JPH01127324A - 光ディスク用案内溝付きエポキシ基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はエポキシ基板に紫外線硬化性樹脂を流延し、案
内溝を形成した原盤を圧接し、紫外線照射により硬化せ
しめて案内溝を転写形成することによって案内溝付きの
光ディスクを製造する方法に関するものである。

〔従来技術〕

光ディスク用基板としてはガラス又は合成樹脂基板が用
いられているが、最近では合成樹脂基板がコストの低減
化、軽量化などの長所を生がし、最近非常に多く利用さ
れつつある。基板用の合成樹脂としては、ポリメチルメ
タクリレート、ポリカーボネート等の熱可塑性ρものも
用いられるが、熱硬化性樹脂、とり、わけエポキシ樹脂
を用いると、複屈折が小さい、熱安定性が良好である、
吸水特性が優れているなど高品位な光ディスク用基板が
得られることが知られている。

また、光ディスク基板にトラッキングサーボ用案内溝を
形成させることは高品位なディスク媒体を得る上で重要
とされている。

この案内溝を形成させる方法としては、（１）　　案内
溝を存するスタンパを内面に設けたモールドを用いた一
体注型によって直接案内溝を形成させる。

（２）注型法で得られたエポキシ樹脂平板上に紫外線硬
化樹脂層を設けてこれにスタンパの案内溝を転写する（
２Ｐ法）。

の２つの方法が提案されている。

これらの方法のうち（１）の方法はスタンバ保持時間が
長いためコスト高となるので、（２）の方法が有利であ
る。ところがエポキシ樹脂基板は従来２Ｐ法に用いられ
る紫外線硬化樹脂に対して、密着性が充分でないという
問題があった。

これに対し、この問題点を改良するために、基板用のエ
ポキシ樹脂を変性する方法や、紫外線硬化樹脂を変性す
る方法が考えられている。

〔解決しようとする問題点〕

しかしかかる従来方法は、モールドに対する離型性や樹
脂原料コストなどの面で満足すべきものではなかった。

そこで本発明は、従来の公知のエポキシ樹脂を用いた基
板に対する公知の紫外線硬化樹脂の密着性を改良する新
規な方法を提供することを目的とした。

〔問題点を解決するための手段〕

かくして本発明によれば、光ディスク用のエポキシ基板
上に紫外線硬化性樹脂を流延し、案内溝を形成した原盤
を圧接し、紫外線照射により硬化せしめて案内溝をエポ
キシ基板に転写形成させる方法において、該エポキシ基
板として、カルボン酸含有塩ビ共重合体によってあらか
じめその表面を処理したものを用いることを特徴とする
光ディスク用案内溝付きエポキシ基板の製造方法が提供
される。

本発明において用いられるエポキシ樹脂基板は、エポキ
シ樹脂を硬化剤により注型硬化して得られる。かかるエ
ポキシ樹脂は特に限定されるものではないが、その具体
例としては、ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、水添ビ
スフェノールＡ系エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂
、脂環族系エポキシ樹脂、ノボラック系エポキシ樹脂な
どを挙げることができる。これらのエポキシ樹脂は液状
でも固体でもよいが、作業性の面からは液状のものが好
ましい。

これらのエポキシ樹脂と組み合わせて用いられる硬化剤
は特に限定されず、従来公知のものを用いることができ
、各種アミン類、酸無水物類、ポリアミド樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリイソシアネート等がその例として挙げら
れる。これらの硬化剤のうち、得られるエポキシ樹脂基
板の特性の面からは酸無水物が好ましく、また作業性の
点からは液状のものが好ましい。次に、これらのエポキ
シ樹脂と硬化剤を適宜組み合わせ、他に硬化促進剤、酸
化防止剤等を添加し、加熱硬化せしめてエポキシ樹脂基
板が得られる。

