JPH01125334A - 直接塩素化反応器のベント廃ガスからのエチレン、塩素及び塩化水素の回収 - Google Patents

直接塩素化反応器のベント廃ガスからのエチレン、塩素及び塩化水素の回収

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JPH01125334A
JPH01125334A JP62231216A JP23121687A JPH01125334A JP H01125334 A JPH01125334 A JP H01125334A JP 62231216 A JP62231216 A JP 62231216A JP 23121687 A JP23121687 A JP 23121687A JP H01125334 A JPH01125334 A JP H01125334A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、二塩化エチレン製造用オキシ塩素化、反応器
に循環する高温直接塩素化反応器からのベントガス中の
湿気による腐食を最少に抑える方法に関する。
エチレンの「直接塩素化」は、広く用いられている二塩
化エチレン（ｒＥＤＣＪ即ち１．２−ジクロロエタン）
製造用の工業的接触法の基礎となるものである。この反
応は、物質移動により制御され、エチレンの吸収が、エ
チレンの少過剰で反応を行うか、もしくは、その代わり
として（これに関する考察については後述する）、反応
器に少過剰の塩素を供給して反応するかの制御要因とな
る。反応熱は、約り０℃〜約６５℃の範囲で運転される
一般的な低温直接塩素化反応器において、通常の水冷法
により散逸させるか、又は、「高温直接塩素化（ＨＴＤ
Ｃ）反応器」と呼ばれる反応器を、最大約２００ｐｓｉ
ｇの圧力下、ＥＤＣの沸点又はその付近で運転すること
により散逸させる。このＨＴＤＣ反応器は、直接塩素化
反応器の一種である。本発明の一態様における「沸騰型
反応器」と呼ばれるＨＴＤＣは、ＥＤＣの沸点で運転さ
れ、生成物のＥＤＣは、蒸気として排出される。又、他
の態様における「非沸騰型反応器」と呼ばれるＨＴＤＣ
は、沸点の付近で運転され、生成物のＥＤＣは、側流と
して排出される。
直接塩素化反応は、次式で示すことができる。
ＣＨｚ　＝　ＣＨｚ　＋　ＣＩ２→ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃ
１Ｉ２的には、水及び塩化水素のいずれも、この反応の
生成物としては生成しない。しかしながら、実際には、
酸素の存在下では、ある副反応において少量の水が生成
し、又、次式に示す別の副反応において少量の塩化水素
が生成する。
ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃ１＋　ＣＩ２→ＣＩＣＨ２ＣＨＣ］
□＋ＨＣＩ塩化水素の厳密な生成量は、ＨＴＤＣ反応器
反応体中る触媒の種類、反応を実施す名液体媒体（−船
釣には、ＥＤＣ等の塩化水素）及び反応条件によって異
なる。
直接塩素化反応法は、オキソ反応器中でエチレンを塩化
水素及び酸素と反応させ、ＥＤＣを製造するオキシクロ
リネーション（「オキソ」）法で補足することが好まし
い。この直接塩素化とオキシクロリネーション法との組
み合わせは、「平衡法」と呼ばれる。尚、平衡法の詳細
については、カーク・アンド・オス？　−（Ｋｉｒｋ　
＆　Ｏｔｈｍｅｒ）＆Ｈ集のエンサイクロペディア・オ
ブ・ケミカル・テクノロジイー　（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅ
ｄｉａ　ｏｆ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｔｅｃｈｎｏ−１ｏ
ｇｙ）　、第２３巻、第８６５〜８８５頁に、カラファ
ー・ジェー・ニー（Ｃｏｉｙｆｅｒ、　Ｊ、Ａ、）及び
