JPH01113939A - 光ディスク用金型製造方法 - Google Patents
光ディスク用金型製造方法Info
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- JPH01113939A JPH01113939A JP27226987A JP27226987A JPH01113939A JP H01113939 A JPH01113939 A JP H01113939A JP 27226987 A JP27226987 A JP 27226987A JP 27226987 A JP27226987 A JP 27226987A JP H01113939 A JPH01113939 A JP H01113939A
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- nickel
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- optical disk
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- nickel plating
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク用金型製造方法に関する。
従来の光ディスク用金型製造方法は、第２図（ａ）に示
すようにガラス基板１１の上にフォトレジスト１２を用
いて形成された光ディスク原盤１の上に導電膜２を被着
し、これを陰極として、ニッケル電鋳を行ない、ニッケ
ル電鋳層３にパターンを転写する。次に第２図（ｂ）に
示すようにニッケル電鋳層３の裏面を研摩して裏面の面
粗度と板厚を調整し、更に内外径を所定の寸法に加工し
て、射出成形用のスタンバとしていた。
すようにガラス基板１１の上にフォトレジスト１２を用
いて形成された光ディスク原盤１の上に導電膜２を被着
し、これを陰極として、ニッケル電鋳を行ない、ニッケ
ル電鋳層３にパターンを転写する。次に第２図（ｂ）に
示すようにニッケル電鋳層３の裏面を研摩して裏面の面
粗度と板厚を調整し、更に内外径を所定の寸法に加工し
て、射出成形用のスタンバとしていた。
しかしながら、このような上述した従来の光ディスク用
金型製造方法は、ニッケルの電鋳浴として内部応力の小
さなスルファミン酸ニッケル浴が一般的に使用されてい
る。スルファミン酸ニッケル浴による電鋳では裏面の面
粗度は最大粗さで３μｍ以上となり、射出成形用のスタ
ンパとしては裏面を研摩して面粗度を小さくする必要が
ある。
金型製造方法は、ニッケルの電鋳浴として内部応力の小
さなスルファミン酸ニッケル浴が一般的に使用されてい
る。スルファミン酸ニッケル浴による電鋳では裏面の面
粗度は最大粗さで３μｍ以上となり、射出成形用のスタ
ンパとしては裏面を研摩して面粗度を小さくする必要が
ある。
すなわち、従来の光ディスク用金型製造方法は電鋳にお
けるニッケル板厚の制御が可能であるにもかかわらず、
面粗度のために厚目に電鋳し、これを研摩によって面粗
度を最大粗さで０．３μｍ以下あるいは０．１μｍ以下
に仕上げ、更に所定の板厚に仕上げる必要がある。この
ため工程が多くなるという欠点や研摩尖程によって、グ
ループ等のパターンが形成され÷面の欠陥を増加させる
という欠点があった。
けるニッケル板厚の制御が可能であるにもかかわらず、
面粗度のために厚目に電鋳し、これを研摩によって面粗
度を最大粗さで０．３μｍ以下あるいは０．１μｍ以下
に仕上げ、更に所定の板厚に仕上げる必要がある。この
ため工程が多くなるという欠点や研摩尖程によって、グ
ループ等のパターンが形成され÷面の欠陥を増加させる
という欠点があった。
本発明の光ディスク用金型製造方法は、無光沢ニッケル
めっき浴による電鋳をした後、その上に光沢ニッケルめ
っきを施すことを含んで構成される。
めっき浴による電鋳をした後、その上に光沢ニッケルめ
っきを施すことを含んで構成される。
光沢めっきには、半光沢めっきを含んでいるが、これら
のめっき浴には、レベリング作用を有するクマリン、２
ブチン−１，４ジオール、チオ尿素などのレベラーが添
加されている。
のめっき浴には、レベリング作用を有するクマリン、２
ブチン−１，４ジオール、チオ尿素などのレベラーが添
加されている。
無光沢ニッケルめっき浴によって形成される電鋳面の面
粗度を光沢めっき浴のレベリング作用により平滑化し、
裏面研摩なしでスタンパとして使用可能とするものであ
る。
粗度を光沢めっき浴のレベリング作用により平滑化し、
裏面研摩なしでスタンパとして使用可能とするものであ
る。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図である。