次にこのエポキシ樹脂基板の表面をカルボン酸含有塩ビ
共重合体で処理をする。

本発明において用いられるカルボン酸含有塩ビ共重合体
は、たとえばカルボン酸基を分子内に有する単量体と、
塩化ビニルまたは塩化ビニルと酢酸ビニルの混合物のい
づれかとを、ラジカル重合その他の公知の方法を用いて
共重合することによって得ることができる。かかるカル
ボン酸含有塩ビ共重合体の単量体組成は、モル比で、塩
化ビニル：６０〜９９．５％、酢酸ビニル：０〜２０％
、カルボン酸基を分子内に有する単量体：０．５〜２０
％の範囲内にあることが必要で、更には塩化ビニル＝７
０〜９７．２％、酢酸ビニル：２〜１５％、カルボン酸
基を分子内に有する単量体：０．８〜１５％の範囲内に
あることが好ましい。かかるカルボン酸基を分子内に有
する単量体のモル含量が０゜５％以下ではエポキシ基板
の紫外線硬化性樹脂に対する密着性改良効果が得られず
、また２０％の超えると吸湿性が増大するなどディスク
の品質に対する負の効果が現われるばかりでなく経済的
でない。

かかるカルボン酸基を分子内に有する単量体としては、
塩化ビニルなどと共重合し得るものであればよ（特に限
定されるものではないが、その具体例としては、例えば
アクリル酸、メタクリル酸などのエチレン性不飽和モノ
カルボン酸、例えばマレイン酸、フマール酸、イタコン
酸、シトラコン酸などのエチレン性不飽和ジカルボン酸
などが挙げられる。

また、本発明の効果を損なわない限りにおいて、少量の
他の単量体を共重合させたものであってもよい。このよ
うな他Ｏｉｔ体の例としては、例えば酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル、例え
ばメチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、
セチルビニルエーテルなどのビニルエーテル、例えば塩
化ビニリデン、弗化ビニリデンなどのビニリデン、例え
ばマレイン酸ジエチル、マレイン酸ブチルベンジル、マ
レイン酸−ジー２−ヒドロキシエチル、イタコン酸ジメ
チル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸
エチル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリ
ル酸−２−ヒドロキシプロピルなどの不飽和カルボン酸
エステル、例えばエチレン、プロピレンなどのオレフィ
ン、例えば（メタ）アクリロニトリルなどの不飽和ニト
リル、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチ
ルスチレンなどの芳香族ビニル、例えば了りルグリシジ
ルエーテル、メタリルグリシジルエーテル、ビニルグリ
シジルエーテルなどの不飽和アルコールのグリシジルエ
ーテル、ブタジェンモノオキサイド、ビニルシクロヘキ
センモノオキサイド、２−メチル−５，６−エポキシヘ
キセンなどのエポキシドオレフィンなどがあげられる。

このような単量体組成を有するカルボン酸含有塩ビ共重
合体の分子量は特に限定されるものではないが、通常１
００００〜５ｏｏｏｏ、好ましくは１５０００〜４００
００である。

このような共重合体を用いてエポキシ樹脂基板を処理す
る方法は特に限定されるものではないが、例えば共重合
体を溶液としてエポキシ基板にスピンコードする方法、
前記溶液に浸漬する方法などが挙げられる。このような
処理の後、この基板を乾燥する。乾燥条件は、通常空気
雰囲気下、６０℃〜１２０℃で１分〜１時間である。