マジストロ・ニー・ジェ（Ｍａｇｉｓｔｒｏ、Δ、Ｊ、
）により記載されている「ビニル・ポリマーズ（ビニル
・クロリド）ＣＶｉｎｙｌ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　（Ｖｉ
ｎｙｌ　Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）　）　Ｊの章を参照のこと
。回章に記載のフローシートには、ＨＴＤＣ反応器反応
体中した組成ＥＤＣのアルカリ中和が提案されている。
しかしながら、アルカリのコストに加え、中和物質の処
理に要する明白な経済的負担を考えれば、この方法は、
あまり好ましい解決策とは言えない。
ＨＴＤＣ反応器からの流出液が、極めて腐食性であるこ
とは、以前から知られている。最近、この腐食の主原因
は、遊離塩素と１１００ｐｐ未満という微量の水の存在
にあることが判明した。塩素に起因する腐食を抑制する
ためＥＤＣ流中の遊離塩素を除去する方法が米国特許筒
４，５４７，５９９号に開示されている。この腐食の問
題は、沸胱型反応器中に供給される塩素が「湿気のある
」ものであるとき、即ち、例えば、電解槽から送られて
くるガス状塩素の場合のように、１１００ｐｐ以上の水
分を含んでいる時にはさらにひどくなる。この問題は、
又、ベント用コンプレッサー及びその関連機器等のオキ
ソ反応器への循環管路中で、即ち、生成ＥＤＣの回収後
ベントされたベントガスが、オキソ反応器へ循環される
際にも生ずる。ＨＴＤＣ反応器中への供給物に水が含ま
れておらず、且つ直接塩素化反応で水が発生しなければ
、反応器からの流出液には水が含まれず、従って、解決
すべき腐食の問題も生じないことは言うまでもない。
ＥＤＣは、精製した後、ＥＤＣ分解炉中で熱分解し、よ
く知られている脱塩酸と呼ばれる反応により塩化ビニル
単量体（ＶＣＭ）を生成し、分解炉中で生成する塩化水
素は、オキシクロリネーション反応器へ循環する。
よく知られているように、ＥＤＣ製造の際の化学工学上
の単位操作に関する経済性の観点からは、好ましくない
副生成物を生成することなく、且つ最も重要なことであ
る流出液中に遊離塩素を残存することなくエチレンと塩
素をＥＤＣに転換することが最も望ましい。腐食の問題
については、シルモラー・シー・エム（Ｓｃｈｉｌｌｍ
ｏｌｌｅｒ、Ｃ，Ｍ、）により［アロイ・セレクション
・フォー・ＶＣＭ　　・ブラソフ（Ａｌｌｏｙ　５ｅｌ
ｅｃｔｉｏｎ　ｆｏｒ　ＶＣＭ　Ｐｌａｎｔｓ）　ｊと
題して１９７９年３月発行のハイドロカーボン・プロセ
ッシング（Ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉ
ｎｇ）の第８９Ａ′９３頁に述べられている。
実際の操業の際は、経済的見地より、直接塩素化反応は
、炭素鋼の装置が利用できる条件に制御される。この際
の問題点は、遊離塩素と水は、炭素鋼装置、連結管中で
、そのいずれか一方又は他方のいずれよりも強烈な激し
い腐食性を呈し、１０ｐｐｍ〜約５０ｐｐｍの範囲の微
量の水分を伴った、約２０ｐｐ１１１〜約６０ｐｐｍの
少量の塩素により、ＥＤＣ反応装置の上流で、同装置の
配管が破壊されることである。この腐食は、後述する理
由により、直接塩素化反応器中への酸素の注入により悪
化する。
上述の理由から、唯一の実用的な選択は、反応器中では
過剰の塩素を使用せず、そのことにより、反応器から出
てくる未反応塩素（「遊離」又は「漏出」塩素と呼ばれ
る）の量を最少限にすることである。即ち、過剰のエチ
レンを反応器に供給する。ここで、「過剰のエチレン」
とは、ＥＤＣを生成にするのに化学量論的に必要とされ
る量を超える量を意味する。通常、１％〜約５％の過剰
が用いられ、好ましくは２％未満である。しかしながら
、未反応塩素を最少限とするため、２％以上過剰のエチ
レンを供給した場合でも、流出液中の遊離塩素の濃度は
、約１１００ｐｐｍ〜約３０００ｐｐｍの範囲のままで
