16を形
成する。以上のようにして得られた膜表面の動摩擦係数
を測定したところ0.05以下であった。
裏面にも以上と同じプロセスによって保護被膜を形成し
た。
以上のような方式で形成した磁気ディスクの表面で15
3程度の荷重をかけたセラミックAl2O3−TiC製
の磁気ヘッドの接触−浮上の繰返し試験(いわゆるco
ntact−start−stop試験〉を行ったとこ
ろ、10万回以上でも表面に傷は見られなかった。
以上の実施例では炭素膜をDCグロー放電CVDによっ
て合成したが、同じガスを用いたRFプラズマCVDや
イオンブレーティング、イオンビームスパッタ等によっ
てもほぼ同様な膜が得られた。また、本実施例ではDC
グロー放電における電極は平行平板構造であるが、アノ
ードとカソード電極が対向していない構造においても同
様な結果が得られた。以上の実施例はダイヤモンド状炭
素膜とフッ素を含む炭素膜の2層構造となっているが、
ダイヤモンド状炭素膜にフッ素を含ませた1層構造でも
上記と同様の優れた特性を有する磁気ディスクが得られ
た。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明の磁気ディスクは表面の保
護被膜として耐摩耗性に優れたダイヤモンド状炭素膜を
内層に、摩擦係数の小さなフッ素含有炭素膜を外層に有
する2層構造で形成するか、あるいは耐摩耗性および摩
擦係数が共に優れたフッ素含有ダイヤモンド状炭素膜で
形成されているので、磁性膜を十分に保護し、かつ表面
での摩擦をできるだけ小さくすることができ、高性能の
磁気ディスクが提供できる。また磁性膜と炭素膜との間
にシリコン膜を設けると、両者の密着性が良くなるので
、このことを利用するとあらゆる磁性膜上に上記炭素膜
を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の断面図である。 11・・・M基板      12・・・NiP膜13
・・・磁性膜      14・・・シリコン薄膜15
・・・ダイヤモンド状炭素薄膜 16・・・フッ素含有炭素薄膜

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも磁性膜が設けられた基板上に、ダイヤ
    モンド状炭素で形成された層と、炭素を主成分とし、フ
    ッ素を含有する層とが順次積層された保護被膜が設けら
    れてなることを特徴とする磁気ディスク。
  2. (2)磁性膜と保護被膜との間にはシリコン薄膜が設け
    られている特許請求の範囲第1項記載の磁気ディスク。
  3. (3)少なくとも磁性膜が設けられた基板上に、フッ素
    を含有するダイヤモンド状炭素で形成された保護被膜が
    設けられてなることを特徴とする磁気ディスク。
  4. (4)磁性膜と保護被膜との間にはシリコン薄膜が設け
    られている特許請求の範囲第3項記載の磁気ディスク。
JP29600987A 1987-11-26 1987-11-26 磁気ディスク Pending JPH01138612A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100247065B1 (ko) * 1997-01-22 2000-03-15 윤종용 보호막을 가지는 광디스크
JP2008036773A (ja) * 2006-08-07 2008-02-21 Jiroo Kk 切断装置

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JPS62219314A (ja) * 1986-03-20 1987-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体
JPS6378328A (ja) * 1986-09-19 1988-04-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体

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