次に、上記の処理をしたエポキシ樹脂基板に対して、紫
外線硬化樹脂を用いて、２Ｐ法により案内溝を転写せし
める。

本発明において用いられる紫外線硬化樹脂は分子内に１
個以上の光重合性二重結合を有する紫外線重合可能な化
合物であればよく、特に限定されない。

分子内に１個の光重合性二重結合を有する化合物として
は、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ
）アクリレート、ｎ−およびｉ−プロピル（メタ）アク
リレート、ｎ−１ｓｅｃ−およびｔ−ブチル（メタ）ア
クリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート
、ラウリル（メタ）アクリレート、フェニルアクリレー
トなどのアルキルもしくは了り−ル（メタ）アクリレー
ト、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
などのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、例え
ばエトキシエチルアクレート、フェノキシエチルアクリ
レートなどのアルコキシもしくはアリールオキシアクリ
レート、例えばポリエチレングリコールモノ　（メタ）
アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ　（メタ
）アクリレートなどのポリオキシアルキレングリコール
モノ　（メタ）アクリレート、例えばテトラヒドロフル
フリル（メタ）アクリレートなどの複素環含有（メタ）
アクリレート、例えばジシクロペンテニルオキシエチル
（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレ
ートなどの縮合環含有（メタ）アクリレート、例えばジ
メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルア
ミノエチル（メタ）アクリレートなどのアミノアルキル
（メタ）アクリレート、例えばビスフェノールＡのエチ
レンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物などのビ
スフェノールＡのアルキレンオキシド付加物のモノ　（
メタ）アクリレート、例えばイソシアネートもしくはジ
イソシアネート化合物と１個以上のアルコール性水酸基
含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネー
ト基含有化合物に、アルコール性水酸基含有（メタ）ア
クリレートｌを反応させて得られる分子内に１個の（メ
タ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン変性モノ　
（メタ）アクリレート、例えば分子内に１個以上のエポ
キシ基を有する化合物にアクリル酸またはメタクリル酸
を反応させて得られるエポキシモノ　（メタ）アクリレ
ート、例えばカルボン酸成分としてアクリル酸またはメ
タクリル酸および多価カルボン酸とアルコール成分とし
て２価以上の多価アルコールとを反応させて得られるオ
リゴエステルモノ　（メタ）アクリレートなどが挙げら
れる。

分子内に２個の光重合性二重結合を有する化合物として
は、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１
．４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１．６−ヘ
キサンシオールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、例えばジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（
メタ）アクリレートなどのポリオキシアルキレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、例えばビスフェノールＡ
のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物な
どのビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加物のジ
（メタ）アクリレート、例えばジイソシアネート化合物
もしくはジイソシアネート化合物と２個以上のアルコー
ル性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イ
ソシアネート基含有化合物にアルコール性水酸基含有（
メタ）アクリレート類を反応させて得られる分子内に２
個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン変
性ジ（メタ）アクリレート、例えば分子内に２個以上の
エポキシ基を有する化合物にアクリル酸または／および
メタクリル酸を反応させて得られるエボキシジ（メタ）
アクリレート、例えばカルボン酸成分としてアクリル酸
またはメタクリル酸および多価カルボン酸とアルコール
成分として２価以上の多価アルコールとを反応させて得
られるオリゴエステルジ（メタ）アクリレートなどが挙
げられる。

分子内に３個以上の光重合性二重結合、を有する化合物
としては、例えば、トリメチロールプロパントリ　（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ　（メタ
）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレートなどの３価以上の脂肪族多価アルコールの
ポリ　（メタ）アクリレート、例えばポリイソシアネー
トもしくはジイソシアネート化合物と３価以上のアルコ
ール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端
イソシアネート基含有化合物にアルコール性水酸基含有
（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に３
個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタ
ン変性ポリ　（メタ）アクリレート、例えば分子内に３
個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸または
／およびメタクリル酸を反応させて得られるエポキシポ
リ　（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

これらの紫外線硬化樹脂は単独であるいは任意の２種以
上を混合して用いることができる。

また、該紫外線硬化樹脂に重合禁止剤、酸化防止剤、光
増感剤等を適宜配合することもできる。

（発明の効果） かくして本発明によれば、従来技術に比較して紫外線硬
化樹脂との密着性が飛躍的に向上した光ディスク用のエ
ポキシ樹脂基板を得ることができる。

（実施例） 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。なお、実施例、および比較例中の部及び％は特に断り
のないかぎり重量基準である。

裏隻■上 注型法で得られたエポキシ基板に、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレイン酸共重合樹脂（組成モル比：　９４／４
／２０、分子量：　３０，０００＞をメチルエチルケト
ン／酢酸ブチル等量混合物に溶解して得た２％溶液を、
スピナーにて１１００Ｏｒｐで１５秒間回転塗布したの
ち、８０℃で１５分間乾燥して表面を改質したエポキシ
樹脂基板を得た。

次にこの基板に、下記の組成を有する紫外線硬化樹脂配
合物（Ａ）をスピナーにて塗布しく塗布条件：１０００
ｒｐｓｘ５秒＋４０００ｒｐｍＸ５５秒）、直ちにオゾ
ンレス高圧水銀ランプを使用して１００ｍＪ／ａＪの紫
外線を照射して、紫外線硬化樹脂つきエポキシ樹脂基板
を得た。