ある。この残存塩素は、ＥＤＣをＶＣ単量体に転換する
まえに実質的に全て除去しなければならない。２％をは
るかに超える過剰のエチレンを使用することは経済的に
不利であり、たとえそのようにしても、流出液中にエチ
レンを注入して未反応塩素を排出しようとしても、塩素
を排出することができない。用いた過剰のエチレンは、
生成ＥＤＣの回収中に「ベント流」としてベントされ、
通常、共存し得る水分、塩素及び塩化水素とともに、オ
キシクロリネーション反応器に循環される。
ベント流中に比較的少量しか含有されず、残りの大部分
はエチレンと窒素であるベント流から、極少量の水分、
塩素及び塩化水素を回収することは、腐食の問題が大き
いため、回収コストが回収される成分の価値を超えてし
まうので、回収するに値しないと思われる。しかしなが
ら、従来認識されてはいなかったが、装置を含めたオキ
ソ反応器への循環管路設備の腐食を最少にするための水
分除去の価値は、オキソ反応器へ循環させるために回収
されるエチレンと塩化水素の付加価値と相まって、回収
コストをまかなうに十分な価値が見出される。
従来、平衡法における目標は、直接塩素化反応器であれ
、凝縮器であれ、貯蔵タンク等であれ利用できる源から
の流出液中のエチレン、塩素及び塩化水素の回収と再循
環にあった。そして、流出液混合物をその塩素、塩化水
素及びエチレンの価値のため回収しようとする場合、そ
れをオキソ反応器へ循環させることは、論理的にすぐに
明らかなことである。従来、未反応塩素量を最少にする
ため大過剰用いたエチレンの回収に重点が置かれ、循環
させるベント流の乾燥を行うことはなかったので、装置
材料に及ぼす水分の影響については無関心であったと思
われる。
ＥＤＣプラントで発生するエチレン、塩素、塩化水素及
び水を含有するベントガス混合物の回収法の例が、１９
８２年７月１日発行のドイツ連邦共和国特許出願公開公
報第ＤＥ３０４４８５４Ａ１号に開示されている。即ち
、大気圧又はそれを超える圧力で運転される直接塩素化
反応器からベントされたベントガスは、１〜２℃の範囲
の温度まで冷却される。
しかしながら、ベントガス中の水分が氷結して管路を閉
塞することのないように、その温度以下には冷却しない
。凝縮しないベントガスは、次に、アルカリで洗浄し、
未反応塩素を除去する。明らかに、この発明では、水の
除去は意図されておらず、当然、水の氷結点を超えた温
度において、ベント流中の分圧の量の水分が凝縮する。
上記公開公報は、又、温度を一２０℃まで低下させて凝
縮物を高率で除去しようとする試みは、管路中に存在す
る水分が氷結し管路を閉塞したため不成功であったと述
べている。この発見のため、該ドイツ特許権者等は、ベ
ントガスの冷却は水の氷結点以上とし、水分を始めとし
た凝縮物は低率とし、ベント混合物は、余分の水分の存
在が問題とならないオキシクロリネーション反応器へ循
環させることに興味を抱いていたため、凝縮物を高い凝
縮温度で得たのである。良く知られていることであるが
、次式で示されるオキシクロリネーション反応では、水
とＥＤＣが等モル量生成する。
ＣＨ２＝ＣＨｚ　　＋　２）ＩＣＩ　＋　０．５０ｚ　
　→ＣｌＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ　＋）１２０、　該ドイツ特
許権者等は、水分の除去を行わず、該ドイツ特許権者等
自身が引用した従来技術の一例において、ベントガスを
凍結温度（水の）以下にまで冷却している。この場合、
氷が生じ（管路を閉塞する）、継続的に水を除去するこ
とは不可能であることは明白である。たとえこのような
分離が生じたとしても、偶発的なものであり、ベントガ
ス中の水分の存在による装置腐食の抑制とは何ら関係し
ないものである。とりわけ、該特許権者等は、生成物塔
からのベントガスの単離が、ＥＤＣ設備全般からのベン
トガスの混合物中に多量の水分が含まれる問題を解決す