なお、寸法は説明をわかりやすくするために尺度を部分
的に変えである。
的に変えである。
第１図に示す光ディスク用金型製造方法において、ガラ
ス基板１１上にフォトレジスト１２を使用して形成され
たガラス製の光ディスク原盤１の上にニッケルをスパッ
タによってコーティングし、導電膜２を形成する。
ス基板１１上にフォトレジスト１２を使用して形成され
たガラス製の光ディスク原盤１の上にニッケルをスパッ
タによってコーティングし、導電膜２を形成する。
次に、スルファミン酸ニッケル浴を用いて！鋳し、厚さ
２４３μｍのニッケル電鋳層３を形成する。
２４３μｍのニッケル電鋳層３を形成する。
次に、サッカリンと２ブチン−１，４ジオールを含む光
沢ニッケルめっき浴中で更に７μｍの光沢ニッケルめっ
き層４を形成する。
沢ニッケルめっき浴中で更に７μｍの光沢ニッケルめっ
き層４を形成する。
この光沢めっき浴のレベリング作用により裏面が平滑化
され面粗度は０．３μｍ以下になる。
され面粗度は０．３μｍ以下になる。
従って、この後、裏面を研摩することなしに、内外径を
所定の寸法に打抜きによって仕上げることにより、厚さ
２５０μｍのスタンパが製造できる。
所定の寸法に打抜きによって仕上げることにより、厚さ
２５０μｍのスタンパが製造できる。
なお、上述の実施例においては７μｍの光沢ニッケルめ
っき層を形成したが、レベリング作用によりその厚さ廻
′変更することが可能である。
っき層を形成したが、レベリング作用によりその厚さ廻
′変更することが可能である。
、＾１
〔発明の効果〕
本発明の光ディスク用金型製造方法は、ニッケルの電鋳
層の上に光沢ニッケルめっきを行うことにより、研摩工
程を省略できるのみならず欠陥の増加をも防止できると
いう効果がある。
層の上に光沢ニッケルめっきを行うことにより、研摩工
程を省略できるのみならず欠陥の増加をも防止できると
いう効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図（ａ）
、 （ｂ）はそれぞれ従来の一例を示す断面図である。 なお、寸法は部分的に尺度を変えて示している。 １・・・・・・光ディスク原盤、２・・・・・・導電膜
、３・・・・・・ニッケル電鋳層、４・・・・・・光沢
ニッケルめっき層、１１・・・・・・ガラス基板、１２
・・・・・・フォトレジスト。 代理人 弁理士 内 原 晋 第１図 ＜ｂ） 第２図
、 （ｂ）はそれぞれ従来の一例を示す断面図である。 なお、寸法は部分的に尺度を変えて示している。 １・・・・・・光ディスク原盤、２・・・・・・導電膜
、３・・・・・・ニッケル電鋳層、４・・・・・・光沢
ニッケルめっき層、１１・・・・・・ガラス基板、１２
・・・・・・フォトレジスト。 代理人 弁理士 内 原 晋 第１図 ＜ｂ） 第２図
Claims (1)
- ガラス基板上に形成された光ディスク原盤に、無光沢ニ
ッケルめっき浴による電鋳を行なった後、その上に光沢
ニッケルめっきを施すことを特徴とする光ディスク用金
型製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27226987A JPH01113939A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 光ディスク用金型製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27226987A JPH01113939A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 光ディスク用金型製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01113939A true JPH01113939A (ja) | 1989-05-02 |
Family
ID=17511494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27226987A Pending JPH01113939A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | 光ディスク用金型製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01113939A (ja) |
-
1987
- 1987-10-27 JP JP27226987A patent/JPH01113939A/ja active Pending
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