次に、この基板にＪＩＳ　Ｋ−５４００に準拠して１鶴
Ｘ１１ｍの基盤目１００ケを刻みつけ、これにセロハン
テープを貼付したのち剥離したときに基板から剥れない
基盤目の数で密着性を評価した。結果は第１表に示す。

（Ａ） 液状ビスフェノールＡ系エポキシアク１ルート　　　　
　　　　　　６０部ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０〃２
１２′　−ジメトキシ−２−フェニル７セトフエノン　
　　　　　　　　　　３〃プ【方［ 塩化ビニル共重合体として、塩化ビニル−酢酸ビニル−
イタコン酸共重合体（組成モル比：９０／８／２、分子
量：　３３．０００）を用いたほかは実施例１と同様に
して、紫外線硬化樹脂つきエポキシ樹脂基板を得た。こ
の基板について実施例１と同様にして密着性を評価した
。この結果は第１表に示す。

３４および５ 下記の紫外線硬化樹脂配合物（Ｂ）、　　（Ｃ）および
（Ｄ）を用いた他は実施例１と同様にして、紫外線硬化
樹脂つきエポキシ樹脂基板を得た。この基板について実
施例１と同様にして密着性を評価した。結果は第１表に
示す。

（Ｂ） 七ドロキシエチルメタクリレート　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　３５部トリエチレングリコール
シフクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　　　
５０〃エポキシアク１ルート　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１５〃ペンシルジメチル
ケタ−３２〃 （Ｃ） ジペンタエリスリト−１１へキサアクリレ−）　　　　
　　　　　　　　　　　　　　３５部水素添加ビスフェ
ノール　Ａジグリシジルエーテルシ７クリレート　４５
〃ジシク■ペンテニルオキシＩチルメタク１ルート　　
　　　　　　　　　　　　　２０〃１−ヒＦυキシシク
ｙヘキシ）シフェニ）ｔケトン　　　　　　　　　　　
　　　　　２“（Ｄ） ジペンタエリスリ）−ルヘキ９７クリレート　　　　　
　　　　　　　　　　　　４５部イソ本ロンジイソシア
ネート−２−ヒドロキシエチルメタクリレート（モル比
１／２）の反応生成物　　　　　　　３５〃イソボルニ
ルメタクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　２０〃ベンシイシイツブ■ビルＩ−チル
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２“
北上１ｕ」む（仏ｌ 共重合体でエポキシ樹脂基板を処理しない他は、それぞ
れ実施例１および実施例３と同様にして紫外線硬化樹脂
つきエポキシ樹脂基板を得た。実施例１と同様にして行
った密着性の評価結果は第１表に示す。

１隻炭エ カルポン酸含有塩ビ共重合体として塩化ビニル−マレイ
ン酸共重合体（組成モル比：９２／８、分子量：　３０
，０００）を用い、また紫外線硬化樹脂として下記の組
成（Ｅ）を有するものを用いた他は、実施例１と同様に
して紫外線硬化樹脂つきエポキシ樹脂基板を得た。実施
例１と同様にして行った密着性の評価結果は同じく第１
表に示す。

（Ｅ） トリメチロールブ■バントリアクリレート　　　　　　
　　　　　　　　　　　　５０部Ｎ、Ｎ、Ｎ−）リス（
アクリＵキシエチレン）イソシアヌレート　　　　　　
　５０〃ベンゾインメチルエーテル　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　３“第１表 剥離しなかった基盤目の数 実施例１　　　１００／１００ ２　　　１００／１００ ３　　　１００／１００ ４　　　１００／１００ ５　　　１００／１００ ６　　　１００／１００ 比較例１　　　　　０／１００ ２　　　　　０／１００ この結果から、本発明の方法によれば、エポキシ樹脂基
板と紫外線硬化樹脂との密着性が著しく向上することが
わかる。

特許出願人　　　日本ゼオン株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　光ディスク用のエポキシ基板上に紫外線硬化性樹脂を
   流延し、案内溝を形成した原盤を圧接し、紫外線照射に
   より硬化せしめて案内溝をエポキシ基板に転写形成させ
   る方法において、該エポキシ基板として、カルボン酸含
   有塩ビ共重合体によってあらかじめその表面を処理した
   ものを用いることを特徴とする光ディスク用案内溝付き
   エポキシ基板の製造方法。