ることになるとは理解していなかったようである。
相互に一致するものではないが、該特許権者等による循
環管路と装置建造材料の選択は、ＨＴＤＣ反応器からの
流出液管路とともにオキソ反応器への循環管路における
塩素及び水分の存在に起因する腐食の問題に対処すべく
なされたものであると考えられる。
直接塩素化反応器から排出される腐食性生成物中の微量
の水分は、ＥＤＣ製造設備において生成物塔ベント流か
ら、次の工程において除去可能であることが見出された
。即ち、ＨＴＤＣ反応器への湿潤供給塩素中の水分が塩
素量の１重量％未満である限り、又、この反応器からの
排出物中の水分が排出物全重量に対して３００ｐｐｍ未
満である限り、ベント流を、氷の生成に起因する装置及
び管路の閉塞の問題を生じることなく０℃以下の温度に
冷却することができる。
従って、本発明の主目的は、ＥＤＣ製造のためオキシク
ロリネーション反応器に循環されるＩＩＴＤｃ反応器か
らのベントガス中に含まれる水分に起因する腐食を最少
限に抑制する方法を提供することにある。即ち、本発明
によれば、ＥＤＣ製造のためオキシクロリネーション反
応器に循環されるＨＴＤＣ反応器からのベントガス中に
含まれる水分に起因する腐食を最少限に抑制する方法で
あって、該方法が、 （イ）供給塩素に対して１１００ｐｐｍ〜約１重量％の
範囲の水分を含有する湿潤塩素を、大気圧以上の圧力下
、約５０℃以上の温度で、液状の塩素化炭化水素媒体中
で、化学量論量以上のエチレンと反応させ、）ＩＴＤＣ
反応器からの排出物中にＥＤＣ生成物を生成させ、 （ロ）生成物蒸留塔等の気液分離手段中にて、ＨＴＤＣ
から排出物中の高沸点成分からＥＤＣ生成物を分離し、 （ハ）蒸留塔からの塔頂留出物を、塔頂留出物ドラム中
で、ＥＤＣの大部分が凝縮し、且つ窒素、エチレン、塩
素、塩化水素及びベント流の重量当たり１．５重量％未
滴の水分から実質的になるベント流がベントするように
凝縮し、 （ニ）ベント流を約−３０℃〜０℃の範囲の温度に冷却
して、ベント流中の凝縮性成分を凝縮させ且つ水を氷結
させ、 （ホ）該水及び凝縮性成分を、氷で管路を閉塞すること
なく、窒素、塩素、エチレン及び塩化水素等の非凝縮性
成分から分離し、且つ （へ）実質的に水を含有しない該非凝縮性成分を、該オ
キシクロリネーション反応器中へ循環する、以上の工程
を包含することにより、循環管路及び装置中に存在する
水に起因する腐食を最少限に抑制することを特徴とする
、ＨＴＤＣからのヘントガス中に含有される水分に起因
する腐食を最少限に抑制する方法が提供される。
本発明に関する上記及び他の目的並びに効果は、本発明
の好ましい態様を概略的に図示する添付図面に言及しな
がらなされる下記の詳細な説明により明らかになろう。
添付図面は、高温直接塩素化（ＨＴＤＣ）反応器の一態
様である代表的な沸騰型反応器及び生成物塔、並びに冷
却され、ベントガスコンプレッサーにより圧縮された後
オキソ反応器へ循環される生成物塔ベントガスを生ずる
上記各装置からの流出液の流れの関係を示した簡略系統
工程図である。
本発明を以下、１（ＴＤＣ反応器である沸騰型反応器に
係る一態様により詳述する。しかしながら、本発明は、
塩素とエチレンを反応させ、約１１００ｐｐｍ〜約０．
５重量％の塩素と比較的少量（ＩＩＴＤｃ反応器からの
排出物容量に対して）の窒素、塩化水素、エチレン、酸
素及び水蒸気を含む実質的に純粋（９９，＋％）のＥＤ
Ｃ排出物を製造するための直接塩素化反応器のいずれの
種類のものについても等しく適用できる。通常は、）Ｉ
ＴＤｃ流出液の全成分重量に対し、エチレンは約５００
ｐｐｍ〜約１．０重量％の範囲にあり、ポリ塩素化化合
物は約５０ｐｐｍ〜約０．１重量％の範囲にあり、塩化
水素は約０．５重量％〜約７重量％の範囲にあり、窒素
は約０．４重量％〜約２０重量％の範囲にあり、酸素は
約０．１重量％〜約５重量％の範囲にあり、これらに、
少量の炭酸ガスとエタンが含まれる。
添付図面は、参照番号１０で総括的に指称するＨＴＤＣ
反応器の概略工程系統図を示す。この反応器内には、液
状ＥＤＣ１及び目的に応じた触媒量のＦｅｃＩ３等の直
接塩素化反応触媒が、約１気圧〜約３気圧の範囲の大気
圧以上の圧力下、沸点温度で維持される。塩素と反応し
ＥＤＣを生成するに必要な化学量論量を約１％〜約５％
超過した少過剰のモル量のエチレン（本明細書中では、
「過剰エチレン」と呼ぶ）を、エチレン供給管路１１を
通じて、又、塩素を塩素供給管路１２を通じて、共に底
部付近より供給し、それらを、反応器内に液体反応媒体
として入れである主としてＥＤＣからなる熱液状塩素化
炭化水素（クロロヒドロカーボンｒＣＨＣＪ液）中で発
熱反応させる。
ＣＨＣ液は、通常、微量の１．１．２−トリクロロエタ
ン（トリアン）、１．１．１，２−又は１．１，２．２
−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン等の１（Ｔ
ＤＣ反応器内で副反応により生成するＣＨＣ不純物を含
む。
反応熱によりＥＤＣを留去するとともに、反応物質が約
５ｐｓｉｇ〜約２５ｐｓｉＨの圧力下、約５０°Ｃ〜約
１２０℃の範囲の温度、好ましくは約り０℃〜約９５℃
の範囲の温度に維持されるように、反応を制御する。
塩素を、ＥＤＣへの選択性を向上させるため、又、各成
分中に２個より多くの塩素原子を有するトリアン等のポ
リ塩素化化合物の生成をもたらすフリーラジカル反応を
抑制するため、エチレン、塩素及び酸素の混合フローに
対し、約０．１重量％〜約１重量％の範囲の酸素と慎重
に「調合」する。
これらのポリ塩素化化合物は望ましくはないが、反応の
副生成物として不可避的に生成する。これらは、ＥＤＣ
より高沸点なので、液体反応媒体中で濃縮する傾向があ
る。従って、底部流１３を、反応器より抜き出す。酸素
は、簡便に、空気をエチレン又は塩素供給管路中に注入
するか、別のスパージャ−中に注入し導入する。この空
気の注入は、流出液中に存在する過剰エチレンの量に容
積で匹敵する、比較的多量の窒素の導入をもたらすが、
この窒素は単にシステムを通って「運搬」されるのみで
ある。この酸素の存在は、ＥＤＣを生成する反応には有
益ではあるけれども、未反応塩素と水分による腐食を更
に悪化させる。
供給される塩素は、液体であれ気体であれ、何らかの理
由により乾燥状態ではない。即ち、通常、塩素は、電解
槽からのものであるため、水分を含む。水分含量は、塩
素に対し約２０ｐｐｍ〜約１重量％の範囲、より一般的
には約５０ｐｐｍ〜約３００ｐｐｍの範囲で変化する。
塩素とともに反応器中へ導入されるこの種の水分とは別
に、供給源により変化するが１　ｐｐｍ〜５０ｐｐｍの
範囲のより少量の水分が、エチレンとともに導入される
ことがある。更に、少量の水が、反応器中で副反応によ
り生成することがある。導入された水分の全ては、反応
器を出る時に、反応器の塔頂付近で、管路１４を通じて
留去される塔頂留出物液と底部管路１３流体に分配され
る。
管路１４中の流出液は、生成物基２０中の底部付近に導
入される。この生成物基は、トレイ又は他の通常の気液
平衡段階手段（図示されていない）を装備した蒸留塔で
ある。生成物基から底部液の一部を、循環ポンプ（図示
されていない）により循環管路２１を通じて反応器１０
へ循環する。−方、残部は、底部管路２２を通じて抜き
出される。
生成物基２０の塔頂留出物は、塔頂留出物管路２３を通
じて流出し、凝縮器３０中で、記号ＣＷで示す冷却水流
との熱交換により冷却され、工業的に純粋な液状ＥＤＣ
（９９，５”％）は、管路２４を通じて流出し、凝縮液
タンク４０中に回収される。このＥＤＣ生成物は、管路
２５を通じて抜き出され、その一部は管路２６を通じて
生成物基の頂部付近に循環され、残部は管路２７を通じ
てポンプにより生成物保管容器に送られる。
エチレン、窒素、塩素、塩化水素、酸素及び少量の水並
びにＥＤＣは、凝縮器３０では凝縮せず、凝縮器ベント
流３１として凝縮器からベントされる。凝縮器ベント流
のように、タンク４０中の平衡状態で組成が決定される
類似の未凝縮ガス流がこのタンクから出てくる。このタ
ンクベント流は、管路４１を通って出てきて、生成物基
ベント流管路４２において凝縮器ベント流３１と合流す
る。
生成物基ベント流は、水を凍結するのに十分な低温にま
で冷却されるので、生成物基ベント流の水含量が、生成
物基ベント流に対して１．５重量％未満であることが重
要であり、もしこれ以上の量で存在する場合には、凍結
したときに管路を閉塞してしまう。このため、供給する
塩素の水分を制御して、生成物基ベント流の水分が確実
に８００ｐｐｍとなるようにするのが好ましい。
生成物基ベント流を冷却するため、生成物基は、トレイ
の頂部温度が凝縮器用の使用冷却液流の温度と同じにし
、エチレンが多量にＥＤＣ凝縮液に溶解して失われるこ
とのないように運転する。夏季の条件下では、ベント流
の温度は、夏季冷却水０Ｉ　Ｘ 温度に従って、好ましくは約１００〜１３０ｃＴ：の範
囲であり、一方、冬季では、ベント流の温度は、これも
使用する冷却水温度に従って、約７０〜９０６Ｆといっ
た低温でよい。管路３１及び４１から管路４２を通る混
合流である生成物基ベント流は、好ましくは２段階で冷
却される。最も好ましい態様においては、生成物基ベン
ト流は、ブライン凝縮器４５に導入され、そこで、添付
図面に「ブライン」として示されている冷却ブライン流
により約−３０”Ｆ〜約Ｏ〒の範囲の温度に冷却され、
大部分のＥＤＣとそれと平衡状態にある水が凝縮されて
、好ましくは約２０〜６０°Ｆ、より好ましくは３０〜
５０°Ｆの範囲の温度で管路４６を通って凝縮器をでる
。
第２凝縮段階においては、ブライン凝縮器４５からの未
凝縮ガスが、管路４７を通って塩化水素凝縮器５０に導
入され、約−１６０゜Ｆ〜約−１４０゜Ｆの範囲の温度
で、添付図面にｒＨｃＩＪと示されている低温塩化水素
流により冷却され、ここでも大部分のＥＤＣとそれと平
衡状態にある水が凝縮されて、未凝縮の窒素、エチレン
、塩化水素及び酸素（非凝縮成分）と混合し、好ましく
は約−６０羊〜約−１０６Ｆ、より好ましくは約−３０
°Ｆ〜約１０６Ｆの温度範囲で、管路５１を通って塩化
水素凝縮器をでる。
塩化水素凝縮器からの凝縮液は、ペントノソクアウトボ
ソト５２に流れ込み、そこで、液状凝縮液は、管路５３
を通ってノックアウトポット５２をでる非凝縮性成分か
ら分離される。この液状凝縮液は、管路５４を通って流
れ、管路４６中の液体と合流し、得られる混合フローは
、管路５５を介してポンプ（図示されていない）により
ＥＤＣ設備のオキシクロリネーション部、即ち、「オキ
シ洗浄装備」に送られ、そこでＥＤＣは精製される。
はぼ大気圧あるいはそれよりわずかに高い圧力、即ち、
約ｌ〜ｌＯｐｓｉｇの範囲の圧力の管路５３中の非凝縮
性成分は、管路５７を通ってベントコンプレッサー６０
部に導入され、コンプレッサーが、非凝縮性成分を管路
６１を通ってオキシ反応器に供給するに十分な圧力、好
ましくは５０〜１５０ｐｓｉｇの範囲の圧力にまで昇圧
する。管路５Ｇは、ベントコンプレッサーが停止したり
、あるいは、必要に応じて、非凝縮性成分の一部分を燃
料として焼却する時に非凝縮性成分を焼却炉に導入する
ために設けられる。
代表的な生成物塔ベントガスの各成分は、下記の範囲の
濃度を有している。
底−分　　　　　里量久 エチレン　　　　３０〜５０ 窒素　　　　　　３０〜４０ 塩化水素　　　　５〜８ 酸素　　　　　　３〜５ ＥＤＣ２〜４ エタン　　　　　０．１〜１．０ 塩素（ｐｐｍ）　　　　３００〜２０００水（ｐｐｍ）
　　　　１００〜１５００又、次のような平均分析値を
有する生成物塔ベントガスが最も好ましい。
以下余白 城−二定　　　　　ｌ」Ｌ護 エチレン　　　　　４６ 窒素　　　　　　　３６ 塩化水素　　　　　６．７ 酸素　　　　　　　４．６ Ｅ　Ｄ　Ｃ２，６ エタン　　　　　　　０．６ 塩素（ｐｐｍ）　　　　１０００ 水（ｐｐｍ）　　　　　５００
【図面の簡単な説明】
添付図面は、高温直接塩素化（ＨＴＤＣ）反応器の一態
様である代表的な沸騰型反応器及び生成物塔、並びに冷
却され、ベントガスコンプレッサーにより圧縮された後
オキソ反応器へ循環される生成物塔ベントガスを生ずる
上記各装置からの流出液の流れの関係を示した簡略系統
工程図である。 １０・・・沸騰型反応器、 ２０・・・生成物塔、 ３０・・・凝縮器、 ４０・・・凝縮液タンク、 ４５・・・ブライン凝縮器、 ５０・・・塩化水素凝縮器、 ５２・・・ベントノソクアウトボソト、６０・・・ベン
トコンプレッサー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、エチレンの１，２−ジクロロエタンあるいは二塩化
    エチレン（ＥＤＣ）への転化用高温直接塩素化（ＨＴＤ
    Ｃ）反応器からベントされ、ＥＤＣ製造用オキシクロリ
    ネーション反応器に循環されるベントガス中に含まれる
    水分に起因する腐食を、最少限に抑制する方法であって
    、該方法が、（イ）供給塩素に対して１００ｐｐｍ〜約
    １重量％の範囲の水分を含有する湿潤塩素を、大気圧以
    上の圧力下、約５０℃以上の温度で、液状の塩素化炭化
    水素媒体中で、化学量論量以上のエチレンと反応させ、
    ＨＴＤＣ反応器からの排出物中にＥＤＣ生成物を生成さ
    せ、 （ロ）気液分離手段中にて、ＨＴＤＣからの排出物中の
    高沸点成分から、ＥＤＣ生成物を分離し、（ハ）該分離
    手段からの塔頂留出物を、塔頂留出物ドラム中で、ＥＤ
    Ｃの大部分が凝縮し、且つ窒素、エチレン、塩素、塩化
    水素及びベント流の重量当たり１．５重量％未満の水分
    から実質的になるベント流がベントするように凝縮し、 （ニ）該ベント流を約−３０℃〜０℃の範囲の温度に冷
    却して、ベント流中の凝縮性成分を凝縮させ且つ水を氷
    結させ、 （ホ）該水及び凝縮性成分を、氷で管路を閉塞すること
    なく、窒素、塩素、エチレン及び塩化水素等の非凝縮性
    成分から分離し、且つ （ヘ）実質的に水を含有しない該非凝縮性成分を、該オ
    キシクロリネーション反応器中へ循環する、以上の工程
    を包含することにより、循環管路及び装置中に存在する
    水に起因する腐食を最少限に抑制することを特徴とする
    、ＨＴＤＣからのベントガス中に含有される水分に起因
    する腐食を最少限に抑制する方法。 ２、該気液分離手段が、生成物蒸留塔である特許請求の
    範囲第１項に記載の方法。 ３、該ＨＴＤＣが、約大気圧〜約２５ｐｓｉｇの範囲の
    圧力で運転する沸騰型反応器であり、且つ該排出物が、
    該反応器から流出する塔頂留出蒸気である特許請求の範
    囲第２項に記載の方法。 ４、該ＨＴＤＣが、約大気圧〜約２００ｐｓｉｇの範囲
    の圧力で運転する非沸騰型反応器であり、且つ該排出物
    が、該反応器からの側流である特許請求の範囲第２項に
    記載の方法。 ５、該ベント流中の水含量が、８００ｐｐｍ未満である
    特許請求の範囲第２項に記載の方法。 ６、該ベント流が、約７０°Ｆ〜約１３０°Ｆの温度範
    囲で、塔頂留出物凝縮器からの非凝縮性塔頂留出ガスと
    塔頂留出物凝縮物ドラムからの非凝縮性塔頂留出ガスと
    の混合物を含み、且つ該ベント流を、非凝縮性成分が約
    ２０°Ｆ〜約６０°Ｆの範囲の温度で放出される第１段
    と非凝縮性成分が約−６０゜Ｆ〜約−１０゜Ｆの範囲の
    温度で放出される第２段の２段階で凝縮する特許請求の
    範囲第５項に記載の方法。
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